CN101916042A - 多光束半导体激光干涉纳米光刻技术及系统 - Google Patents
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Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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CN2010102344176A CN101916042A (zh) | 2010-07-23 | 2010-07-23 | 多光束半导体激光干涉纳米光刻技术及系统 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN2010102344176A CN101916042A (zh) | 2010-07-23 | 2010-07-23 | 多光束半导体激光干涉纳米光刻技术及系统 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN101916042A true CN101916042A (zh) | 2010-12-15 |
Family
ID=43323576
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN2010102344176A Pending CN101916042A (zh) | 2010-07-23 | 2010-07-23 | 多光束半导体激光干涉纳米光刻技术及系统 |
Country Status (1)
Country | Link |
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CN (1) | CN101916042A (zh) |
Cited By (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102649196A (zh) * | 2011-02-23 | 2012-08-29 | 北京工业大学 | 紫外激光干涉灼蚀有机半导体激光器直写方法 |
CN102838082A (zh) * | 2012-09-24 | 2012-12-26 | 复旦大学 | 一种基于激光干涉光刻在材料表面制作微纳结构的方法 |
CN102942207A (zh) * | 2012-11-13 | 2013-02-27 | 北京科技大学 | 一种制备图案化ZnO纳米棒阵列的方法 |
CN103558368A (zh) * | 2013-11-19 | 2014-02-05 | 长春理工大学 | 一种生物细胞特性测量纳米电极阵列结构及其制造方法 |
CN103663358A (zh) * | 2012-09-20 | 2014-03-26 | 长春理工大学 | 基于激光干涉纳米光刻在硅片上制备超疏水表面的方法 |
CN103852975A (zh) * | 2012-11-30 | 2014-06-11 | 长春理工大学 | 一种激光干涉纳米光刻制备双重周期纳米结构的方法 |
CN103848392A (zh) * | 2012-11-30 | 2014-06-11 | 长春理工大学 | 一种微结构周期可控的大面积黑硅的制造方法 |
CN103990462A (zh) * | 2014-05-19 | 2014-08-20 | 中国矿业大学 | 一种镍基催化剂纳米薄膜的制备方法 |
CN104459875A (zh) * | 2014-12-19 | 2015-03-25 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 相位掩模板自动切换装置 |
CN104708196A (zh) * | 2015-01-21 | 2015-06-17 | 长春理工大学 | 一种增大光电材料有效感光面积的制备方法 |
CN105055050A (zh) * | 2015-08-05 | 2015-11-18 | 长春理工大学 | 表面图案化制备低摩擦高硬度人工髋关节球头的方法 |
CN105467769A (zh) * | 2014-05-26 | 2016-04-06 | 李文迪 | 全光纤激光干涉光刻设备和方法 |
CN103852975B (zh) * | 2012-11-30 | 2016-11-30 | 长春理工大学 | 一种激光干涉纳米光刻制备双重周期纳米结构的方法 |
CN106773545A (zh) * | 2017-01-03 | 2017-05-31 | 吉林大学 | 利用变角度曝光制备复合周期的多级结构的方法及应用 |
CN107290939A (zh) * | 2016-04-01 | 2017-10-24 | 深圳光启高等理工研究院 | 应用在超材料制备中的光刻仪和微结构图案光刻方法 |
CN109709772A (zh) * | 2019-01-21 | 2019-05-03 | 广东工业大学 | 一种基于加速算子分裂的半隐式光源掩膜协同优化方法 |
CN111093883A (zh) * | 2017-04-26 | 2020-05-01 | 4Jet 微科技股份有限公司 | 用于制造沟槽的方法和设备 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN2449258Y (zh) * | 2000-11-08 | 2001-09-19 | 中国科学院光电技术研究所 | 一种干涉光刻多光束形成系统 |
CN1556371A (zh) * | 2004-01-02 | 2004-12-22 | 清华大学 | 多功能三维位移激光干涉测量系统 |
CN1786748A (zh) * | 2005-11-17 | 2006-06-14 | 苏州大学 | 衍射光变图像的高速激光直写方法和系统 |
CN101560663A (zh) * | 2009-06-03 | 2009-10-21 | 长春理工大学 | 基于纳米掩膜制备技术的电化学制备纳米阵列结构材料方法 |
-
2010
- 2010-07-23 CN CN2010102344176A patent/CN101916042A/zh active Pending
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN2449258Y (zh) * | 2000-11-08 | 2001-09-19 | 中国科学院光电技术研究所 | 一种干涉光刻多光束形成系统 |
CN1556371A (zh) * | 2004-01-02 | 2004-12-22 | 清华大学 | 多功能三维位移激光干涉测量系统 |
