CN102078846A - 分配器设备及其控制方法 - Google Patents

分配器设备及其控制方法 Download PDF

Info

Publication number
CN102078846A
CN102078846A CN2010105683482A CN201010568348A CN102078846A CN 102078846 A CN102078846 A CN 102078846A CN 2010105683482 A CN2010105683482 A CN 2010105683482A CN 201010568348 A CN201010568348 A CN 201010568348A CN 102078846 A CN102078846 A CN 102078846A
Authority
CN
China
Prior art keywords
unit
substrate
nozzle
exhaust unit
dispenser device
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN2010105683482A
Other languages
English (en)
Other versions
CN102078846B (zh
Inventor
崔锺权
崔文基
黄世翰
丁玄晟
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
AP Systems Inc
AP Cells Inc
Original Assignee
AP Cells Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by AP Cells Inc filed Critical AP Cells Inc
Publication of CN102078846A publication Critical patent/CN102078846A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN102078846B publication Critical patent/CN102078846B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C5/00—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
    • B05C5/02—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work the liquid or other fluent material being discharged through an outlet orifice by pressure, e.g. from an outlet device in contact or almost in contact, with the work
    • B05C5/0225—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work the liquid or other fluent material being discharged through an outlet orifice by pressure, e.g. from an outlet device in contact or almost in contact, with the work characterised by flow controlling means, e.g. valves, located proximate the outlet
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C11/00—Component parts, details or accessories not specifically provided for in groups B05C1/00 - B05C9/00
    • B05C11/10—Storage, supply or control of liquid or other fluent material; Recovery of excess liquid or other fluent material
    • B05C11/1002—Means for controlling supply, i.e. flow or pressure, of liquid or other fluent material to the applying apparatus, e.g. valves
    • B05C11/1015—Means for controlling supply, i.e. flow or pressure, of liquid or other fluent material to the applying apparatus, e.g. valves responsive to a conditions of ambient medium or target, e.g. humidity, temperature ; responsive to position or movement of the coating head relative to the target
    • B05C11/1018—Means for controlling supply, i.e. flow or pressure, of liquid or other fluent material to the applying apparatus, e.g. valves responsive to a conditions of ambient medium or target, e.g. humidity, temperature ; responsive to position or movement of the coating head relative to the target responsive to distance of target
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements

Abstract

提供一种分配器设备及其控制方法。该分配器设备包含：排放单元，其包括用于将源材料排放到衬底上的喷嘴；间隙传感器，用于测量所述排放单元的喷嘴与所述衬底之间的间隙；支撑单元，其具有上面安装有所述排放单元的一个侧面和上面安装有所述间隙传感器的另一侧面；滑动单元，安置于所述支撑单元与所述排放单元之间，以通过所述排放单元的喷嘴与衬底碰撞时发生的反作用而抬升所述排放单元；以及头块，其包括位移检测单元，用于检测借助所述滑动单元而上升的所述排放单元的移动。因此，当排放单元的喷嘴与衬底碰撞时，连接到排放单元的滑动部件通过所述反作用而操作。排放单元通过所述滑动部件的操作而抬升，且排放单元的移动被位移检测单元检测。

