CN2449258Y - 一种干涉光刻多光束形成系统 - Google Patents
一种干涉光刻多光束形成系统 Download PDFInfo
- Publication number
- CN2449258Y CN2449258Y CN 00244922 CN00244922U CN2449258Y CN 2449258 Y CN2449258 Y CN 2449258Y CN 00244922 CN00244922 CN 00244922 CN 00244922 U CN00244922 U CN 00244922U CN 2449258 Y CN2449258 Y CN 2449258Y
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- beams
- interference lithography
- diaphragm
- prism
- laser
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000000025 interference lithography Methods 0.000 title claims abstract description 18
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 9
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 5
- 238000004377 microelectronic Methods 0.000 abstract description 2
- 238000003491 array Methods 0.000 abstract 1
- 238000001259 photo etching Methods 0.000 abstract 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 2
- 230000007812 deficiency Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 230000005570 vertical transmission Effects 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
一种干涉光刻多光束形成系统,属于对微细图形干涉光刻系统的改进。其特征是激光器发出的光经扩束、空间滤波和准直之后照射到一个梯形棱镜上,经该棱镜折射形成五束在一定距离处相迭加的平行光,这些光束由区域性选择开启的快门控制,在涂有感光材料的基片上产生双光束、三光束、四光束和五光束干涉光刻图形。该系统结构简单、成本低,所产生的多光束之间的光程差小。该系统可广泛用于光电子、微电子器件、大屏幕显示器和场发射器件阵列的产生。
Description
本实用新型是一种干涉光刻的多光束形成系统,属于对微细图形干涉光刻系统的进一步改进。
一般的干涉光刻系统中的多束激光形成系统由激光器、扩束准直、空间滤波、反射装置等组成。通过组成系统的分光镜、全反射镜使激光形成多束且以一定的交角叠加产生干涉,并通过感光材料基片转动装置对基片进行多次曝光,在基片上生成周期性孔阵或线阵图形。这种干涉光刻系统的不足之处在于其结构较复杂,光束强度比调节较难,特别是调节光程更难,影响产生的干涉图形对比度、均匀性和质量。
本实用新型的目的在于克服现有技术的不足而提出一种结构简单的高分辨、大视场、长焦深干涉光刻系统。
本实用新型的目的可以通过以下技术措施实现:干涉光刻多光束形成系统包括激光器、扩束器、空间滤波器和准直器,激光器发出的激光经扩束器、空间滤波器和准直器形成平行光,该平行光经过光阑进入梯形棱镜后折射出可在感光材料基片上产生不同周期结构的干涉光刻图形的多束激光。
本实用新型的目的也可通过以下技术措施实现:光阑为可区域性选择开启的光阑。
本实用新型的目的还可通过以下技术措施实现:梯形棱镜也可由平晶和四个直角棱镜组合而成。
本实用新型与现有技术相比有以下优点:由于该系统直接用梯形棱镜(或者由平晶与四个直角棱镜组合而成)产生可用于干涉的多束激光,故系统结构简单,制造成本较低。
该系统采用了一个专门设计的可区域性选择开启的光阑控制所要求的区域内光束的通断,可方便地形成双光束、三光束、四光束等多光束干涉。
由于该系统采用波前分割形成五束光,强度均匀,光程差小,故可提高干涉图形对比度,改善光刻图形质量。
由于本实用新型的多光束形成系统可实现大视场、高分辨、长焦深干涉光刻,因此可广泛用于光电子、微电子器件,大屏幕显示器和场发射器件阵列的产生。
下面结合附图与实施例对本实用新型作进一步说明:
图1为本实用新型实施例的多光束形成系统光学结构图。
图2为本实用新型实施例由分离光学元件组合的梯形棱镜结构图。
如图1所示,本实用新型的干涉光刻多光束形成系统包括有激光器1、扩束器2、空间滤波器3、和准直器4等。激光器1发出的激光经过扩束器2扩束后,再经过空间滤波器3和准直器4形成一束平面波,该平面波通过光阑5,进入梯形棱镜6,由该梯形棱镜6的顶面垂直透射形成一束平面波,由该梯形棱镜6的四个侧面各折射出一束平面波,形成光束①~⑤。光束①~⑤都到达涂有感光材料的基片7。由于光阑5的作用,这些平面波中的二束、三束、四束或五束相干涉,对基片7进行曝光。
