CN101924166A - 一种太阳能电池表面减反射结构的制作系统及制作方法 - Google Patents

Abstract

太阳能电池表面减反射结构的制作系统及制作方法，其特征是用激光干涉光刻系统，将多个相干激光束组合，对干涉场内的光强度分布进行强弱调制，用调制后重新分布的激光能量烧蚀光电池器件材料表面，在大面积范围内产生微米或纳米级密集的孔、柱浮雕结构，从而减少反射率，增加对光的吸收，提高光电转换效率。用该方法在基体表面产生的减反射微细结构，由于没有外来材料，更稳定耐用，并且通过调整干涉光刻系统入射角可以调整结构的周期和尺寸，使接收波长更有针对性，具有工作波段可控性好的优点。

Description

一种太阳能电池表面减反射结构的制作系统及制作方法

技术领域

本发明涉及一种太阳能电池表面减反射结构的制作系统及制作方法，属于对提高太阳能电池光电转换效率的表面减反射结构制备技术的改进。

技术背景

提高光电转换效率的一个重要途径是减少太阳能电池表面的反射，以提高其表面的光吸收从而提高转换效率。现有的太阳能电池的生产工艺中，一般采用绒面技术，使表面织构化，增加入射光在硅片表面的反射次数，从而增加硅片对入射光的吸收。针对单晶硅、多晶硅电池材料，比较成熟的绒面制备方法多是采用碱腐蚀、酸腐蚀、电化学腐蚀的方法。虽然工艺简单，但是腐蚀后表面结构的结果带有一定的随机性，腐蚀后与反射率有直接关系的孔隙直径以及孔隙率都在一个较大的变化范围之内，要想获得最低的反射率，必须精确控制反应进程，而且反应过程中使用的腐蚀液会对人和环境造成很大污染。工业上也采用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)方法沉积SiNx薄膜用于硅晶基片的减反射膜的制作，但是PECVD沉积非常昂贵。此外，商用化的SiNx薄膜通常是专们针对波长大约600nm减反射的，在包含部分入射太阳能的其他波长范围，反射损失快速增加。另外，对于多层膜而言，由于镀膜材料的限制，其与基体材料不同的化学和物理特性，将导致附着效果、热匹配和膜层稳定性受到影响。申请号为200810218734的中国专利申请提供的“一种多晶硅太阳电池绒面制作方法”，该方法利用激光束在多晶硅片表面密集扫描，使扫描区域内的硅材料发生熔融、气化和溅出反应，在多晶硅片表面形成微米级的凹凸结构，刻蚀后采用化学方法做表面清洗和去除损伤层。由于激光扫描速度的限制，该方法不适合低成本大批量生产光电池的需要。

目前在30nm分辨率的范围内，市场上主要有三种直写光刻技术：离子束光刻IBL(ionbeam lithography)、电子束光刻EBL(electron beam lithography)和扫描探头光刻SPL(scanning probe lithography)。SPL可以用功能化的原子力显微镜AFM(atomic forcemicroscope)或扫描隧道显微镜STM(scanning tunnelling microscope)来完成。由于这三种技术均采用耗时的顺序工作方式，其缺点是速度非常慢，不适合批量生产。另一种相关的技术是纳米压印NIL(nano imprint lithography)。NIL提供了一种低成本批量生产纳米表面结构的途径，但其压印的物理特性决定了它的严格使用条件。否则，不完善的表面结构就可随时产生。该技术的缺点是只能使用在清洁的平面，并且它的模板图案形状是固定的。

发明内容

本发明的目的在于：克服现有技术的不足，提供一种采用激光干涉光刻技术的太阳能电池表面减反射结构的制作系统及制作方法，该系统及方法提供了增加光电转换效率的途径，且具有减反射工作波段可控性的优点、良好的稳定性和耐久性，且具有曝光场面积大、效率高、适合低成本大批量生产的优点。

