CN102049899A - 平压平烫金机双负压定位走膜装置 - Google Patents
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Abstract
本发明是一种平压平烫金机双负压定位走膜装置，与传统的走膜装置不同之处是在于利用双光电眼在首尾端分别定位，对烫金膜上的图案进行跟踪，同时采用双负压吸辊对烫金膜进行牵引，一放一收。由于首尾两端都有光电眼进行定位，因此定位的精度大大提高；同时负压吸辊的超强吸附力使烫金膜牢牢吸附在吸辊上，不会像传统的齿辊、导辊那样会对烫金膜造成一定的损伤，而且容易打滑，因此走膜更加稳定，大大减少拉伸所带来的废品，产品质量也大幅提高。
Description
一、所属技术领域
本发明是适用于烫金机的一种走膜装置，主要是对平压平烫金机的走膜进行定位牵引。
二、背景技术
传统的平压平烫金机是用齿辊(相应的钢辊及橡辊)、导辊等对烫金膜进行牵引，用一个光电眼在前端进行定位并对烫金膜上的图案进行跟踪。由于在运行过程中速度的变化、温度的变化及材质的变化等等，会导致在前端有光电眼处定位准确，而后端无光电眼处产生差异，由于速度变化后牵引的作用使膜被迫不确定的拉伸而产生大量废品。而用齿辊(相应的钢辊及橡辊)、导辊等对烫金膜进行牵引时，会对烫金膜造成一定的损伤，从而影响到产品的质量。
三、发明内容
本发明解决其技术问题所采用的技术方案是：本发明主要由一对光电眼(A、B)、一对负压吸辊组成，在走膜的过程中，用一对光电眼分别在首尾两端进行定位对烫金膜上的图案进行跟踪，并采用双负压吸辊进行牵引。由于两端进行定位和牵引，并且负压吸辊可让烫金膜吸附在吸辊上，一放一收，从而确保走膜更加稳定，不易打滑，并且对烫金膜无任何损伤。
本发明的有益效果是：提高走膜的定位精度，大大减少拉伸所带来的废品，提升产品的质量。
四、附图说明
下面结合附图和实施例对本发明进一步说明。
附图中是平压平烫金机双负压定位走膜装置的工作原理图。
图中：1、光电眼A；2、光电眼B；3、负压吸辊A；4、负压吸辊B；5、烫金膜；6、平压平烫金机构。
五、具体实施方式
在图中，可以看到烫金膜5正在通过平压平烫金机构6，首端的光电眼A1和尾端的光电眼B2分别在两端进行定位对烫金膜上的图案进行跟踪，同时采用负压吸辊A3和负压吸辊B4也分别在两端进行牵引，一放一收。由于双光电眼的定位使定位精度更稳定更精确，大大减少了因拉伸所带来的大量废品，而负压吸辊的超强吸附力，使烫金膜不易打滑，并且对烫金膜无任何损伤，从而提升了产品的质量。
Claims (2)
1.一种平压平烫金机双负压定位走膜装置，其特征：在首尾两端分别设置一个光电眼，对烫金膜上的图案进行定位跟踪。
2.根据权利要求1所述的平压平烫金机双负压定位走膜装置，其特征是：在首尾两端分别设置一个负压吸辊进行牵引，一放一收，确保烫金膜不打滑、无损伤。
Priority Applications (1)
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| CN2009102725230A CN102049899A (zh) | 2009-10-27 | 2009-10-27 | 平压平烫金机双负压定位走膜装置 |
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| CN2009102725230A CN102049899A (zh) | 2009-10-27 | 2009-10-27 | 平压平烫金机双负压定位走膜装置 |
Publications (1)
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| CN102049899A true CN102049899A (zh) | 2011-05-11 |
Family
ID=43954855
Family Applications (1)
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| CN2009102725230A Pending CN102049899A (zh) | 2009-10-27 | 2009-10-27 | 平压平烫金机双负压定位走膜装置 |
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| CN (1) | CN102049899A (zh) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103264579A (zh) * | 2013-04-24 | 2013-08-28 | 天津长荣印刷设备股份有限公司 | 一种铝箔定位标烫印控制系统及其工作方法 |
| CN104002574A (zh) * | 2014-05-20 | 2014-08-27 | 青岛嘉泽包装有限公司 | 一种高效节能的烟用接装纸烫印方法 |
| CN104972781A (zh) * | 2015-06-25 | 2015-10-14 | 深圳劲嘉彩印集团股份有限公司 | 定位烫纠偏烫金电化铝及烫金设备 |
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2009
- 2009-10-27 CN CN2009102725230A patent/CN102049899A/zh active Pending
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
| WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Application publication date: 20110511 |