Description

分配器设备及其控制方法
技术领域
本发明涉及一种分配器设备及其控制方法，且更确切地说，本发明涉及一种间隙传感器(gap sensor)的测量参考点(measurement reference point)较容易设置的分配器设备及其控制方法。
背景技术
已将阴极射线管(cathode ray tube，CRT)用作现有技术的显示装置。然而，存在以下限制：CRT较为庞大且笨重。最近，例如液晶显示装置(liquid crystal display device，LCD)、等离子体显示面板(plasma display panel，PDP)以及有机发光装置(organic light emitting device，OLED)等平板显示器(flat panel display，FPD)被广泛用作显示装置。FPD具有重量轻、外形薄和功耗低的特征。
在此类FPD的情况下，一对平坦型衬底(substrate)彼此结合。也就是说，制造包含液晶显示面板的彩色滤光片(color filter)和共用电极(common electrode)的下部衬底和上部衬底。此后，将由金属膏(metal paste)形成的图案形成于上部和下部衬底中的至少一者上，以将上部衬底电连接到下部衬底。
分配器设备是用于将金属膏涂覆到上部和下部衬底中的一者或两者上的涂覆设备(coating apparatus)，其包含：平台(stage)，其上安放有衬底；分配器，其包含用于将源材料(例如，金属膏)排放到安放于所述平台上的衬底上的喷嘴；传感器，其用于测量衬底与喷嘴之间的间隙；驱动单元，其用于抬升所述分配器；传送单元，其用于水平移动分配器；以及控制单元，其用于控制分配器的操作。
首先，根据现有技术的分配器设备，使用传感器来测量衬底与喷嘴之间的间隙，以将金属膏涂覆到衬底上。接着，分配器使用驱动单元以根据测量到的值而上升或下降，以调整衬底与喷嘴之间的间隙。此处，间隙传感器的测量参考点应为衬底的顶部表面，以准确地测量衬底与喷嘴之间的间隙。为此，在现有技术中，将接触传感器(touch sensor)安置于与衬底的高度相等的高度处。而且，当分配器下降以准许喷嘴的端部接触所述接触传感器时，用于告知喷嘴与接触传感器的接触的信号被发射到间隙传感器。此处，在间隙传感器中，依据所发射的信号而将衬底的顶部表面设置为测量参考点。因此，当经由间隙传感器来控制衬底与喷嘴之间的间隙时，可将衬底的顶部表面设置为用于测量衬底与喷嘴之间的间隙的参考点。然而，当喷嘴的端部接触所述接触传感器时，留在喷嘴中的源材料粘附到接触传感器。当源材料粘附到接触传感器时，由于会发生测量误差，所以应清洁该接触传感器。通常，使用例如丙醇(acetone)等清洁材料来清洁该接触传感器。然而，在此情况下存在以下限制：该接触传感器被清洁材料损坏。因此，由于难以准确地测量该衬底与喷嘴之间的间隙，所以可能会发生多种装置缺陷。
发明内容
本发明提供一种分配器设备，其中排放单元(discharge unit)通过排放单元的喷嘴与衬底碰撞(collide)时发生的反作用而抬升，且位移检测单元(displacement detection unit)检测该排放单元的移动，以顺利地设置间隙传感器的参考点。本发明还提供一种将源材料稳定地涂覆在衬底上的分配器设备及其控制方法。
根据示范性实施例，一种分配器设备包含：排放单元，其包含用于将源材料排放到衬底上的喷嘴；间隙传感器，用于测量排放单元的喷嘴与衬底之间的间隙；支撑单元(support unit)，其具有上面安装有排放单元的一个侧面和上面安装有间隙传感器的另一侧面；滑动单元(slide unit)，其安置于支撑单元与排放单元之间，以通过排放单元的喷嘴与衬底碰撞时发生的反作用而抬升该排放单元；以及头块(head block)，其包含位移检测单元，用于检测借助滑动单元而上升的排放单元的移动。
排放单元可包含：注射器(syringe)，其储存源材料；喷嘴，其连接到注射器以将源材料排放到衬底上；以及固定单元(fixing unit)，注射器和喷嘴固定到所述固定单元。
在可安置排放单元的方向上突出的止动件(stopper)安置于支撑单元上。
固定单元可包含突起(protrusion)，所述突起的一部分在安置止动件的方向上突出，且所述突起可安置于止动件上方。
滑动单元可安置于止动件下方。
可将线性运动(linear motion，LM)导引件(guide)用作滑动单元。
可将线性编码器(linear encoder)用作位移检测单元。
位移检测单元可包含安装于固定单元上的位移传感器(displacement sensor)和安装于支撑单元上以面向位移传感器的标尺(scale)。
可使位移传感器与排放单元一起移动。
位移检测单元和间隙传感器可以信号的方式彼此连接。
排放单元的上升可被位移检测单元检测到，且可将位移检测单元检测到的信号发射到间隙传感器中。
可依据从间隙传感器中的位移检测单元发射的信号将衬底的顶部表面设置为测量参考点。
在经由喷嘴将源材料排放到衬底上的过程期间，可通过喷嘴的端部与衬底的顶部表面碰撞时发生的反作用来操作滑动单元，以抬升排放单元。