本发明的目的可以通过以下技术措施实现：太阳能电池表面减反射结构的制作系统，包括：激光器，扩束镜，准直系统，分束与折光系统，固定太阳能电池基片或太阳能电池基片盖板材料表面的工件台；由激光器发出的激光束经扩束镜和准直系统后，由分束与折光系统将激光束分成多束相干光，再将多束相干光的各个光路分别控制，使各个光路的激光光束以入射角范围为0°到90°的范围同时照射到太阳能电池基片或太阳能电池基片盖板材料表面上，利用多光束干涉图案烧蚀太阳能电池基片或太阳能电池基片盖板材料表面，使太阳能电池基片或太阳能电池基片盖板材料表面大面积范围内产生微米或纳米级密集的孔、柱浮雕结构，从而形成表面减反结构；或将太阳能电池基片或太阳能电池基片盖板材料表面上先涂覆一层光敏材料，再置放于分束与折光系统的多束相干光干涉场中进行曝光，然后利用刻蚀工艺将曝光的干涉图案传递到太阳能电池基片或太阳能电池基片盖板材料表面，形成表面减反射结构。

所述分束与折光系统由三个分元件和四个折光镜组成；每一个分光元件依次将入射的光束分成二束光出射，四个折光镜置于三个分光元件之后，起转折光路的作用。具体为：一个分光元件首先将入射光分成两束相干光，另二个分光元件分别位于前一个分光元件之后的两个光路中，再将这两路光都各自分成两束相干光。四个折光镜分别放置在由前述三个分光元件分成的四路光中，将四束相干光转折汇聚于待曝光的太阳能电池基片或太阳能电池基片盖板材料表面上。

通过变换和调整所述分束与折光系统中的三个分光元件和四个折光镜之间的相对摆放位置和角度，改变照射到太阳能电池基片或太阳能电池基片盖板材料表面上的相干光束的入射角，从而调整表面减反射结构的参数，使系统的光刻特征尺寸可从几纳米至几百微米可调，工作波段具有可控性。

在所述太阳能电池基片或太阳能电池基片盖板材料表面前设置光学偏振器件，以提高干涉图形的对比度，从而提高表面微结构的制作效率和质量；或在太阳能电池基片或太阳能电池基片盖板材料表面前的每路光中都放置一个光学偏振器件，对入射到太阳能电池基片或太阳能电池基片盖板材料表面上的每一束光的偏振状态和光强度分别进行调控，从而使干涉曝光图形的形状和质量更精确可控。

所述太阳能电池基片或太阳能电池基片盖板材料表面被激光能量烧蚀或曝光过程也可以通过移动或旋转基片工件台或者分束与折光系统，分两个步骤来实现，第一步用两光束对太阳能电池基片或太阳能电池基片盖板材料表面干涉曝光，第二步在第一次烧蚀或曝光的基础上，将工件台或者将分束与折光系统以预先设定的角度旋转，使干涉条纹图案与第一次曝光的图案成预先设定的角度，然后进行第二次烧蚀或曝光，利用两次干涉图案的强度叠加对基片材料表面进行烧蚀或曝光，以更简单灵活的方式产生预期的表面减反射浮雕结构。

所述三个分光元件和四个调节折光镜之间的相对摆放位置和角度通过用线位移或角位移控制系统控制。

所述的三个分光元件为镀有分光膜的光学分光镜，或分光光栅。

所述的四个折光镜为镀有反射膜的反光镜，或采用光栅实现折光功能。

所述三个分光镜和四个折光镜的数量视需要可以加减。

所述被激光能量烧蚀或扫描曝光的太阳能电池基片或太阳能电池基片盖板材料表面，可以是平面，也可以是非平面，如柱面、球面、抛物面、双曲面，或任何更复杂的高阶曲面。

太阳能电池表面减反射结构的制作系统，实现步骤如下：

(1)激光束由激光器出射后，经扩束镜、准直系统后，进入分束与折光系统，分成多束相干光出射，调整分束与折光系统中三个分光镜和四个折光镜的摆放位置和角度，使多束相干光中的各光束以各自预先设定的空间入射角同时照射在电池基片或太阳能电池基片盖板材料表面的位置，四个反射镜11～14的数量视需要可以加减，调整置放于太阳能电池基片或太阳能电池基片盖板材料表面位置前的偏振片，使参与干涉的每一束相干光的偏振状态一致；

(2)将待处理的太阳能电池基片或太阳能电池基片盖板材料表面置放于前述的太阳能电池表面减反结构的制作系统中，利用调制后光强弱重新分布了的激光能量烧蚀太阳能电池基片或太阳能电池基片盖板材料表面，形成微米或纳米级密集的孔、柱浮雕结构，或将太阳能电池基片或太阳能电池基片盖板材料表面表面先涂覆一层光敏材料，再置放于分束与折光系统的多束相干光干涉场中进行曝光，然后利用刻蚀工艺将曝光的干涉图案传递到太阳能电池基片或者其盖板基片材料表面，形成减反射结构；

