CN102039284A - 一种碳氢式清洗设备的滚动装置 - Google Patents
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Abstract
一种碳氢式清洗设备的滚动装置,包括滚轮支架、托架、导轨槽及工件筐,所述托架的下部安装两根磨擦辊轮轴,每根磨擦辊轮轴上设置两个磨擦辊轮,磨擦辊轮轴的端部装有被动链轮;两条导轨槽分别焊接于托架侧板上,其上下两侧分别设置两个前后滚轮、左右滚轮并安装于左右两根滚轮支架上并插进导轨槽内,盛放工件的圆形工件筐设置在磨擦辊轮上。本发明有益效果为:可广泛应用于碳氢真空清洗设备领域,可增强清洗效果;通过增加抛动机构或旋转机构等机械装置,并在实现抛动和转动的前提下,其滚动装置可实现真空环境下的稳定旋转。
Description
技术领域
本发明涉及真空清洗设备领域,尤其涉及一种碳氢式清洗设备的滚动装置。
背景技术
碳氢式清洗设备一般由清洗干燥机主体、超声波系统、真空脱气系统、循环过滤系统、机械臂系统,真空干燥系统、真空蒸馏回收系统及电气控制系统等组成;在碳氢真空清洗设备领域,超声波在液体中有驻波存在;此外,一般为增强清洗效果,会增加抛动机构或旋转机构等机械装置,在实现抛动和转动的前提下,其滚动装置无法实现真空环境下的稳定旋转。
发明内容
针对以上缺陷,本发明的目的是提供一种碳氢式清洗设备的滚动装置,以实现在真空状态下使其滚动装置稳定旋转。
为实现上述目的,本发明通过以下技术方案实现:
一种碳氢式清洗设备的滚动装置,包括滚轮支架、托架、导轨槽及工件筐,所述托架的下部安装两根磨擦辊轮轴,每根磨擦辊轮轴上设置两个磨擦辊轮,磨擦辊轮轴的端部装有被动链轮;两条导轨槽分别焊接于托架侧板上,其上下两侧分别设置两个前后滚轮、左右滚轮并安装于左右两根滚轮支架上并插进导轨槽内,盛放工件的圆形工件筐设置在磨擦辊轮上。
本发明所述的碳氢式清洗设备的滚动装置的有益效果为:可广泛应用于碳氢真空清洗设备领域,可增强清洗效果;通过增加抛动机构或旋转机构等机械装置,并在实现抛动和转动的前提下,其滚动装置可实现真空环境下的稳定旋转。
附图说明
下面根据实施例和附图对本发明作进一步详细说明。
图1是本发明实施例所述碳氢式清洗设备的滚动装置结构示意图。
图中:
1、滚轮支架;2、前后滚轮;3、左右滚轮;4、托架;5、被动链轮;6、磨擦辊轮;7、磨擦辊轮轴;8、导轨槽;9、工件筐;10、外壳体。
具体实施方式
如图1所示,本发明所述的碳氢式清洗设备的滚动装置,包括滚轮支架1、托架4、导轨槽8及工件筐9,所述托架4的下部安装两根磨擦辊轮轴7,每根磨擦辊轮轴7上设置两个磨擦辊轮6,磨擦辊轮轴7的端部装有被动链轮5;两条导轨槽8分别焊接于托架侧板上,其上下两侧分别设置两个前后滚轮2、左右滚轮3并安装于左右两根滚轮支架1上并插进导轨槽8内,盛放工件的圆形工件筐9设置在外壳体10内部的磨擦辊轮6上。
以上本发明所述的碳氢式清洗设备的滚动装置,工作时偏心轮驱动连杆并带动托架4上下运动,焊接在托架侧板上两根导轨槽8通过上下两对前后滚轮2、左右滚轮3,使托架4定位,以防止托架4前后、左右移动或转动;固定在传动轴上的磨擦辊轮6一同转动,工件筐9靠自重压紧在磨擦辊轮6上,被动链轮5和中间链轮固定在托架4上并随托架4一起上下运动。
Claims (3)
1.一种碳氢式清洗设备的滚动装置,包括滚轮支架(1)、托架(4)、导轨槽(8)及工件筐(9),托架(4)的下部安装两根磨擦辊轮轴(7),其特征在于:磨擦辊轮轴(7)的端部装有被动链轮(5),两条导轨槽(8)分别焊接于托架侧板上,其上下两侧分别设置两个前后滚轮(2)、左右滚轮(3)并安装于左右两根滚轮支架(1)上并插进导轨槽(8)内。
2.根据权利要求1所述的碳氢式清洗设备的滚动装置,其特征在于:每根磨擦辊轮轴(7)上设置两个磨擦辊轮(6)。
3.根据权利要求1所述的碳氢式清洗设备的滚动装置,其特征在于:圆形工件筐(9)设置在磨擦辊轮(6)上。
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CN2009101808734A CN102039284A (zh) | 2009-10-20 | 2009-10-20 | 一种碳氢式清洗设备的滚动装置 |
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102698999A (zh) * | 2012-06-19 | 2012-10-03 | 科威信(无锡)洗净科技有限公司 | 一种圆篮旋转托架装置 |
CN102896105A (zh) * | 2012-11-01 | 2013-01-30 | 常州捷佳创精密机械有限公司 | 一种清洗槽内旋转机构 |
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2009
- 2009-10-20 CN CN2009101808734A patent/CN102039284A/zh active Pending
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Application publication date: 20110504 |