分配器设备可进一步包含用于抬升整个头块的驱动单元。
排放单元可因排放单元的喷嘴与衬底碰撞时发生的反作用而借助滑动单元的操作而上升。
根据另一示范性实施例，一种用于控制包含以下部分的分配器设备的方法：排放单元，其包含用于将源材料排放到衬底上的喷嘴；间隙传感器，其用于测量排放单元的喷嘴与衬底之间的间隙；滑动单元，其通过喷嘴与衬底碰撞时发生的反作用而抬升排放单元；头块，其包含位移检测单元，用于检测借助滑动单元而上升的排放单元的移动；以及驱动单元，其用于抬升头块，所述方法包含：使用驱动单元使头块下降，以准许排放单元的喷嘴的端部与衬底碰撞；通过排放单元的喷嘴的端部与衬底碰撞时发生的反作用而操作该滑动单元以抬升排放单元；经由位移检测单元来检测排放单元的上升移动；以及将所检测的排放单元的上升移动信号发射到间隙传感器中，且在经由位移检测单元检测到排放单元的上升移动时，设置用于测量衬底与间隙传感器中的喷嘴之间的间隙的测量参考点。
在通过排放单元的喷嘴的端部与衬底碰撞时发生的反作用来操作滑动单元以抬升排放单元期间，只能抬升排放单元。
可依据从间隙传感器中的位移检测单元发射的信号而将衬底的顶部表面设置为测量参考点。
所述用于控制分配器设备的方法进一步包含：在设置间隙传感器的测量参考点之后，通过使用驱动单元使整个头块上升或下降来调整喷嘴与衬底之间的间隙。
所述用于控制分配器设备的方法进一步包含：在调整喷嘴与衬底之间的间隙之后，使用喷嘴将源材料涂覆到衬底上，其中在经由喷嘴而将源材料排放到衬底上的过程期间，可通过排放单元的喷嘴的端部与衬底碰撞时发生的反作用来操作滑动单元以抬升排放单元。
附图说明
从结合附图进行的以下描述可更详细地理解示范性实施例，其中：
图1为根据示范性实施例的分配器设备的示意图。
图2为根据示范性实施例的分配器的截面图。
图3A至图3D为说明用于在根据示范性实施例而设置分配器设备的间隙传感器的测量参考点的情况下，测量衬底与喷嘴之间的间隙的过程的截面图。
具体实施方式
在下文中，将参考各附图详细描述具体实施例。然而，本发明可能会以不同的形式体现，且不应被解释为限于本文所陈述的实施例。相反，提供这些实施例是为了使本发明将全面且完整，且将向所属领域的技术人员充分地传达本发明的范围。在图中，相同的参考标号始终代表相同的元件。
图1为根据示范性实施例的分配器设备的示意图。图2为根据示范性实施例的分配器的截面图。
参考图1和图2，分配器设备包含：平台1000，其上面安放有衬底100；分配器2000，其包含用于将源材料排放到安放于平台1000上的衬底100上的喷嘴2112；传送单元300，其水平地传送分配器2000和平台1000；以及控制单元400，其用于控制分配器2000的操作。在本实施例中，将金属膏用作涂覆材料。然而，本发明并不限于此。举例来说，可使用各种涂覆材料。
平台1000可具有对应于衬底100的形状的形状以将衬底100安放在其上。在本实施例中，衬底100可具有正方形形状。因此，平台1000也可具有正方形形状。尽管未显示，但可将用于安放衬底100的单独安放单元安置于平台1000上。此处，可将静电夹盘(electrostatic chuck)或真空固定装置(vacuum fixing devic)用作安放单元。当将真空固定装置用作安放单元时，可在平台1000的上部部分中界定与真空泵(vacuum pump)连通的多个孔(hole)。因此，可使安放于平台1000上的衬底100固定。
根据所述实施例的衬底可为用于液晶显示面板的上部衬底100和下部衬底100中的一者。此处，尽管未显示，但彩色滤光片和共用电极可安置于上部衬底上，且多个薄膜晶体管(thin film transistor)和像素电极(pixel electrode)可安置于下部衬底100上。而且，液晶可掉落到上部和下部衬底100中的一者上。此后，使用根据所述实施例的分配器设备将用于使上部衬底100电连接到下部衬底100的金属膏涂覆在上部和下部衬底100中的至少一者上。
分配器2000借助传送单元300而在X轴或Y轴方向上移动，以将源材料(例如，金属膏)涂覆到衬底100上。此处，传送单元300使用电动机(motor)和轨道(rail)而在X轴或Y轴方向上移动分配器2000。或者，可使用各种单元来移动该分配器2000。而且，尽管在本实施例中在X轴或Y轴方向上水平移动分配器2000，但本发明并不限于此。举例来说，可在X轴或Y轴方向上移动平台1000以将源材料涂覆到衬底100上。或者，可在X轴或Y轴方向上移动所有的平台1000和分配器2000以涂覆源材料。而且，可在一个轴方向上移动平台1000，且可在另一个轴方向上移动分配器2000以涂覆源材料。