(3)通过变换和调整所述分束与折光系统中的三个分光元件和四个折光镜之间的相对摆放位置和角度，改变照射到太阳能电池基片或太阳能电池基片盖板材料表面上的相干光束的入射角，从而调整表面减反射结构的参数，使系统的光刻特征尺寸可从纳米级到微米级可调。

本发明与现有方法和系统相比有以下优点：

(1)本发明采用激光干涉光刻系统，将多个相干激光束组合，对干涉场内的光强度分布利用相长相消干涉进行强弱调制，用多光束干涉图案烧蚀光电池器件材料表面，在大面积范围内产生微米或纳米级密集的孔、柱浮雕结构，从而减少反射率，增加对光的吸收，提高光电转换效率。

(2)本发明太阳能电池表面制备的纳米结构减反射功能结构层，是在基体自身上利用调制后的干涉场激光能量对基体表面烧蚀形成的表面微观浮雕结构层，与现有的多层减反射膜相比，没有附加外来的材料，不存在因为不同材料对使用环境的温度和湿度的反应不同而导致的膜层脱落、剥离等问题，因此具有良好的稳定性和耐久性。

(3)本发明采用的通过变换光学器件的相对摆放位置，改变照射到太阳能电池基片或其它材料表面的相干光束的入射角，从而调整减反表面的微细浮雕结构的参数，使接收波长更有针对性，实现工作波段的可控性，而且通过改变入射光夹角，实现系统的光刻特征尺寸可从几纳米到几百微米可调。

(4)本发明光路中在太阳能电池基片或太阳能电池基片盖板材料表面前设置了光学偏振器件，以提高干涉图形的对比度，从而提高表面微结构的制作效率和质量；也可以在每路光中都放置一个光学偏振器件，对入射到太阳能电池基片或太阳能电池基片盖板材料表面上的每一束光的偏振状态和光强度分别进行调控，从而使干涉曝光图形的形状和质量更精确可控。

(5)本发明制作过程中作用于材料的激光干涉场的大小，决定于反射镜、准直镜等光学元件的通光孔径，容易做到对基片大面积同时曝光。因此与已有的激光扫描纳米织构化的方法相比，由于曝光场面积远远大于激光直写束斑直径，不需要精确而缓慢的工件台步进扫描，即可在大面积范围内对基片进行曝光，因此具有曝光面积范围大(直径从0.5厘米至几十厘米，与光学元件通光孔径相当)、效率高(无需小面积曝光场+缓慢移动扫描曝光)、成本低等优点。

总之，与现有的光学减反射技术相比，本发明系统及方法提供了转换效率，且具有减反射工作波段可控性的优点、良好的稳定性和耐久性，且具有曝光场面积大、效率高、适合低成本大批量生产的优点。

附图说明

图1为本发明采用激光能量烧蚀的太阳能电池表面减反射结构的制作系统示意图；

图2为本发明采用光刻胶辅助曝光太阳能电池表面减反射结构的制作系统示意图；

图3为本发明采用干涉图案结合扫描方式制作超大面积微纳减反射结构的示意图；

图4为本发明采用二光束多次曝光方法示意图，其中左图为二光束第一次对基片干涉曝光，右图为光学系统或者基片旋转90°后进行第二次干涉曝光；

图5为本发明采用二光束或三光束多次曝光方法示意图；

图6为本发明的分束与折光系统的结构图；

图7为本发明的反射镜角位移和线位移控制示意图；

图8和图9为本发明在光路中增加光学偏振器件的结构示意图；

图10为本发明形成的表面减反结构示意图。

具体实施方式

如图1所示，本发明包括：激光器1，扩束镜2，准直系统3，分束与折光系统4，太阳能电池基片或太阳能电池基片盖板材料表面5。由激光器1发出的激光束经扩束2和准直3后，由分束与折光系统4先将激光束分成多个相干光束，再将多束光的各个光路分别控制，使它们以入射角为0°到90°范围同时照射到太阳能电池基片或太阳能电池基片盖板材料表面5上，利用多光束干涉图案对其进行烧蚀或曝光，在其表面上形成如图10所示的表面减反射结构6。