本实用新型的光阑5是一个可区域性选择开启的光阑,用光阑5控制所要求的区域内光束的通断,可方便形成双光束、三光束、四光束或五光束干涉,在基片7上产生不同周期结构的干涉光刻图形。
如图2所示,分离光学元件——平晶8和直角棱镜9、10、11和12组合亦可构成梯形棱镜6,实现其功能。通过改变梯形棱镜6或分离元件直角棱镜9、10、11和12的角度设计,可改变形成的多束激光之间的夹角以产生不同周期结构的干涉图形。
Claims (3)
1.一种干涉光刻多光束形成系统,包括激光器(1)、扩束器(2)、空间滤波器(3)和准直器(4),激光器(1)发出的激光经扩束器(2)、空间滤波器(3)和准直器(4)形成平行光,其特征在于:该平行光经光阑(5)进入梯形棱镜(6)后折射出可在感光材料基片(7)上产生不同周期性结构的干涉光刻图形的多束激光。
2.根据权利要求1所述的干涉光刻多光束形成系统,其特征在于:光阑(5)为可区域性选择开启的光阑。
3.根据权利要求1或者2所述的干涉光刻多光束形成系统,其特征在于:梯形棱镜(6)也可由平晶(6)和直角棱镜(8)、(9)、(10)、(11)组合而成。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN 00244922 CN2449258Y (zh) | 2000-11-08 | 2000-11-08 | 一种干涉光刻多光束形成系统 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN 00244922 CN2449258Y (zh) | 2000-11-08 | 2000-11-08 | 一种干涉光刻多光束形成系统 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN2449258Y true CN2449258Y (zh) | 2001-09-19 |
Family
ID=33604509
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN 00244922 Expired - Fee Related CN2449258Y (zh) | 2000-11-08 | 2000-11-08 | 一种干涉光刻多光束形成系统 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN2449258Y (zh) |
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN100338529C (zh) * | 2003-03-25 | 2007-09-19 | 富士胶片株式会社 | 曝光装置 |
CN100406931C (zh) * | 2004-01-09 | 2008-07-30 | 厦门大学 | 三维光子晶体制备方法及其装置 |
CN100476591C (zh) * | 2003-11-03 | 2009-04-08 | 英特尔公司 | 干涉图形化 |
CN100510963C (zh) * | 2004-04-26 | 2009-07-08 | 中国科学院光电技术研究所 | 转动掩模和抗蚀剂硅片的成像干涉光刻方法及其光刻系统 |
CN100541331C (zh) * | 2004-08-05 | 2009-09-16 | 中国科学院光电技术研究所 | 采用选通快门和梯形棱镜的成像干涉光刻方法及其光刻系统 |
CN101916042A (zh) * | 2010-07-23 | 2010-12-15 | 长春理工大学 | 多光束半导体激光干涉纳米光刻技术及系统 |
CN101344726B (zh) * | 2007-07-09 | 2011-08-03 | 财团法人工业技术研究院 | 制作周期性图案的步进排列式干涉微影方法及其装置 |
CN102736427A (zh) * | 2011-04-07 | 2012-10-17 | 上海微电子装备有限公司 | 一种曝光装置及其方法 |
CN101052921B (zh) * | 2004-10-22 | 2013-03-27 | 尤利塔股份公司 | 在样品上生成周期性和/或准周期性图形的系统和方法 |
CN104635435A (zh) * | 2015-02-10 | 2015-05-20 | 合肥工业大学 | 一种用于加工交叉网状微结构的光学组件 |
CN105301783A (zh) * | 2014-05-28 | 2016-02-03 | 长春理工大学 | 基于自清洁表面结构制造的六光束干涉系统 |
CN112462497A (zh) * | 2020-12-07 | 2021-03-09 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 光子集成干涉大视场成像系统 |
-
2000
- 2000-11-08 CN CN 00244922 patent/CN2449258Y/zh not_active Expired - Fee Related
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN100338529C (zh) * | 2003-03-25 | 2007-09-19 | 富士胶片株式会社 | 曝光装置 |
CN100476591C (zh) * | 2003-11-03 | 2009-04-08 | 英特尔公司 | 干涉图形化 |