参考图2，分配器2000包含：头块2100，其用于将源材料涂覆到衬底100上；以及驱动单元2200，其用于抬升头块2100。此处，分配器2000可进一步包含：排放单元2110，其包含用于将源材料排放到衬底100上的喷嘴2112；间隙传感器，其用于测量喷嘴2112与衬底100之间的间隙；支撑单元2130，其具有上面安装有排放单元2110的一个侧面和上面安装有间隙传感器2120的另一侧面，且以在垂直方向上延伸的形状而制成；滑动单元2140，其安置于支撑单元2130与排放单元2110之间以垂直滑动排放单元2110；以及位移检测单元2150，其安置于排放单元2110的上方以检测排放单元2110的移动。此处，通过排放单元2110的喷嘴2112与衬底100碰撞时发生的反作用来操作根据所述实施例的滑动单元2140以抬升排放单元2110。而且，止动件2132在安置排放单元2110的方向上安置于支撑单元2130的一端上。止动件2132限制排放单元2110的下降。
排放单元2110包含：注射器2111，其中储存金属膏；喷嘴2112，其安置于注射器2111的下方以将储存于注射器2111中的源材料排放到衬底100上；以及固定单元2113，注射器2111和喷嘴固定于其上。此处，排放单元2110的喷嘴2112以及注射器2111可以可拆卸的方式而安置于固定单元2113上，以准许更换喷嘴2112和注射器2111。而且，固定单元2113包含：直线单元(straight line unit)2113a，其在垂直方向上延伸；第一突起2113b，其安置于直线单元2113a的上方以在止动件2132的方向上突出；以及第二突起2113c，其安置于直线单元2113a的下方以在与第一突起2113b的方向相对的方向上突出。此处，可安置排放单元2110，使得第一突起2113b安置于止动件2132的上方。而且，可将注射器2111和喷嘴2112安置于第二突起2113c上。由于止动件2132对应于固定单元2113的第一突起2113b的下侧而安置，所以归因于排放单元2110的上升或下降，固定单元2113的第一突起的下部部分可接触止动件2132的上部部分或与止动件2132的上部部分分离。因此，止动件2132限制了第一突起2113b的下降。
间隙传感器2120测量该衬底100与喷嘴2112之间相隔开的距离。头块2100经由驱动单元2200以基于所测得的结果而垂直地移动，以恒定地维持衬底100与喷嘴2112之间的间隙。举例来说，可将使用激光(laser)的距离测量传感器(distance measurement sensor)用作间隙传感器2120。尽管在本实施例中未显示，但间隙传感器2120包含：发光单元(light emitting unit)(未图示)，其发出用于测量距衬底100的距离的光，以及光接收装置(light receiving unit)(未图示)，其接收从发光单元发出的光。此处，可将发光单元(未图示)和光接收单元(未图示)集成到一个主体中且彼此间隔开一预定距离。为了使用间隙传感器2120来准确地测量喷嘴2112与衬底100之间的间隙，首先，应将衬底100的顶部表面设置为参考点。也就是说，应通过将衬底100的顶部表面用作参考点来测量从衬底100的顶部表面到喷嘴2112所间隔的距离。这得以实现是因为涂覆在衬底100上的源材料具有图案形状和宽度，所述图案形状和宽度根据喷嘴2112与衬底100之间的间隙而变化。
当排放单元2110的喷嘴2112的端部与衬底100的顶部表面碰撞时，滑动单元2140抬升排放单元2110。也就是说，当喷嘴2112的端部与衬底100的顶部表面碰撞时，通过此二者之间的反作用来操作已与排放单元2110相接触的滑动单元2140，以抬升排放单元2110。也就是说，在本实施例中，由于当喷嘴2112的端部与衬底100碰撞时排放单元2110使用滑动单元2140而上升，所以检测到衬底100的顶部表面的位置，其成为间隙传感器2120的测量参考点。滑动单元2140经安置以将支撑单元2130连接到排放单元2110的固定单元2113。此处，可将滑动单元2140安置于支撑单元2130的止动件2132的下方。在本实施例中，可将线性运动(LM)导引件用作滑动单元2140，但并不限于此。举例来说，当喷嘴2112的端部与衬底100的顶部表面碰撞时发生的力可被一种单元用来在相对方向上抬升该排放单元2110，则任一此种单元可用作滑动单元2140。
当该排放单元2110的喷嘴2112的端部与衬底100的顶部表面碰撞时，位移检测单元2150可检测借助滑动单元2140而上升的该排放单元2110的移动，以顺利地设置间隙传感器2120的参考点。在本实施例中，可将使用电特征或光学特征来测量位置值的线性编码器用作位移检测单元2150，但并不限于此。举例来说，可将可检测排放单元2110的移动的任一单元用作位移检测单元2150。位移检测单元2150包含：位移传感器2151，其安装于排放单元2110的固定单元2113上；以及标尺2152，其安装于支撑单元2130上以面向位移传感器2151。在本实施例中，可将线性头状物(linear head)用作位移传感器2151。位移检测单元2150以信号的方式而连接到间隙传感器2120，且将位移检测单元2150所检测到的信号发射到间隙传感器2120中。因此，当因喷嘴2112的端部与衬底100的顶部表面的碰撞而借助滑动单元2140而上升/下降的排放单元2110的移动被位移检测单元2150检测到时，检测到的信号被发射到间隙传感器2120中。因此，可将衬底100的顶部表面设置为间隙传感器2120中的参考点。