如图2所示，为本发明采用抗蚀剂辅助曝光方式的太阳能电池表面减反射结构的制作系统示意图，它将太阳能电池基片或太阳能电池基片盖板材料表面5表面上先涂覆一层厚约几百纳米(约100纳米至800纳米)的光刻胶18，再置放于分束与折光系统4中的多束相干光干涉场中进行曝光，利用光刻胶的光敏特性，在光刻胶18上先形成基于干涉图案的图形，然后利用刻蚀工艺将其传递到太阳能电池基片或太阳能电池基片盖板材料表面5，形成表面减反射结构6。

如图3所示，为本发明采用干涉图案结合扫描方式制作超大面积微纳减反射结构示意图，形成特定大面积减反射结构的方法，也可以在满足光能量阈值允许范围的基础上扩束后，结合移动基片工件台7或者分束与折光系统4，利用多光束干涉图案扫描曝光太阳能电池基片或太阳能电池基片盖板材料表面5，形成超大面积表面减反射结构6。具体过程如下：首先使从折光系统4出射的多个相干光束汇聚照射到太阳能电池基片或太阳能电池基片盖板材料表面5上，利用多光束干涉图案对其进行曝光或烧蚀，形成表面减反射结构6；再移动基片工件台7或者分束与折光系统4，让太阳能电池基片或太阳能电池基片盖板材料表面5上已曝光的区域旁边的新的待曝光区域对准分束与折光系统4，再次进行干涉曝光，在新的曝光区域范围内再次形成表面减反射结构6；沿X，Y方向分别依次扫描移动基片工件台7或者分束与折光系统4，重复上述曝光过程，最终完成多个表面减反射结构6区域的拼接，形成超大面积微纳减反结构。

如图4和图5所示，也可以使用二光束或者三光束干涉条纹图案辅助两次曝光基片或材料表面，制成减反射结构6。图4中，经过分束与折光系统4出射的二光束(光束I和光束II)，以各自分别为θ1、θ2的入射角汇聚照射在太阳能电池基片或太阳能电池基片盖板材料表面5上，对其进行曝光后，将工件台7或者将分束与折光系统4以预先设定的角度旋转，使干涉条纹图案与第一次曝光的图案成预先设定的角度，进行第二次曝光，利用两次干涉图案的强度叠加对太阳能电池基片或太阳能电池基片盖板材料表面5进行烧蚀，以更简单灵活的方式产生预期的表面减反射浮雕结构。如图5所示，在二光束系统的基础上，沿垂直于基片表面5的方向增加一束入射光与另两束光同时对基片表面5曝光，构成了三光束系统，移动挡板9挡住或放开三光束中的中间一束，即可在三光束和二光束之间转换。

如图6所示，本发明所采用的分束与折光系统4由三个分光元件8、9、10和四个折光镜11、12、13、14组成。三个分光元件8、9、10中的每一个分光元件依次将入射的光束分成二束光出射，四个折光镜11、12、13、14置于分光元件之后，起转折光路的作用。具体为：分光元件8首先将入射光分成两束相干光，分光元件9、10分别位于分光元件8之后的两个光路中，再将这两路光都各自分成两束相干光，四个折光镜11、12、13、14分别放置在由前述三个分光元件8、9、10分成的四路光中，将四束相干光转折汇聚于待曝光的太阳能电池基片或太阳能电池基片盖板材料表面5上。

三个分光元件8、9、10可以是镀有分光膜的光学分光镜，也可以是分光光栅，四个折光镜11、12、13、14为镀有反射膜的反光镜，也可以采用光栅实现其折光功能。

通过变换和调整上述每一个光学器件之间的相对摆放位置和角度，改变照射到基片表面的相干光束的入射角，从而调整基片表面的微细浮雕结构6的参数，从而使接收波长更有针对性，具有工作波段可控性好的优点。

如图7所示，通过用线位移或角位移控制系统调节四个反射镜11、12、13、14，以改变照射到太阳能电池基片或太阳能电池基片盖板材料表面5的入射光的夹角，从而使系统的光刻特征尺寸可从几纳米到几百微米可调(如小到5纳米，大到900微米以上甚至毫米级)，工作波段具有可控性。

线位移和角位移控制系统19和20与分别与每一个折光镜11～14固定成一组。通过计算机21控制角位移驱动器件19，使折光镜倾斜ω1角度，根据反射定律从而使反射光线的方向偏转ω2角度。计算机21控制线位移驱动器件20，使折光镜11-14前后移动，从而使反射光线的出射方向随之产生平移。通过对反射光线偏转角度和平移量的调整，获得所需要的最终汇聚照射在基片5上的干涉光束的入射角。根据图形的特征尺寸与入射角的正弦函数密切相关的特性，最终实现光刻特征尺寸的变化。

