CN102069213A - 一种阵列式钻盒 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种结构简单、省时省力的阵列式钻盒,包括盒体和驱动齿轮,所述盒体上设有多排钻轴,每排钻轴按直线排列,每个钻轴下方连接有使钻轴转动的传动齿轮,同一排钻轴的传动齿轮通过相邻钻轴的传动齿轮与驱动齿轮相互传动,在使用时,只需在相应的钻轴上装上钻头,就能一次完成在同一平面上不同孔距的板料钻孔工序,省时省力,而且相邻两排的传动齿轮相互错开,使每排钻轴之间的距离为最小,进而用户能在一个钻盒上完成距离比较近的钻孔,消除了传统钻排对距离较小的孔需要多次调整而带来的误差,有效保证成孔的质量,减小废品率。

Description

一种阵列式钻盒
技术领域
 本发明涉及一种加工工具,具体涉及一种阵列式钻盒。
背景技术
为了实现家具生产的自动化,加快家具生产速度,目前市面上出现了钻轴呈直线排列的钻排,而由此类钻排组成的多排钻,使家具板材能在一台钻机上一次钻多个在多条直线上的孔,加快了钻孔的速度。然而,这样的结构在进一步提高生产效率上存在一定的限制。目前的这类排钻由于相邻直线钻排之间存在的间距比较大,无法在相邻孔的间距比较小的情况下同时使用,而须采用多工步钻孔。多工步钻孔不仅需要停下机器来调整钻排的位置,而且在钻排移动的过程中,误差加大,降低了产品质量和生产效率。
发明内容
本发明所要解决的问题是,针对上述技术的不足,设计出一种结构简单、省时省力的阵列式钻盒。
本发明为解决其问题所采用的技术方案是:一种阵列式钻盒,包括盒体和驱动齿轮,所述盒体上设有多排钻轴,每排钻轴按直线排列,每个钻轴下方连接有使钻轴转动的传动齿轮,同一排钻轴的传动齿轮通过相邻钻轴的传动齿轮与驱动齿轮相互传动。
上述技术方案还有以下改进技术方案:所述相邻两排的传动齿轮相互错开,钻轴间轴距为最小;所述传动齿轮与驱动齿轮之间设有过渡齿轮,由单一的驱动齿轮驱动钻盒上所有钻轴转动。
本发明的有益效果是:本发明在盒体上设有多排钻轴,在使用时,只需在相应的钻轴上装上钻头,就能一次完成在同一平面上不同孔距的板料钻孔工序,省时省力,而且相邻两排的传动齿轮相互错开,使每排钻轴之间的距离为最小,进而用户能在一个钻盒上完成距离比较近的钻孔,消除了传统钻排对距离较小的孔需要多次调整而带来的误差,有效保证成孔的质量,减小废品率。
附图说明
下面结合附图和实施例对本发明作进一步说明:
图1为本发明的结构示意图;
图2为本发明另一角度的结构示意图。
具体实施方式
参照附图1、图2,本发明所提供的一种结构简单、省时省力的阵列式钻盒,包括由铝合金材料和优质钢材制成的盒体1和驱动齿轮2,驱动齿轮2与电动机连接。所述盒体1上设有多排钻轴3,每排钻轴3按直线排列,每个钻轴3下方连接有传动齿轮4,同一排内的传动齿轮4通过相邻的传动齿轮4与驱动齿轮2相互传动。在本实施例中,共设有六排钻轴3,中间两排钻轴3端部的传动齿轮4直接与驱动齿轮2连接。距离驱动齿轮2较远的另外四排钻轴3的传动齿轮4通过过渡齿轮5与驱动齿轮2连接,为了保证各个钻轴3的转速一致,每排输入的动力齿轮与过渡齿轮5作相应的技术处理。
作为优选的实施方式,所述相邻两排的传动齿轮4在竖直方向上相互错开,这样相邻的两排钻轴3就能达到设计的最小距离,满足用户的设计加工要求,增加本发明的使用范围。
本发明的工作原理:由电动机带驱动齿轮2转动,驱动齿轮2直接或通过过渡齿轮5与每排钻轴3端部的传动齿轮4连接,由端部的传动齿轮4带动位于其后的传动齿轮4旋转,就可实现传动齿轮4上的钻轴3的旋转。然后根据待加工板材的需要,在相应钻轴3上装上钻头,由于相邻钻轴3的旋转方向相反,因此安装钻头时,必须根据选用的钻轴,配套相应的钻头,这样就能一次完成同一平面上不同孔距的板料钻孔,省时省力。而且相邻两排钻轴3的传动齿轮4相互错开,减少了每排钻轴3之间的距离,使用户能在一个钻盒上完成距离比较近的钻孔工序,消除了传统钻排对距离较小的孔需要多次移动钻排调整距离而带来的误差,有效保证成孔的质量,减小废品率。
当然,本发明除了上述实施方式之外,其它等同技术方案也应当在其保护范围之内。

Claims (3)

1.一种阵列式钻盒,包括盒体(1)和驱动齿轮(2),其特征在于:所述盒体(1)上设有多排钻轴(3),每排钻轴(3)按直线排列,每个钻轴(3)下方连接有使钻轴(3)转动的传动齿轮(4),同一排钻轴(3)的传动齿轮(4)通过相邻钻轴(3)的传动齿轮(4)与驱动齿轮(2)相互传动。
2.根据权利要求1所述的一种阵列式钻盒,其特征在于:所述相邻两排的传动齿轮(4)相互错开。
3.根据权利要求1所述的一种阵列式钻盒,其特征在于:所述传动齿轮(4)与驱动齿轮(2)之间设有过渡齿轮(5)。
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PB01 Publication
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RJ01 Rejection of invention patent application after publication

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