图3A到图3D为说明用于在根据示范性实施例而设置分配器设备的间隙传感器的测量参考点的情况下，测量衬底与喷嘴之间的间隙的过程的截面图。在下文中，将参考图3A到图3D来描述用于在间隙传感器的测量参考点是使用根据示范性实施例的分配器设备来设置的情况下，测量衬底与喷嘴之间的间隙的方法。
参考图3A，整个头块2100使用驱动单元2200而下降。此处，如图3B所示，头块2100可下降直到排放单元2110的喷嘴2112的端部接触衬底100的顶部表面为止。当头块下降以准许喷嘴2112的端部接触衬底100的顶部表面时，连接到排放单元2110的滑动单元2140通过喷嘴2112与衬底100之间的反作用而操作。而且，驱动单元2200的操作终止。因此，如图3C所示，排放单元2110通过滑动单元2140的操作而上升。此处，支撑排放单元2110的支撑单元2130并不上升，而是仅排放单元2110借助滑动单元2140而上升。由于排放单元2110上升，所以固定单元2113的第一突起2113b的下部部分与止动件2132的上部部分分离。此处，由于位移检测单元2150的位移传感器2151安置于排放单元2110上，所以位移传感器也上升。位移传感器2151读取面向位移传感器2151的标尺的刻度，同时位移传感器2151上升以将所读取的刻度作为距离单位来计算，进而检测排放单元2110的上升移动。简要地描述来说，排放单元2110和位移传感器2151因喷嘴与衬底100之间的碰撞而借助滑动单元2140而上升。因此，在喷嘴2112的端部与衬底100碰撞之前的位移传感器2151的位置和在喷嘴2112的端部与衬底100碰撞之后的位移传感器2151的位置是彼此不同的。因此，检测其中位移传感器2151从其原始位置(在喷嘴2112的端部与衬底100碰撞之前位移传感器2151的标尺2152的位置)偏离的状态来检测排放单元2110的移动。此处，由于排放单元2110的上升代表喷嘴2112的端部与衬底100之间的接触，所以排放单元2110的上升起始点(ascent starting point)代表衬底100的顶部表面，所述顶部表面为测量参考点。将位移检测单元2150所检测到的排放单元2110的上升移动信号发射到间隙传感器2120中。而且，在间隙传感器2120中，可依据所发射的信号而将衬底100的顶部表面设置为测量参考点。因此，当经由间隙传感器2120而控制衬底100与喷嘴2112之间的间隙时，可顺利地将衬底100的顶部表面设置为用于测量衬底100与喷嘴2112之间的间隙的参考点。
参考图3D，使用间隙传感器2120来调整衬底100与喷嘴2112之间的间隙。也就是说，将光从间隙传感器2120照射到衬底100上，以测量衬底100与喷嘴2112之间的间隙。此处，由于间隙传感器2120的测量参考点是经由上述方法而设置，所以可准确地测量从衬底100的顶部表面到喷嘴2112所间隔的距离。因此，可准确地测量喷嘴2112与衬底100之间的间隙。
尽管未显示，但在将源材料涂覆在衬底100上的过程期间，可防止衬底100被喷嘴2112的端部刮擦。也就是说，当在经由喷嘴2112将源材料涂覆在衬底100上的同时该喷嘴2112的端部与衬底100的顶部表面因分配器设备的误差而碰撞时，排放单元2110借助滑动单元2140而上升或下降。而且，分配器设备的操作终止以停止涂覆过程。因此，由于在涂覆过程期间，可防止在喷嘴2112的端部接触衬底100的顶部表面的情况下执行所述过程，所以可防止衬底100被喷嘴2112损坏。
该排放单元2110通过喷嘴2112的端部与衬底100的顶部表面碰撞时发生的反作用而上升的技术并不限于上述分配器设备的结构。举例来说，分配器设备在结构上可以各种方式变化。
如上文所述，在根据本发明的实施例中，当排放单元的喷嘴与衬底碰撞时，连接到排放单元的滑动单元通过喷嘴与衬底之间的反作用而操作。因此，排放单元可借助滑动单元的操作而上升，且排放单元的上升/下降移动可被位移检测单元检测到。接着，将经由位移检测单元检测到的信号发射到间隙传感器中，且间隙传感器依据所发射的信号而将衬底的顶部表面设置为测量参考点。因此，当经由间隙传感器而测量到衬底与喷嘴之间的间隙时，可顺利地将衬底的顶部表面设置为用于测量衬底与喷嘴之间的间隙的参考点。因此，可在不使用现有技术的接触传感器的情况下设置用于测量衬底与喷嘴之间的间隙的参考点。
而且，在将源材料涂覆在衬底上的过程期间，可防止衬底被喷嘴的端部刮擦。也就是说，当在将经由喷嘴将源材料涂覆在衬底上的同时该喷嘴的端部与衬底的顶部表面因分配器设备的误差而碰撞时，排放单元借助滑动单元而上升或下降。而且，分配器设备的操作终止以停止涂覆过程。因此，由于在涂覆过程期间可防止在喷嘴的端部接触衬底100的顶部表面的情况下执行所述过程，所以可防止衬底100被喷嘴损坏。
尽管已参考具体实施例描述了分配器设备及其控制方法，但并不限于此。因此，所属领域的技术人员将容易理解，可在不脱离由所附权利要求书界定的本发明的精神和范围的情况下，对本发明作出各种修改和改变。