如图8所示，本发明的光路中在太阳能电池基片或太阳能电池基片盖板材料表面5前设置了光学偏振器件16，以提高干涉图形的对比度，从而提高表面微结构的制作效率和质量。如图9所示，也可以在每路光中都放置一个光学偏振器件17，对入射到太阳能电池基片或太阳能电池基片盖板材料表面5上的每一束光的偏振状态分别进行调控，使每束光的偏振方向一致，从而使干涉曝光图形的形状和质量更精确可控。

本发明未详细阐述部分属于本领域的公知技术。

Claims (10)

1.一种太阳能电池表面减反结构的制作系统，其特征在于包括：激光器(1)，扩束镜(2)，准直系统(3)，分束与折光系统(4)，固定太阳能电池基片或太阳能电池基片盖板材料表面(5)的工件台(7)；由激光器(1)发出的激光束经扩束镜(2)和准直系统(3)后，由分束与折光系统(4)将激光束分成多束相干光，再将多束相干光的各个光路分别控制，使各个光路的激光光束以入射角为0°-90°的范围同时照射到太阳能电池基片或太阳能电池基片盖板材料表面(5)上，利用多光束干涉图案烧蚀太阳能电池基片或太阳能电池基片盖板材料表面(5)，使太阳能电池基片或太阳能电池基片盖板材料表面(5)大面积范围内产生微米或纳米级密集的孔、柱浮雕结构，从而形成表面减反结构(6)；或将太阳能电池基片或太阳能电池基片盖板材料表面(5)上先涂覆一层光敏材料，再置放于分束与折光系统(4)中多束相干光干涉场中进行曝光，然后利用刻蚀工艺将曝光的干涉图案传递到太阳能电池基片或太阳能电池基片盖板材料表面(5)表面，形成表面减反射结构(6)；或移动基片工件台(7)或者分束与折光系统(4)，利用多光束干涉图案扫描太阳能电池基片或太阳能电池基片盖板材料表面(5)，形成超大面积微纳表面减反射结构(6)；

所述分束与折光系统(4)由三个分光元件(8、9、10)和四个折光镜(11、12、13、14)组成；三个分光元件(8、9、10)中的每个分光元件依次将入射的光束分成二束光出射，四个折光镜(11、12、13、14)置于分光元件之后，起转折光路的作用，具体为：前一个分光元件(8)首先将入射光分成两束相干光，另二个分光元件(9、10)分别位于前一个分光元件(8)之后的两个光路中，再将这两路光都各自分成两束相干光，四个折光镜(11、12、13、14)分别放置在由前述三个分光元件(8、9、10)分成的四路光中，将四束相干光转折汇聚于待曝光的太阳能电池基片或太阳能电池基片盖板材料表面(5)上；

通过变换和调整所述分束与折光系统(4)中的三个分光元件(8、9、10)和四个折光镜(11、12、13、14)之间的相对摆放位置和角度，改变照射到太阳能电池基片或太阳能电池基片盖板材料表面(5)上的相干光束的入射角，从而调整表面减反射结构(6)的参数，使系统的光刻特征尺寸可从纳米级到微米级可调，工作波段具有可控性；

在所述太阳能电池基片或太阳能电池基片盖板材料表面(5)前设置光学偏振器件(16)，以提高干涉图形的对比度，从而提高表面微结构的制作效率和质量；或在太阳能电池基片或太阳能电池基片盖板材料表面(5)前的每路光中都放置一个光学偏振器件(17)，对入射到太阳能电池基片或太阳能电池基片盖板材料表面(5)上的每一束光的偏振状态和光强度分别进行调控，从而使干涉曝光图形的形状和质量更精确可控。

2.根据权利要求1所述的太阳能电池表面减反结构的制作系统，其特征在于：所述移动基片工件台(7)或者分束与折光系统(4)，利用多光束干涉图案扫描太阳能电池基片或太阳能电池基片盖板材料表面(5)，形成超大面积表面减反射结构(6)的具体过程如下：首先使从折光系统(4)出射的多个相干光束汇聚照射到太阳能电池基片或太阳能电池基片盖板材料表面(5)上，利用多光束干涉图案对其进行曝光或烧蚀，形成表面减反射结构(6)；再移动基片工件台(7)或者分束与折光系统(4)，让太阳能电池基片或太阳能电池基片盖板材料表面(5)上已曝光的区域旁边的新的待曝光区域对准分束与折光系统(4)，再次进行干涉曝光，在新的曝光区域范围内再次形成表面减反射结构(6)；沿X，Y方向分别依次扫描移动基片工件台(7)或者分束与折光系统(4)，重复上述曝光过程，最终完成多个表面减反射结构(6)区域的拼接，形成超大面积微纳减反射结构。

