CN102107280A - 喷射成形沉积室压力控制及过喷粉末收集系统 - Google Patents

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张豪
张捷
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Abstract

本发明属于金属材料的制造技术,涉及喷射成形设备的系统设置和控制方法,具体是一种喷射成形沉积室压力控制及过喷粉末收集系统。它包括有沉积室、向沉积室内喷射液态金属材料和惰性气体的雾化喷嘴,所述沉积室的底部出口通入到若干个集粉箱中,集粉箱的出口通过排风管道与排风机连接,排风管道中段经过一个可分离过喷粉末的旋风除尘器;所述排风机由变频电机驱动;所述沉积室的室壁上安装有可检测室内外压差的微压差传感器,微压差传感器的检测信号输出到一个PLC控制器,PLC控制器的控制指令可输出到上述变频电机的控制部分,以控制电机转速。本发明可对沉积室内的压力进行精确控制,减少了材料浪费、降低了排气污染、提高了设备部件的利用率。

Description

喷射成形沉积室压力控制及过喷粉末收集系统
技术领域
本发明属于金属材料的制造技术,涉及喷射成形设备的系统设置和控制方法,具体是一种喷射成形沉积室压力控制及过喷粉末收集系统。
背景技术
喷射成形技术是制备快速凝固材料的一种先进制造技术,可以在一道工序中制造近终形和复合产品,其设备通常包括沉积室及位于沉积室内的沉积基底和雾化喷嘴。在生产过程中,沉积基底不断旋转,雾化器在从沉积基底中心至边缘的半径范围内做往复扫描喷射运动,使材料沉积生长形成圆柱状锭坯。设备运行中,随喷射材料进入沉积室的惰性气体使沉积室处于微正压的惰性环境,可以防止外部空气进入,避免了材料在成形过程中被氧化。而沉积室的排风通常采用常规的排风方式,一方面无法对沉积室内的压力进行精确控制,无法满足较高的生产工艺要求,另一方面生产过程中喷射材料未完全沉积而形成的过喷粉末也会随排风系统排放,不仅造成材料浪费,也会对环境带来消极影响。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是,提供一种能够对喷射成形设备的沉积室压力进行精确控制、同时能够对过喷粉末进行回收利用的喷射成形沉积室压力控制及过喷粉末收集系统。
本发明的喷射成形沉积室压力控制及过喷粉末收集系统包括有沉积室、向沉积室内喷射液态金属材料和惰性气体的雾化喷嘴,所述沉积室的底部出口通入到若干个集粉箱中,集粉箱的出口通过排风管道与排风机连接,排风管道中段经过一个可分离过喷粉末的旋风除尘器;所述排风机由变频电机驱动;所述沉积室的室壁上安装有可检测室内外压差的微压差传感器,微压差传感器的检测信号输出到一个PLC控制器,PLC控制器的控制指令可输出到上述变频电机的控制部分,以控制电机转速。
本发明的有益效果体现在:1、通过PLC对变频电机的控制,可以调节排风速度,从而对沉积室内的压力进行精确控制,有利于形成较佳的成形工艺条件;2、通过设置集粉箱和旋风除尘器,可以对过喷粉末进行二次收集再利用,减少了材料浪费、降低了排气污染;3、通过设置中间的集粉箱,使得排风和粉料收集的过程与压力调节过程有机地结合,提高了设备部件的利用率,也简化了结构。
附图说明
图1是本发明的结构示意图。
具体实施方式
如图所示,该喷射成形沉积室压力控制及过喷粉末收集系统包括有沉积室1、向沉积室内喷射液态金属材料和惰性气体的雾化喷嘴2,沉积室的底部出口通入到若干个集粉箱3中,集粉箱的出口通过排风管道4与排风机5连接,排风管道中段经过一个可分离过喷粉末的旋风除尘器6;所述排风机由变频电机7驱动;所述沉积室的室壁上安装有可检测室内外压差的微压差传感器8,微压差传感器的检测信号输出到一个PLC控制器9,PLC控制器的控制指令可输出到上述变频电机的控制部分,以控制电机转速。运行过程中,由微压差传感器实时检测沉积室内外的压差,并将检测信号输入PLC,经PLC处理判断后,向变频电机发出控制指令,实时控制排风机的转速,以调节沉积室内压力。

Claims (1)

1.一种喷射成形沉积室压力控制及过喷粉末收集系统,包括有沉积室(1)、向沉积室内喷射液态金属材料和惰性气体的雾化喷嘴(2),其特征是:沉积室的底部出口通入到若干个集粉箱(3)中,集粉箱的出口通过排风管道(4)与排风机(5)连接,排风管道中段经过一个可分离过喷粉末的旋风除尘器(6);所述排风机由变频电机(7)驱动;所述沉积室的室壁上安装有可检测室内外压差的微压差传感器(8),微压差传感器的检测信号输出到一个PLC控制器(9),PLC控制器的控制指令可输出到上述变频电机(7)的控制部分,以控制电机转速。
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PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

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