Claims (20)

1.一种分配器设备，其中包括：
排放单元，其包括用于将源材料排放到衬底上的喷嘴；
间隙传感器，其用于测量所述排放单元的所述喷嘴与所述衬底之间的间隙；
支撑单元，其具有上面安装有所述排放单元的一个侧面和上面安装有所述间隙传感器的另一侧面；
滑动单元，其安置于所述支撑单元与所述排放单元之间，以通过所述排放单元的所述喷嘴与所述衬底碰撞时发生的反作用而抬升所述排放单元；以及
头块，其包含位移检测单元，用于检测借助所述滑动单元而上升的所述排放单元的移动。
2.根据权利要求1所述的分配器设备，其特征在于所述排放单元包括：注射器，其储存所述源材料；喷嘴，其连接到所述注射器以将所述源材料排放到所述衬底上；以及固定单元，所述注射器和所述喷嘴固定到所述固定单元。
3.根据权利要求1所述的分配器设备，其特征在于在安置所述排放单元的方向上突出的止动件安置于所述支撑单元上。
4.根据权利要求2所述的分配器设备，其特征在于所述固定单元包括突起，所述突起的一部分在安置止动件的方向上突出，且所述突起安置于所述止动件的上方。
5.根据权利要求1所述的分配器设备，其特征在于所述滑动单元安置于所述止动件的下方。
6.根据权利要求1所述的分配器设备，其特征在于将线性运动导引件用作所述滑动单元。
7.根据权利要求1所述的分配器设备，其特征在于将线性编码器用作所述位移检测单元。
8.根据权利要求7所述的分配器设备，其特征在于所述位移检测单元包括安装于所述固定单元上的位移传感器和安装于所述支撑单元上以面向所述位移传感器的标尺。
9.根据权利要求8所述的分配器设备，其特征在于所述位移传感器与所述排放单元一起移动。
10.根据权利要求1所述的分配器设备，其特征在于所述位移检测单元和所述间隙传感器以信号的方式而彼此连接。
11.根据权利要求10所述的分配器设备，其特征在于所述排放单元的上升是由所述位移检测单元来检测，且所述位移检测单元检测到的信号被发射到所述间隙传感器中。
12.根据权利要求11所述的分配器设备，其特征在于所述衬底的顶部表面是依据从所述间隙传感器中的所述位移检测单元发射的信号而被设置为测量参考点。
13.根据权利要求1所述的分配器设备，其特征在于在经由所述喷嘴而将所述源材料排放到所述衬底上的过程期间，通过所述喷嘴的端部与所述衬底的顶部表面碰撞时发生的反作用来操作所述滑动单元以抬升所述排放单元。
14.根据权利要求1所述的分配器设备，其进一步包括用于抬升整个头块的驱动单元。
15.根据权利要求1所述的分配器设备，其特征在于所述排放单元因所述排放单元的所述喷嘴与所述衬底碰撞时发生的所述反作用而借助所述滑动单元的操作而上升。
16.一种用于控制分配器设备的方法，所述分配器设备包括：排放单元，其包括用于将源材料排放到衬底上的喷嘴；间隙传感器，其用于测量所述排放单元的所述喷嘴与所述衬底之间的间隙；滑动单元，其通过所述喷嘴与所述衬底碰撞时发生的反作用而抬升所述排放单元；头块，其包括位移检测单元，用于检测借助所述滑动单元而上升的所述排放单元的移动；以及驱动单元，其用于抬升所述头块，所述方法包括：
使用所述驱动单元使所述头块下降，以准许所述排放单元的所述喷嘴的端部与所述衬底碰撞；
通过所述排放单元的所述喷嘴的所述端部与所述衬底碰撞时发生的所述反作用而操作所述滑动单元以抬升所述排放单元；
经由所述位移检测单元来检测所述排放单元的上升移动；
将所检测的所述排放单元的上升移动信号发射到所述间隙传感器中，且当经由所述位移检测单元检测到所述排放单元的所述上升移动时，在所述间隙传感器中设置用于测量所述衬底与所述喷嘴之间的所述间隙的测量参考点。
17.根据权利要求16所述的方法，其特征在于在通过所述排放单元的所述喷嘴的所述端部与所述衬底碰撞时发生的所述反作用来操作所述滑动单元以抬升所述排放单元的期间，仅抬升所述排放单元。
18.根据权利要求16所述的方法，其特征在于依据从所述间隙传感器中的所述位移检测单元发射的信号而将所述衬底的顶部表面设置为所述测量参考点。
19.根据权利要求16所述的方法，其进一步包括：在设置所述间隙传感器的所述测量参考点之后，通过使用所述驱动单元使所述整个头块上升或下降来调整所述喷嘴与所述衬底之间的所述间隙。
20.根据权利要求19所述的方法，其进一步包括：在调整所述喷嘴与所述衬底之间的所述间隙之后，使用所述喷嘴将所述源材料涂覆到所述衬底上，其特征在于在经由所述喷嘴将所述源材料排放到所述衬底上的过程期间，通过所述排放单元的所述喷嘴的所述端部与所述衬底碰撞时发生的所述反作用来操作所述滑动单元以抬升所述排放单元。
CN201010568348.2A 2009-11-27 2010-11-23 分配器设备及其控制方法 Active CN102078846B (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020090116118A KR101089749B1 (ko) 2009-11-27 2009-11-27 도포장치 및 이의 제어 방법
KR10-2009-0116118 2009-11-27