CN1786748A (zh) * | 2005-11-17 | 2006-06-14 | 苏州大学 | 衍射光变图像的高速激光直写方法和系统 |
CN101560663A (zh) * | 2009-06-03 | 2009-10-21 | 长春理工大学 | 基于纳米掩膜制备技术的电化学制备纳米阵列结构材料方法 |
Non-Patent Citations (3)
Title |
---|
BRUCE D. MACLEOD等: "Fully Automated Interference Lithography", 《PROCEEDINGS OF SPIE》, vol. 4668, 31 December 2002 (2002-12-31) * |
CARL G.CHEN等: "nanometer accurate grating fabrication with scanning beam interference lithography", 《NANO AND MICROTECHNOLOGY: MATERIALS,PROCESSES,PACKAGING,AND SYSTEMS》, vol. 49362002, 31 December 2002 (2002-12-31) * |
张锦等: "掩模投影成像干涉光刻研究", 《光电工程》, vol. 33, no. 02, 28 February 2006 (2006-02-28) * |
Cited By (25)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102649196A (zh) * | 2011-02-23 | 2012-08-29 | 北京工业大学 | 紫外激光干涉灼蚀有机半导体激光器直写方法 |
CN103663358A (zh) * | 2012-09-20 | 2014-03-26 | 长春理工大学 | 基于激光干涉纳米光刻在硅片上制备超疏水表面的方法 |
CN103663358B (zh) * | 2012-09-20 | 2016-11-23 | 长春理工大学 | 基于激光干涉纳米光刻在硅片上制备超疏水表面的方法 |
CN102838082A (zh) * | 2012-09-24 | 2012-12-26 | 复旦大学 | 一种基于激光干涉光刻在材料表面制作微纳结构的方法 |
CN102942207A (zh) * | 2012-11-13 | 2013-02-27 | 北京科技大学 | 一种制备图案化ZnO纳米棒阵列的方法 |
CN102942207B (zh) * | 2012-11-13 | 2014-10-15 | 北京科技大学 | 一种制备图案化ZnO纳米棒阵列的方法 |
CN103852975B (zh) * | 2012-11-30 | 2016-11-30 | 长春理工大学 | 一种激光干涉纳米光刻制备双重周期纳米结构的方法 |
CN103852975A (zh) * | 2012-11-30 | 2014-06-11 | 长春理工大学 | 一种激光干涉纳米光刻制备双重周期纳米结构的方法 |
CN103848392A (zh) * | 2012-11-30 | 2014-06-11 | 长春理工大学 | 一种微结构周期可控的大面积黑硅的制造方法 |
CN103848392B (zh) * | 2012-11-30 | 2016-10-19 | 长春理工大学 | 一种微结构周期可控的大面积黑硅的制造方法 |
CN103558368B (zh) * | 2013-11-19 | 2015-12-30 | 长春理工大学 | 一种生物细胞特性测量纳米电极阵列结构及其制造方法 |
CN103558368A (zh) * | 2013-11-19 | 2014-02-05 | 长春理工大学 | 一种生物细胞特性测量纳米电极阵列结构及其制造方法 |
CN103990462A (zh) * | 2014-05-19 | 2014-08-20 | 中国矿业大学 | 一种镍基催化剂纳米薄膜的制备方法 |
CN105467769B (zh) * | 2014-05-26 | 2022-03-11 | 李文迪 | 全光纤激光干涉光刻设备和方法 |
CN105467769A (zh) * | 2014-05-26 | 2016-04-06 | 李文迪 | 全光纤激光干涉光刻设备和方法 |
US10133007B2 (en) | 2014-05-26 | 2018-11-20 | Wendi Li | All fiber laser interference lithography setup and methods |
CN104459875A (zh) * | 2014-12-19 | 2015-03-25 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 相位掩模板自动切换装置 |
CN104459875B (zh) * | 2014-12-19 | 2017-04-05 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 相位掩模板自动切换装置 |
CN104708196A (zh) * | 2015-01-21 | 2015-06-17 | 长春理工大学 | 一种增大光电材料有效感光面积的制备方法 |
CN105055050A (zh) * | 2015-08-05 | 2015-11-18 | 长春理工大学 | 表面图案化制备低摩擦高硬度人工髋关节球头的方法 |
CN107290939A (zh) * | 2016-04-01 | 2017-10-24 | 深圳光启高等理工研究院 | 应用在超材料制备中的光刻仪和微结构图案光刻方法 |
CN106773545A (zh) * | 2017-01-03 | 2017-05-31 | 吉林大学 | 利用变角度曝光制备复合周期的多级结构的方法及应用 |
CN111093883A (zh) * | 2017-04-26 | 2020-05-01 | 4Jet 微科技股份有限公司 | 用于制造沟槽的方法和设备 |
CN111093883B (zh) * | 2017-04-26 | 2022-08-30 | 4Jet 微科技股份有限公司 | 用于制造沟槽的方法和设备 |
CN109709772A (zh) * | 2019-01-21 | 2019-05-03 | 广东工业大学 | 一种基于加速算子分裂的半隐式光源掩膜协同优化方法 |
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PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
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