CN101987528A - 一种细小文字的超精细雕刻方法 - Google Patents

一种细小文字的超精细雕刻方法 Download PDF

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卫永新
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Abstract

本发明涉及一种细小文字的超精细雕刻方法,包括:将电雕机图案在拼版时作分雕处理;调整雕刻机雕刻头,设定P卡上交流信号;退回滑脚,使电流维持在平衡范围内,进行试雕;检测高光槽的宽度与正常高光值是否相同,且电流维持在平衡范围内,若是,则进行雕刻;雕刻完成后,退回至试雕位再试雕一次,测量高光槽宽度是否变化,若否,则雕刻完成。本发明使用原有雕刻电流的直流控制信号来进行雕刻,它在铜层上所雕刻图形是由长短不同的槽组成,而不是以往的网点,边缘整齐,原有网墙的空间也被雕刻为含墨槽,所以相同文字的含墨量为原有的两倍,同时耐印率也可以达到正常雕刻的近二倍,含墨量是正常的两倍,并且文字印刷效果清晰、实在。

Description

一种细小文字的超精细雕刻方法
技术领域
本发明涉及雕刻法,特别是涉及一种细小文字的超精细雕刻方法。
背景技术
现在的电雕机雕刻的文字边缘有大小不一的小网点存在,使线条及文字发虚。当文字线条小到一定程度(小于0.2mm)时,文字的笔画将大部分都为非实地网点组成,文字的印刷效果将很差。若承印物为纸张,将几乎无法识别出所印刷的文字,产生这种现象的原因是由于我们所使用的电雕机的工作机理所决定的。通常我们的解决办法是尽量采用高线数工艺来保证文字边缘效果,但随之带来的是文字的含墨量减少,文字笔画印不实,因此我们只能在兼顾边缘效果和笔画实在程度之间找一个折中方案。
发明内容
本发明所要解决的技术问题就是为了克服上述现有技术存在的缺陷而提供一种细小文字的超精细雕刻方法。
本发明的目的可以通过以下技术方案来实现:一种细小文字的超精细雕刻方法,其特征在于,包括以下步骤:
1)将电雕机图案在拼版时作分雕处理;
2)调整雕刻机雕刻头,设定P卡上交流信号;
3)退回滑脚,使电流维持在平衡范围内,进行试雕;
4)检测高光槽的宽度与正常高光值是否相同,且电流维持在平衡范围内,若是,则进行雕刻;
5)雕刻完成后,退回至试雕位再试雕一次,测量高光槽宽度是否变化,若否,则雕刻完成。
与现有技术相比,本发明使用原有雕刻电流的直流控制信号来进行雕刻,它在铜层上所雕刻图形是由长短不同的槽组成,而不是以往的网点,边缘整齐(尤其是斜竖线条),原有网墙的空间也被雕刻为含墨槽,所以相同文字的含墨量为原有的两倍,同时耐印率也可以达到正常雕刻的近二倍,含墨量是正常的两倍,并且文字印刷效果清晰、实在。
附图说明
图1为现有雕刻法的雕刻图形与本发明方法雕刻图形的对比图一;
图2为现有雕刻法的雕刻图形与本发明方法雕刻图形的对比图二;
图3为现有雕刻法的雕刻图形与本发明方法雕刻图形的对比图三;
图4为现有雕刻法的雕刻图形与本发明方法雕刻图形的对比图四;
图5为现有雕刻法的雕刻图形与本发明方法雕刻图形的对比图五;
图6为现有雕刻法的雕刻图形与本发明方法雕刻图形的对比图六;
图7为现有雕刻法与本发明方法的实际印样效果对比图。
其中:图7的左侧为本发明实际印样效果,右侧为现有雕刻法实际印样效果。
具体实施方式
下面对本发明作进一步说明。
1)将电雕机图案在拼版时作分雕处理,所采用工艺与正常文字线条工艺相同。
2)调整雕刻机雕刻头,设定P卡上交流信号;
3)因精细雕刻时雕刻针无固定频率的振荡,所以雕刻针振动幅度会减小,需适当退回滑脚,使电流维持在平衡范围内,进行试雕;
4)检测高光槽的宽度与正常高光值是否相同,且电流维持在平衡范围内,若是,则进行雕刻;
5)雕刻完成后,退回至试雕位再试雕一次,测量高光槽宽度是否变化,若否,则雕刻完成。
6)若采用正常雕刻方式时,重新调整P卡上交流信号,可进行正常试雕。

Claims (1)

1.一种细小文字的超精细雕刻方法,其特征在于,包括以下步骤:
1)将电雕机图案在拼版时作分雕处理;
2)调整雕刻机雕刻头,设定P卡上交流信号;
3)退回滑脚,使电流维持在平衡范围内,进行试雕;
4)检测高光槽的宽度与正常高光值是否相同,且电流维持在平衡范围内,若是,则进行雕刻;
5)雕刻完成后,退回至试雕位再试雕一次,测量高光槽宽度是否变化,若否,则雕刻完成。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102615929A (zh) * 2012-03-29 2012-08-01 汕头市立成印刷制版厂有限公司 一种超精细凹印版辊的制作方法
CN103600612A (zh) * 2013-11-11 2014-02-26 深圳市杰瑞表面技术有限公司 模具上用电雕工艺连续印出精密立体图案的方法
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PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

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