3.根据权利要求1或2所述的太阳能电池表面减反射结构的制作系统，其特征在于：所述太阳能电池基片或太阳能电池基片盖板材料表面(5)被激光能量烧蚀或曝光过程也可分两步进行，在第一次用两光束烧蚀或曝光的基础上，将工件台(7)或者将分束与折光系统(4)以预先设定的角度旋转，使干涉条纹图案与第一次曝光的图案成预先设定的角度，然后进行第二次烧蚀或曝光，利用两次干涉图案的强度叠加对基片材料表面进行烧蚀或曝光，以更简单灵活的方式产生预期的表面减反射浮雕结构。

4.根据权利要求1所述的太阳能电池表面减反射结构的制作系统，其特征在于：所述分光元件(8、9、10)和调节折光镜(11、12、13、14)之间的相对摆放位置和角度通过用线位移或角位移控制系统控制。

5.根据权利要求1所述的太阳能电池表面减反射结构的制作系统，其特征在于：所述的三个分光元件(8、9、10)为镀有分光膜的光学分光镜，或分光光栅。

6.根据权利要求1所述的太阳能电池表面减反射结构的制作系统，其特征在于：所述的四个折光镜(11、12、13、14)为镀有反射膜的反光镜，或采用光栅实现折光功能。

7.根据权利要求1所述的太阳能电池表面减反射结构的制作系统，其特征在于：所述三个分光元件(8、9、10)和四个折光镜(11～14)的数量视需要可以加减。

8.根据权利要求1所述的太阳能电池表面减反射结构的制作系统，其特征在于：所述被激光能量烧蚀或曝光的太阳能电池基片或太阳能电池基片盖板材料表面(5)为平面，也可以为非平面。

9.根据权利要求8所述的太阳能电池表面减反射结构的制作系统，其特征在于：所述非平面为柱面、球面、抛物面、双曲面或任何更复杂的高阶曲面。

10.一种太阳能电池表面减反射结构的制作系统，其特征在于实现步骤如下：

(1)激光束由激光器(1)出射后，经扩束镜(2)、准直系统(3)后，进入分束与折光系统(4)，分成多束相干光出射，调整分束与折光系统(4)中三个分光镜(8、9、10)和四个折光镜(11、12、13、14)的摆放位置和角度，使多束相干光中的各束光以各自预先设定的空间入射角同时照射在太阳能电池基片或太阳能电池基片盖板材料表面(5)的位置，反射镜(11～14)的数量视需要可以加减，调整置放于太阳能电池基片或太阳能电池基片盖板材料表面(5)位置前的第一偏振片(16)或者第二偏振片(17)，使参与干涉的每一束相干光的偏振状态一致；

(2)待处理的太阳能电池基片或太阳能基片盖板基片材料表面(5)置放于权利要求1所述的系统的多光束干涉场中，利用调制后光强弱重新分布了的激光能量烧蚀电池基片或太阳能电池基片盖板材料表面(5)，形成微米或纳米级密集的孔、柱浮雕结构；或将太阳能电池基片或者其盖板基片材料表面(5)上先涂覆一层光敏材料，再置放于分束与折光系统(4)中多束相干光干涉场中进行曝光，然后利用刻蚀工艺将曝光的干涉图案传递到太阳能电池基片或者太阳能电池基片盖板基片材料表面(5)，形成减反射结构(6)；或移动基片工件台(7)或者分束与折光系统(4)，利用多光束干涉图案扫描曝光太阳能电池基片或太阳能电池基片盖板材料表面(5)，形成超大面积减反射结构(6)；

(3)通过变换和调整所述分束与折光系统(4)中的三个分光元件(8、9、10)和四个折光镜(11、12、13、14)之间的相对摆放位置和角度，改变照射到太阳能电池基片或太阳能电池基片盖板材料表面(5)上的相干光束的入射角，从而调整表面减反射结构(6)的参数，使系统的光刻特征尺寸可从纳米级到微米级可调。

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