CN100406931C (zh) * | 2004-01-09 | 2008-07-30 | 厦门大学 | 三维光子晶体制备方法及其装置 |
CN100510963C (zh) * | 2004-04-26 | 2009-07-08 | 中国科学院光电技术研究所 | 转动掩模和抗蚀剂硅片的成像干涉光刻方法及其光刻系统 |
CN100541331C (zh) * | 2004-08-05 | 2009-09-16 | 中国科学院光电技术研究所 | 采用选通快门和梯形棱镜的成像干涉光刻方法及其光刻系统 |
CN101052921B (zh) * | 2004-10-22 | 2013-03-27 | 尤利塔股份公司 | 在样品上生成周期性和/或准周期性图形的系统和方法 |
CN101344726B (zh) * | 2007-07-09 | 2011-08-03 | 财团法人工业技术研究院 | 制作周期性图案的步进排列式干涉微影方法及其装置 |
CN101916042A (zh) * | 2010-07-23 | 2010-12-15 | 长春理工大学 | 多光束半导体激光干涉纳米光刻技术及系统 |
CN102736427A (zh) * | 2011-04-07 | 2012-10-17 | 上海微电子装备有限公司 | 一种曝光装置及其方法 |
CN105301783A (zh) * | 2014-05-28 | 2016-02-03 | 长春理工大学 | 基于自清洁表面结构制造的六光束干涉系统 |
CN104635435A (zh) * | 2015-02-10 | 2015-05-20 | 合肥工业大学 | 一种用于加工交叉网状微结构的光学组件 |
CN112462497A (zh) * | 2020-12-07 | 2021-03-09 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 光子集成干涉大视场成像系统 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN2432001Y (zh) | 一种激光干涉光刻系统 | |
US6285817B1 (en) | Holographic patterning method and tool for production environments | |
CN2449258Y (zh) | 一种干涉光刻多光束形成系统 | |
KR100827874B1 (ko) | 노광 장치, 노광 장치의 제조 방법, 노광 방법, 마이크로 장치의 제조 방법, 및 디바이스의 제조 방법 | |
CN103403621B (zh) | 用于在大面积上产生纳米结构的系统和方法 | |
CN108445555A (zh) | 超表面透镜 | |
CN208283579U (zh) | 超表面透镜 | |
KR101547714B1 (ko) | 빔 형성 장치 | |
EP1630615A2 (en) | Adjustable resolution interferometric lithography system | |
CN102253605A (zh) | 多光束激光并行直写光栅的装置及光栅直写方法 | |
TWI484307B (zh) | 以光纖作為空間濾波器與擴束器之雷射干涉微影設備 | |
KR101560617B1 (ko) | 광 발생 장치 및 그 제어 방법 | |
CN101006553A (zh) | 光学积分器、照明光学装置、曝光装置、方法及元件制法 | |
CN105182542A (zh) | 光照射装置以及绘图装置 | |
CN107643656A (zh) | 一种激光双光束干涉光刻系统 | |
JP2004536350A (ja) | 空間的に部分的にコヒーレントな光ビームの強度分布の回折成形 | |
CN114460731B (zh) | 一种基于dmd的多色结构光照明超分辨显微成像方法和装置 | |
JP2018537718A (ja) | 幾何要素のアレイを印刷するための方法およびシステム | |
JP2022527161A (ja) | 変化するデューティサイクルを有する周期的なパターンを印刷するための方法および装置 | |
CN103424996A (zh) | 一种光学加工系统和方法 | |
EP3283816B1 (de) | Beleuchtungsvorrichtung für ein kraftfahrzeug | |
CN109343162A (zh) | 基于超透镜的激光直写装置及其激光直写方法 | |
CN1556444A (zh) | 三维光子晶体制备方法及其装置 | |
DE102015115064A1 (de) | Beleuchtungseinheit und Vorrichtung zur lithografischen Belichtung | |
CN103424795A (zh) | 一种反射式分光光栅及干涉光刻系统 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant | ||
C19 | Lapse of patent right due to non-payment of the annual fee | ||
CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |