CN101898313A - 防飞屑机床 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种机械加工领域的加工机床，具体涉及一种防飞屑机床，包括机床本体(1)，其特征在于：在机床本体(1)和工人之间设置一透明层(2)，该透明层(2)上部设有若干活动圈(3)，横杆(4)穿过活动圈(3)将透明层(2)固定在空中；所述的横杆(4)为椭圆圈状，水平设置在机床主体(1)上空并有支撑架(5)固定；所述的透明层(2)为高透明度的塑料膜。本发明的作用是：在机床上空这是透明层，其本身成本就非常低，而且非常有效的阻止了飞屑伤人的问题，也在一定程度上将飞屑集中了便于后期清理。
Description
技术领域
本发明涉及机械加工领域的加工机床，具体涉及一种防飞屑机床。
背景技术
目前使用最普遍的机床，多为只有一主体的机床，在其加工工件的时候，所产生的金属飞屑和金属粉末等会四处飞溅，这些飞屑一直都是加工工人最头痛的问题，机械加工往往都需要极其仔细的控制加工精度，而飞屑四溅，很容易射伤工人，使得工人不得不带上眼镜和口罩来防御，也相应的会有所分神。
为了解决飞屑的问题，目前已经出现了吸尘机床，如2008年7月7日申请的中国专利“CN200810071353.5”中是为目前较先进的吸尘机床，但是这种机床结构太过复杂，不管是购买成本还是运行成本都非常的高，无法普及以为大众服务。
发明内容
本发明克服了现有技术的不足，提供了一种防飞屑机床，解决了低成本的情况下无法有效的防治飞屑的问题。
为解决上述的技术问题，本发明采用以下技术方案：
提供一种防飞屑机床，包括机床本体，在机床本体和工人之间设置一透明层，该透明层上部设有若干活动圈，横杆穿过活动圈将透明层固定在空中。
更进一步的技术方案是：
所述的横杆为椭圆圈状，水平设置在机床主体上空并有支撑架固定。
所述的透明层为高透明度的塑料膜。
与现有技术相比，本发明的有益效果是：在机床上空这是透明层，其本身成本就非常低，而且非常有效的阻止了飞屑伤人的问题，也在一定程度上将飞屑集中了便于后期清理。
附图说明
图1为本发明结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图对本发明作进一步阐述。
提供一种防飞屑机床，包括机床本体1，在机床本体1和工人之间设置一高透明度的塑料膜2，该塑料膜2上部设有若干活动圈3，横杆4穿过活动圈3将塑料膜2固定在空中；横杆4为椭圆圈状，水平设置在机床主体1上空并有支撑架5固定。这样当需要操作的时候可以仅仅的用手伸过塑料膜2进行操作并能清楚的观察情况，也方便其他人在一边观摩或学习。
Claims (3)
1.防飞屑机床，包括机床本体(1)，其特征在于：在机床本体(1)和工人之间设置一透明层(2)，该透明层(2)上部设有若干活动圈(3)，横杆(4)穿过活动圈(3)将透明层(2)固定在空中。
2.根据权利要求1所述的防飞屑机床，其特征在于：所述的横杆(4)为椭圆型圈状，水平设置在机床主体(1)上空并有支撑架(5)固定。
3.根据权利要求1所述的防飞屑机床，其特征在于：所述的透明层(2)为高透明度的塑料膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| CN 201010255286 CN101898313A (zh) | 2010-08-17 | 2010-08-17 | 防飞屑机床 |
Applications Claiming Priority (1)
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| CN 201010255286 CN101898313A (zh) | 2010-08-17 | 2010-08-17 | 防飞屑机床 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN101898313A true CN101898313A (zh) | 2010-12-01 |
Family
ID=43224418
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN 201010255286 Pending CN101898313A (zh) | 2010-08-17 | 2010-08-17 | 防飞屑机床 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN101898313A (zh) |
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2010
- 2010-08-17 CN CN 201010255286 patent/CN101898313A/zh active Pending
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| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
| WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Open date: 20101201 |