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN102078846A true CN102078846A (zh) 2011-06-01
CN102078846B CN102078846B (zh) 2014-02-19

Family

ID=44085156

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201010568348.2A Active CN102078846B (zh) 2009-11-27 2010-11-23 分配器设备及其控制方法

Country Status (3)

Country Link
KR (1) KR101089749B1 (zh)
CN (1) CN102078846B (zh)
TW (1) TWI462780B (zh)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104475303A (zh) * 2014-12-30 2015-04-01 合肥京东方光电科技有限公司 一种涂布装置
CN104914597A (zh) * 2014-03-12 2015-09-16 Ap系统股份有限公司 用于防止分配器中的液体凝聚的方法以及设备
CN105363639A (zh) * 2015-09-30 2016-03-02 迈得医疗工业设备股份有限公司 一种医用配件的涂胶装置
CN111822249A (zh) * 2020-07-24 2020-10-27 苏州天准科技股份有限公司 新型点胶装置

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102205083B1 (ko) * 2018-10-16 2021-01-21 주식회사 탑 엔지니어링 디스펜서
KR102218403B1 (ko) * 2019-05-14 2021-02-23 주식회사 탑 엔지니어링 캘리브레이션 시스템 및 모듈레이터의 캘리브레이션 방법

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2000419A (en) * 1934-01-18 1935-05-07 Emery N Sarber Advertising condiment shaker
EP0421792A2 (en) * 1989-10-05 1991-04-10 Taikisha, Ltd. Spray painting apparatus
CN1508594A (zh) * 2002-12-18 2004-06-30 Lg.菲利浦Lcd株式会社 液晶显示面板的分配器及控制基板与喷嘴之间间隙的方法
US20040195400A1 (en) * 2003-02-13 2004-10-07 Anuskiewicz Ronald H. Irrigation sprinkler with easy removal nozzle
CN1847014A (zh) * 2005-04-15 2006-10-18 塔工程有限公司 糊状物分配器及控制糊状物分配器的方法
CN1959505A (zh) * 2005-10-31 2007-05-09 塔工程有限公司 用于糊状物分配器的头部单元
KR100750939B1 (ko) * 2006-10-27 2007-08-22 주식회사 탑 엔지니어링 액정적하장치
CN101063774A (zh) * 2006-05-25 2007-10-31 塔工程有限公司 用于糊状物分配器的分配头单元
CN101067700A (zh) * 2006-06-28 2007-11-07 塔工程有限公司 用于糊状物分配器的分配头单元

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100746305B1 (ko) 2006-08-25 2007-08-03 주식회사 탑 엔지니어링 페이스트 디스펜서의 헤드 유닛
KR100752237B1 (ko) 2006-09-20 2007-08-28 주식회사 탑 엔지니어링 페이스트 디스펜서의 노즐과 갭 센서 사이의 거리 측정방법

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2000419A (en) * 1934-01-18 1935-05-07 Emery N Sarber Advertising condiment shaker
EP0421792A2 (en) * 1989-10-05 1991-04-10 Taikisha, Ltd. Spray painting apparatus
CN1508594A (zh) * 2002-12-18 2004-06-30 Lg.菲利浦Lcd株式会社 液晶显示面板的分配器及控制基板与喷嘴之间间隙的方法
US20040195400A1 (en) * 2003-02-13 2004-10-07 Anuskiewicz Ronald H. Irrigation sprinkler with easy removal nozzle
CN1847014A (zh) * 2005-04-15 2006-10-18 塔工程有限公司 糊状物分配器及控制糊状物分配器的方法
CN1959505A (zh) * 2005-10-31 2007-05-09 塔工程有限公司 用于糊状物分配器的头部单元
CN101063774A (zh) * 2006-05-25 2007-10-31 塔工程有限公司 用于糊状物分配器的分配头单元
CN101067700A (zh) * 2006-06-28 2007-11-07 塔工程有限公司 用于糊状物分配器的分配头单元
KR100750939B1 (ko) * 2006-10-27 2007-08-22 주식회사 탑 엔지니어링 액정적하장치

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104914597A (zh) * 2014-03-12 2015-09-16 Ap系统股份有限公司 用于防止分配器中的液体凝聚的方法以及设备
CN104914597B (zh) * 2014-03-12 2019-06-04 Ap系统股份有限公司 用于防止分配器中的液体凝聚的方法以及设备
CN104475303A (zh) * 2014-12-30 2015-04-01 合肥京东方光电科技有限公司 一种涂布装置
US9884337B2 (en) 2014-12-30 2018-02-06 Boe Technology Group Co., Ltd. Coating device
CN105363639A (zh) * 2015-09-30 2016-03-02 迈得医疗工业设备股份有限公司 一种医用配件的涂胶装置
CN105363639B (zh) * 2015-09-30 2018-07-20 迈得医疗工业设备股份有限公司 一种医用配件的涂胶装置
CN111822249A (zh) * 2020-07-24 2020-10-27 苏州天准科技股份有限公司 新型点胶装置

Also Published As

Publication number Publication date
TWI462780B (zh) 2014-12-01
CN102078846B (zh) 2014-02-19
TW201117884A (en) 2011-06-01
KR101089749B1 (ko) 2011-12-07
KR20110059398A (ko) 2011-06-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN102078846B (zh) 分配器设备及其控制方法
CN107966458B (zh) 一种基板半板检测装置
CN100404146C (zh) 基板处理装置
CN100569686C (zh) 涂敷装置和涂敷方法
CN101846884B (zh) 涂布装置
TWI439663B (zh) 平坦水平檢查設備及使用所述設備來檢查平坦水平的方法
KR20080087806A (ko) 액체 도포 장치의 노즐 클리어런스 조정 방법 및 액체 도포장치
US7880873B2 (en) Droplet discharge device
CN105445972A (zh) 探针移动装置
KR101763619B1 (ko) 어레이 테스트 장치
CN1974027B (zh) 溶液涂敷装置及溶液供给量的计量方法、溶液的供给方法
CN102211068B (zh) 涂敷装置
CN105093584A (zh) 彩膜修复机及彩膜修复方法
CN1315583C (zh) 基板处理装置
CN102189061B (zh) 液滴排出装置
CN108393212B (zh) 分配装置
CN103632932A (zh) 基片装卸装置、等离子体设备和机械手坐标零点定位方法
JP2005058830A (ja) ペースト塗布装置及びペースト塗布方法
KR101650378B1 (ko) 페이스트 디스펜서
CN203204265U (zh) 平板受取机台及对位精度检测设备
TW201422091A (zh) 頂朝下式基板印刷裝置及基板印刷方法
KR101269487B1 (ko) 플로팅 센서 유닛의 간극 제어장치 및 그 제어방법
KR102489221B1 (ko) 위치 측정기 및 이를 포함하는 기판 처리 장치
CN101258437A (zh) 基板感测装置
JP6993273B2 (ja) 基板処理装置および基板処理方法

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant