CN101893975A - 一种电容触摸屏及其制造方法 - Google Patents

Abstract

一种电容触摸屏，包括透明基板和触摸感应部件，触摸感应部件包括两个方向的电极，两个方向的电极都形成于同一导电膜层上；第一个方向的电极在导电膜层上连续设置；第二个方向的电极在导电膜层上以第一个方向的电极为间隔分成若干电极块，其特征是：所述导电桥是形成在透明基板上的金属条；绝缘层是形成在金属条中段的表层上的金属氧化物绝缘层；在交错点上，金属条的两端分别与第二个方向的电极中相邻的两电极块连接，第一个方向的电极跨过金属氧化物绝缘层并且附着在金属氧化物绝缘层的表面上。本发明中，在交错点上，导电桥、金属氧化物绝缘层和第一个方向的电极之间力学匹配性较好，结合紧密，不容易出现界面分离而导致电极断路失效。

Description

一种电容触摸屏及其制造方法

技术领域

本发明涉及用于人机之间交互的输入装置，具体地说，涉及一种电容触摸屏及其制造方法。

背景技术

将透明的触摸屏设置在显示器的画面前，构成显示触控系统，通过画面显示与触摸感应相互配合的显示触控方式，具有极强的交互性，目前已成为掌上设备、便携式设备的主流输入方式，例如苹果公司、宏达电(HTC)等厂商所生产的手机、平板电脑基本上都采用显示触控方式进行输入；而在软件方面，无论是Google推出的手机平台Android，还是微软推出的PC操作系统Windows7，也都支持显示触控方式。可见，显示触控方式及其相关技术，具有非常广大的应用前景。

触摸屏中，投射式电容触摸屏可实现多点和准确的触摸感应，而且结构简单、透光率高，是当前显示触控技术发展的主流方向。投射式电容触摸屏的触摸感应部件一般为多个行电极、列电极相互交错形成的感应矩阵。一种设计方案中，触摸感应部件的行电极、列电极分别设置在一片透明基板的两面，以防止其在交错点相互短路。另一种设计方案中，触摸感应部件的行电极和列电极设置在一片透明基板的同一面(可以是透明基板的外表面或内表面)上，并在行电极与列电极的交错点通过一定的绝缘层隔开，以防止其在交错点相互短路，这种情况下，使行电极和列电极都形成于同一导电膜层上，将可以防止电极反射光的不一致。

在触摸感应部件的行电极和列电极设置在一片透明基板的同一面(即行电极和列电极均设置在透明基板的外表面，或行电极和列电极均设置在透明基板的内表面)上，并且行电极和列电极都形成于同一导电膜层上的情况下，必须在行电极与列电极的交错点通过一定的架桥结构，将行电极与列电极隔开并保证其在各自的方向上导通，其特点为：第一个方向的电极(如行电极或列电极)在导电膜层上连续设置；第二个方向的电极(相应的，为列电极或行电极)在导电膜层上以第一个方向的电极为间隔分成若干电极块；在交错点上，通过导电桥将第二个方向的电极中相邻两电极块连接，形成连续的第二个方向的电极，并且导电桥与第一个方向的电极之间由绝缘层分隔，以防止两个方向的电极在交错点相互短路。具体设计中，交错点处的层状结构有下述两种设计方式：(1)依次为透明基板、第一个方向的电极、绝缘层、导电桥；或(2)依次为透明基板、导电桥、绝缘层、第一个方向的电极。

目前，本技术领域所采用的架桥结构中，导电桥大多采用氧化铟锡(ITO)或金属形成，导电膜层大多采用氧化铟锡(ITO)形成；而绝缘层大多为采用光敏树脂经过涂布、曝光、显影形成的块状树脂垫衬，其厚度一般为1～5μm；架桥结构的部位(即交错点处)形成了高于触摸感应部件其他部位的突出。一方面，由于导电桥和第一个方向的电极的材料为无机材料，而光敏树脂形成的块状树脂垫衬为有机材料，因此导电桥与块状树脂垫衬之间、块状树脂垫衬与第一个方向的电极之间的力学匹配性比较差(如存在较大的弹性差别、强度差别)，使得触摸屏的工作稳定性及使用寿命受到影响，如在整体受力弯曲变形的时候容易在界面出现分离，导致电极断路失效。尤其是触摸感应部件设置在透明基板外表面的情况，虽然一般还在触摸感应部件上面覆盖有保护层或盖板，对触摸感应部件起容性隔离和一定保护作用，但触摸感应部件依然不可避免的会受到手指、触控笔等触摸体的按压作用，尤其是相对于触摸感应部件其他部位突出的架桥结构更容易受到这种按压作用而出现界面分离，导致电极断路失效，触摸感应部件损坏。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是提供一种投射式电容触摸屏及其制造方法，这种投射式电容触摸屏中，触摸感应部件的两个方向的电极(通常分别称为行电极和列电极)设置在一片透明基板的同一面上，并且两个方向的电极都形成于同一导电膜层上，两个方向的电极的交错点上具有结构牢固、不易受损的架桥结构，使电容触摸屏可靠性高、使用寿命长。采用的技术方案如下：

一种电容触摸屏，包括透明基板和触摸感应部件，触摸感应部件包括两个方向的电极，两个方向的电极相互交错并且设置在透明基板的同一面上，并且两个方向的电极都形成于同一导电膜层上；第一个方向的电极在导电膜层上连续设置；第二个方向的电极在导电膜层上以第一个方向的电极为间隔分成若干电极块；在交错点上，通过导电桥将第二个方向的电极中相邻两电极块连接，形成连续的第二个方向的电极，并且导电桥与第一个方向的电极之间由绝缘层分隔，其特征是：所述导电桥是形成在透明基板上的金属条；绝缘层是形成在金属条中段的表层上的金属氧化物绝缘层；在交错点上，金属条的两端分别与第二个方向的电极中相邻的两电极块连接，第一个方向的电极跨过金属氧化物绝缘层并且附着在金属氧化物绝缘层的表面上。

上述的金属条，其材质可以是金属单质，也可以是合金；整个金属条可以由一种材质形成，也可以是多种材质复合而成，如由不同金属形成的多层金属结构。

为了工艺的简单化，在优选金属条的材质为金属单质的情况下，所选择的金属为能够经过氧化而有效形成绝缘金属氧化物的金属，更具体地说，为除了金(Au)、铂(Pt)之外的所有金属。考虑到氧化物的稳定性，优选的金属元素不包括碱金属以及所有原子序数为55以上的金属元素；考虑到产品成本，进一步优选铝(Al)、铁(Fe)、镁(Mg)、锌(Zn)四种金属，相应地所形成的金属氧化物绝缘层的材质分别为氧化铝(Al₂O₃)、四氧化三铁(Fe₃O₄)、氧化镁(MgO)、氧化锌(ZnO)，氧化铝(Al₂O₃)、四氧化三铁(Fe₃O₄)、氧化镁(MgO)、氧化锌(ZnO)都具有良好的绝缘性。其中，由于铝具有良好的导电性，并且氧化铝具有极高的化学稳定性、致密性、绝缘性和硬度，因此最优选金属条的材质为铝。

选择合金作为金属条的材质可以获得更良好的力学性能和界面结合性能，所选择合金材料可以为二元合金或多元合金，通常采用铝、铁、镁、锌等金属单质作为合金的主要成分。

选择多层金属结构作为金属条，将可以获得更加良好的界面结合性能，并且克服合金氧化物绝缘性不良的缺点。如优选底层(即与透明基板结合的层)为铝钕合金(钕占2％)、顶层为铝单质的双层金属结构，将可以保证氧化物为具有良好绝缘性的纯氧化铝，而通过铝钕合金与玻璃材质的透明基板结合将可以获得与玻璃一致的热胀冷缩率，从而获得更好的界面结合性能。

具体设计中，优选上述金属条中段(即导电桥中段)的厚度为0.2～5μm，金属氧化物绝缘层的厚度为0.2～5μm，金属条端部的厚度为0.2～10μm。更优选金属条中段的厚度为0.2～0.25μm，金属氧化物绝缘层的厚度为1～2μm，金属条端部的厚度为1.2～2.25μm。

优选上述金属条的边缘存在一定坡度(即金属条的侧面为斜面)，金属氧化物绝缘层覆盖在金属条边缘的部位也存在一定坡度(即金属氧化物绝缘层覆盖在金属条边缘的部位的表面为斜面)，使导电膜层覆盖在架桥结构边缘的部分从透明基板至架桥结构上表面(即架桥结构远离透明基板的一面)平缓过渡，以防止第一个方向的电极、第二个方向的电极中的电极块覆盖在架桥结构边缘的部位因弯折程度较大而出现断裂。

上述金属氧化物绝缘层形成在金属条中段上表面及两个侧面的表层，也就是说，金属氧化物绝缘层对金属条中段的覆盖，应当包括对金属条中段的上表面及两个侧面的覆盖，从而使金属氧化物绝缘层将金属条与第一个方向的电极完全分隔开。

在上述金属条中段的表层上形成金属氧化物绝缘层，可以采用先氧化再刻蚀的方法，具体如下：(1)、将金属条的整个表层氧化；(2)、通过掩膜刻蚀方法，刻蚀掉部分氧化层，使金属条的两端露出(可以刻蚀掉两端的氧化层，只保留中段的氧化层；也可以只在两端的氧化层上分别形成一个过孔，露出金属)。在上述金属条中段的表层上形成金属氧化物绝缘层，也可以采用下述方法：利用掩膜遮住金属条或合金条的两端，再对金属条或合金条没有被掩膜遮住的部分进行氧化，在金属条或合金条没有被掩膜遮住的部分的表层上形成氧化层(这种方法中，要求金属条或合金条至少其中段没有被掩膜遮住；而金属条或合金条的两端可以全部被掩膜遮住，也可以金属条或合金条的两端只有一部分被掩膜遮住)。

为了构成完整的触摸屏，还在触摸感应部件的周边设计有周边引线，周边引线所包含的多个导线分别将各个行、列电极连接到设置在透明基板某边缘处的外接端口上。周边引线可以单独或者混合采用以下四种结构：1)、在透明基板之上，依次为金属层、金属氧化物绝缘层；2)、在透明基板之上，依次为金属层、金属氧化物绝缘层、导电膜层；3)、在透明基板之上，只有导电膜层；4)、在透明基板之上，依次为金属层、导电膜层。外接端口可以单独或者混合采用两种结构：1)、在透明基板之上，依次为金属层、导电膜层；2)、在透明基板之上，只有导电膜层。

在触摸感应部件设置在透明基板外表面的情况下，在触摸感应部件上面还覆盖有保护层或盖板等绝缘性介质，对触摸感应部件起容性隔离和保护作用。

另一方面，本发明还提供上述电容触摸屏的制造方法，其特征在于依次包括下述步骤：

(1)在透明基板的一面上形成金属膜；形成金属膜的方法可以是电镀、真空蒸镀或溅射镀膜；形成的金属膜可以是单层结构或多层结构；

(2)在金属膜上涂布一层光刻胶；

(3)对步骤(2)形成的光刻胶层进行曝光、显影，保留覆盖在金属膜需要形成金属条的部位上的光刻胶，去除其余部位的光刻胶；

(4)采用湿刻法或干刻法对金属膜进行蚀刻，保留经步骤(3)处理后由光刻胶覆盖的部分金属膜，去除其余部分的金属膜，形成由光刻胶覆盖的金属条；

(5)去除覆盖在金属条上的光刻胶，使金属条的表面暴露；

(6)对金属条进行氧化处理，在金属条的表层形成金属氧化物绝缘层；氧化处理方法可以采用在氧化气氛中进行的常温氧化、热氧化或紫外光辅助氧化，或在溶液中进行的化学氧化，或在等离子体中进行等离子体表面氧化或等离子体注入氧化；

(7)再次涂布一层光刻胶，光刻胶层覆盖所有金属氧化物绝缘层；光刻胶层可以覆盖透明基板形成有金属氧化物绝缘层的整个面，也可以只覆盖有金属氧化物绝缘层的部位；

(8)对步骤(7)形成的光刻胶层进行曝光、显影，去除光刻胶层与金属条两端对应部位的光刻胶，使相应部位的金属氧化物绝缘层(即覆盖在金属条两端的金属氧化物绝缘层)暴露；本步骤中，经过曝光、显影后，至少应保留光刻胶层与金属条中段对应部位的光刻胶，使覆盖在金属条中段的金属氧化物绝缘层被光刻胶覆盖，而覆盖在金属条两端的金属氧化物绝缘层可以全部暴露或只有局部暴露；

(9)采用湿刻法或干刻法蚀刻金属氧化物绝缘层，保留经步骤(8)处理后由光刻胶覆盖的部分金属氧化物绝缘层，去除其余部分的金属氧化物绝缘层，使金属条两端的金属暴露出来(即没有被金属氧化物绝缘层覆盖)；当步骤(8)中覆盖在金属条两端的金属氧化物绝缘层全部暴露时，本步骤中金属条两端完全暴露；当步骤(8)中覆盖在金属条两端的金属氧化物绝缘层只有局部暴露时，本步骤中通常在金属氧化物绝缘层上形成两个过孔，两过孔分别连通金属条的两端；

(10)去除透明基板上剩余的光刻胶，露出导电桥结构；形成在透明基板上的金属条构成导电桥，金属氧化物绝缘层形成在金属条中段的表层上，金属条露出的两端用于连接电极块；

(11)在透明基板形成有导电桥结构的一面上形成导电膜层(通常为ITO膜)；导电膜层附着于金属条露出的两端的表面、金属氧化物绝缘层的表面、以及透明基板形成有导电桥结构的一面的其余表面(即透明基板该表面上未被导电桥结构覆盖的部分)；

(12)图形化导电膜层，也就是说，在导电膜层上刻蚀出断区，断区将导电膜层分割成若干个连续设置的第一个方向的电极、以及以第一个方向的电极为间隔的若干个第二个方向的电极块；第二个方向的电极块的两端分别连接与其相邻的两个金属条的相邻端部，且金属条的两端分别连接与其相邻的两个第二个方向的电极块，形成连续的第二个方向的电极；第一个方向的电极跨过金属氧化物绝缘层并且附着在金属氧化物绝缘层的表面上，使得第一个方向的电极与第二个方向的电极相互绝缘。

按照上述步骤，可以在透明基板上形成包含行电极、列电极、架桥结构的触摸感应部件，得到投射式电容触摸屏。在触摸感应部件设置在透明基板外表面的情况下，通常还在触摸感应部件上覆盖保护层或盖板等绝缘性介质。

当需要在触摸感应部件的周边设计周边引线及外接端口时，步骤(3)应保留覆盖在金属膜需要形成周边引线及外接端子的部位上的光刻胶；步骤(4)还形成光刻胶覆盖的形成周边引线、外接端子所需的金属层；步骤(5)去除光刻胶后，使周边引线、外接端子所需的金属层的表面暴露；(6)还对周边引线、外接端子所需的金属层进行氧化处理；步骤(8)对步骤(7)形成的光刻胶层进行曝光、显影，去除光刻胶层与周边引线、外接端子中需要去除氧化层部分对应的光刻胶；步骤(9)采用湿刻法或干刻法蚀刻金属氧化物绝缘层时，还使周边引线、外接端子中金属暴露部分的金属暴露出来。

本发明中，交错点处的层状结构依次为透明基板、导电桥(即金属条)、金属氧化物绝缘层、第一个方向的电极；在交错点上，通过上述架桥结构，将两个方向的电极隔开并保证其在各自的方向上导通。由于金属氧化物绝缘层是在金属条的表层上经过氧化形成的，金属氧化物绝缘层与金属条之间具有良好的结合力；而且导电膜层通常采用氧化铟锡(ITO)形成，氧化铟锡与金属氧化物绝缘层同为金属氧化物，也具有良好的结合力。这样，在交错点上，依次设于透明基板上的导电桥(即金属条)、金属氧化物绝缘层和第一个方向的电极之间力学匹配性较好，结合紧密，使得触摸屏在整体受力弯曲变形时，甚至是触摸感应部件设置在透明基板外表面的情况下，触摸感应部件受到手指、触控笔等触摸体的直接按压时候，都不容易出现界面分离而导致电极断路失效。

附图说明

图1是本发明电容触摸屏的制造方法步骤(1)的示意图；

图2是本发明电容触摸屏的制造方法步骤(2)的示意图；

图3a是本发明电容触摸屏的制造方法步骤(3)的示意图；

图3b是图3a的A-A剖视图(局部)；

图4a是本发明电容触摸屏的制造方法步骤(4)的示意图；

图4b是图4a的B-B剖视图(局部)；

图5a是本发明电容触摸屏的制造方法步骤(5)的示意图；

图5b是图5a的C-C剖视图(局部)；

图6a是本发明电容触摸屏的制造方法步骤(6)的示意图；

图6b是图6a的D-D剖视图(局部)；

图7是本发明电容触摸屏的制造方法步骤(7)的示意图；

图8a是本发明电容触摸屏的制造方法步骤(8)的示意图；

图8b是图8a的E-E剖视图(局部)；

图9a是本发明电容触摸屏的制造方法步骤(9)的示意图；

图9b是图9a的F-F剖视图(局部)；

图10a是本发明电容触摸屏的制造方法步骤(10)的示意图；

图10b是图10a的G-G剖视图(局部)；

图11是本发明电容触摸屏的制造方法步骤(11)的示意图；

图12a是本发明电容触摸屏的制造方法步骤(12)的示意图，即制得的电容触摸屏的结构示意图；

图12b是图12a的H-H剖视图(局部)。

具体实施方式

本实施例中，电容触摸屏的制造方法依次包括下述步骤：

(1)如图1所示，在透明基板1的一面上形成金属膜2；形成金属膜2的方法可以是电镀、真空蒸镀或溅射镀膜；

(2)如图2所示，在金属膜2上涂布一层光刻胶3；

(3)如图3a和图3b所示，对步骤(2)形成的光刻胶层进行曝光、显影，保留覆盖在金属膜2需要形成金属条4的部位上的光刻胶3，去除其余部位的光刻胶3；

(4)如图4a和图4b所示，采用湿刻法或干刻法对金属膜2进行蚀刻，保留经步骤(3)处理后由光刻胶3覆盖的部分金属膜2，去除其余部分的金属膜2，形成由光刻胶3覆盖的金属条4；

(5)如图5a和图5b所示，去除覆盖在金属条4上的光刻胶3，使金属条4的表面暴露；

(6)如图6a和图6b所示，对金属条4进行氧化处理，在金属条4的表层形成金属氧化物绝缘层5；氧化处理方法可以采用在氧化气氛中进行的常温氧化、热氧化或紫外光辅助氧化，或在溶液中进行的化学氧化，或在等离子体中进行等离子体表面氧化或等离子体注入氧化；

(7)如图7所示，再次涂布一层光刻胶6，光刻胶层覆盖所有金属氧化物绝缘层5；本实施例中光刻胶层覆盖透明基板1形成有金属氧化物绝缘层5的整个面(在其它实施例中，光刻胶层也可以只覆盖有金属氧化物绝缘层的部位)；

(8)如图8a和图8b所示，对步骤(7)形成的光刻胶层进行曝光、显影，去除光刻胶层与金属条4两端对应部位的光刻胶6，使相应部位的金属氧化物绝缘层5(即覆盖在金属条4两端的金属氧化物绝缘层5)暴露；本步骤中，经过曝光、显影后，保留光刻胶层与金属条4中段对应部位的光刻胶6，使覆盖在金属条4中段的金属氧化物绝缘层5被光刻胶6覆盖，而覆盖在金属条4两端的金属氧化物绝缘层5只有局部暴露(在其它实施例中，覆盖在金属条两端的金属氧化物绝缘层也可以全部暴露)；

(9)如图9a和图9b所示，采用湿刻法或干刻法蚀刻金属氧化物绝缘层5，保留经步骤(8)处理后由光刻胶6覆盖的部分金属氧化物绝缘层5，去除其余部分的金属氧化物绝缘层5，在金属氧化物绝缘层5上形成两个过孔7，两过孔7分别连通金属条4的两端，使金属条4两端的金属暴露出来(即金属条4两端没有被金属氧化物绝缘层5覆盖)；

(10)如图10a和图10b所示，去除透明基板1上剩余的光刻胶6，露出导电桥结构8；形成在透明基板1上的金属条4构成导电桥，在金属条4中段的表层上形成有金属氧化物绝缘层5，金属条4露出的两端用于连接电极块12；

(11)如图11所示，在透明基板1形成有导电桥结构8的一面上形成导电膜层9(通常为ITO膜)；导电膜层9附着于金属条4露出的两端的表面、金属氧化物绝缘层5的表面、以及透明基板1形成有导电桥结构8的一面的其余表面(即透明基板1该表面上未被导电桥结构8覆盖的部分)；

(12)如图12a和图12b所示，图形化导电膜层9，也就是说，在导电膜层9上刻蚀出断区10，断区10将导电膜层9分割成若干个连续设置的第一个方向的电极11(列电极)、以及以第一个方向的电极11为间隔的若干个第二个方向的电极块12；第二个方向的电极块12的两端分别连接与其相邻的两个金属条4的相邻端部，且金属条4的两端分别连接与其相邻的两个第二个方向的电极块12，形成连续的第二个方向的电极(行电极)；第一个方向的电极11跨过金属氧化物绝缘层5，并且附着在形成于金属条4中段的表层上的金属氧化物绝缘层5的表面上，使得第一个方向的电极11与第二个方向的电极相互绝缘。

按照上述步骤，可以在透明基板1上形成包含行电极、列电极、架桥结构的触摸感应部件，得到投射式电容触摸屏。

本实施例中，金属膜2和金属条4的材质为铝，金属氧化物绝缘层5的材质为氧化铝。

如图12a和图12b所示，制得的电容触摸屏包括透明基板1和触摸感应部件，触摸感应部件包括两个方向的电极(第一个方向的电极11和第二个方向的电极)，两个方向的电极相互交错并且设置在透明基板1的同一面上，并且两个方向的电极都形成于同一导电膜层9上；第一个方向的电极11在导电膜层9上连续设置；第二个方向的电极在导电膜层9上以第一个方向的电极11为间隔分成若干电极块12；在交错点上，通过导电桥将第二个方向的电极中相邻两电极块12连接，导电桥是形成在透明基板1上的金属条4，金属条4的两端分别与第二个方向的电极中相邻的两电极块12连接，形成连续的第二个方向的电极，并且导电桥(即金属条4)与第一个方向的电极11之间由绝缘层分隔，绝缘层是形成在金属条4中段的表层上的金属氧化物绝缘层5，第一个方向的电极11跨过金属氧化物绝缘层5并且附着在金属氧化物绝缘层5的表面上。

为了构成完整的触摸屏，还在触摸感应部件的周边设计有周边引线，周边引线所包含的多个导线分别将各个行、列电极连接到设置在透明基板某边缘处的外接端口上。周边引线可以单独或者混合采用以下四种结构：1)、在透明基板之上，依次为金属层、金属氧化物绝缘层；2)、在透明基板之上，依次为金属层、金属氧化物绝缘层、导电膜层；3)、在透明基板之上，只有导电膜层；4)、在透明基板之上，依次为金属层、导电膜层。外接端口可以单独或者混合采用两种结构：1)、在透明基板之上，依次为金属层、导电膜层；2)、在透明基板之上，只有导电膜层。当需要在触摸感应部件的周边设计周边引线及外接端口时，步骤(3)应保留覆盖在金属膜需要形成周边引线及外接端子的部位上的光刻胶；步骤(4)还形成光刻胶覆盖的形成周边引线、外接端子所需的金属层；步骤(5)去除光刻胶后，使周边引线、外接端子所需的金属层的表面暴露；(6)还对周边引线、外接端子所需的金属层进行氧化处理；步骤(8)对步骤(7)形成的光刻胶层进行曝光、显影，去除光刻胶层与周边引线、外接端子中需要去除氧化层部分对应的光刻胶；步骤(9)采用湿刻法或干刻法蚀刻金属氧化物绝缘层时，还使周边引线、外接端子中金属暴露部分的金属暴露出来。

在触摸感应部件设置在透明基板外表面的情况下，通常还在触摸感应部件上覆盖保护层或盖板等绝缘性介质。

另外，也可以行电极在导电膜层上连续设置，而列电极在导电膜层上以行电极为间隔分成若干电极块；在交错点处，电极块的两端分别连接与其相邻的两个金属条的相邻端部，且金属条的两端分别连接与其相邻的两个电极块，形成连续的列电极。此时电容触摸屏的制造方法与上述电容触摸屏的制造方法相同，只是金属条的方向改为沿列电极的延伸方向设置。

在其它实施例中，金属膜和金属条的材质也可为其它金属单质，如铁、镁、锌；相应的，所形成的金属氧化物绝缘层5的材质为四氧化三铁(Fe₃O₄)、氧化镁、氧化锌。此时电容触摸屏的制造方法与采用铝作为金属膜和金属条的材质时相同。

在其它实施例中，金属膜和金属条的材质也可以是合金，如采用铝、铁、镁、锌等金属单质作为主要成分的合金。相应的，所形成的金属氧化物绝缘层的材质主要为氧化铝、四氧化三铁(Fe₃O₄)、氧化镁、氧化锌。此时电容触摸屏的制造方法与采用铝作为金属膜和金属条的材质时相同。

在其它实施例中，金属膜和金属条也可以是由不同金属形成的多层金属结构。例如，金属膜和金属条具有双层金属结构，其底层为铝钕合金、顶层为铝单质，所形成的金属氧化物绝缘层的材质为氧化铝。在这种情况下，电容触摸屏的制造方法可参照采用铝作为金属膜和金属条的材质的情况，不同之处在于，步骤(1)中，在透明基板1的一面上先形成铝钕合金层，然后在铝钕合金层上形成铝层，从而形成双层金属结构的金属膜。

在其它实施例中，在上述金属条中段的表层上形成金属氧化物绝缘层，也可以采用下述方法：利用掩膜遮住金属条或合金条的两端，再对金属条或合金条没有被掩膜遮住的部分进行氧化，在金属条或合金条没有被掩膜遮住的部分的表层上形成氧化层(这种方法中，要求金属条或合金条至少其中段没有被掩膜遮住；而金属条或合金条的两端可以全部被掩膜遮住，也可以金属条或合金条的两端只有一部分被掩膜遮住)。

Claims (9)

1.一种电容触摸屏，包括透明基板和触摸感应部件，触摸感应部件包括两个方向的电极，两个方向的电极相互交错并且设置在透明基板的同一面上，并且两个方向的电极都形成于同一导电膜层上；第一个方向的电极在导电膜层上连续设置；第二个方向的电极在导电膜层上以第一个方向的电极为间隔分成若干电极块；在交错点上，通过导电桥将第二个方向的电极中相邻两电极块连接，形成连续的第二个方向的电极，并且导电桥与第一个方向的电极之间由绝缘层分隔，其特征是：所述导电桥是形成在透明基板上的金属条；绝缘层是形成在金属条中段的表层上的金属氧化物绝缘层；在交错点上，金属条的两端分别与第二个方向的电极中相邻的两电极块连接，第一个方向的电极跨过金属氧化物绝缘层并且附着在金属氧化物绝缘层的表面上。

2.根据权利要求1所述的电容触摸屏，其特征是：所述金属条的材质为铝、铁、镁或锌，相应的，所述金属氧化物绝缘层的材质为为氧化铝、四氧化三铁、氧化镁或氧化锌。

3.根据权利要求1所述的电容触摸屏，其特征是：所述金属条的材质为以铝、铁、镁或锌作为主要成分的合金。

4.根据权利要求1所述的电容触摸屏，其特征是：所述金属条具有多层金属结构。

5.根据权利要求4所述的电容触摸屏，其特征是：所述金属条具有双层金属结构，其底层为铝钕合金、顶层为铝单质。

6.根据权利要求1所述的电容触摸屏，其特征是：所述金属条的侧面为斜面，所述金属氧化物绝缘层覆盖在金属条边缘的部位的表面也为斜面。

7.根据权利要求1所述的电容触摸屏，其特征是：所述金属条中段的厚度为0.2～5μm，金属氧化物绝缘层的厚度为0.2～5μm，金属条端部的厚度为0.2～10μm。

8.根据权利要求7所述的电容触摸屏，其特征是：所述金属条中段的厚度为0.2～0.25μm，金属氧化物绝缘层的厚度为1～2μm，金属条端部的厚度为1.2～2.25μm。

9.权利要求1所述的电容触摸屏的制造方法，其特征在于依次包括下述步骤：

(1)在透明基板的一面上形成金属膜；

(2)在金属膜上涂布一层光刻胶；

(3)对步骤(2)形成的光刻胶层进行曝光、显影，保留覆盖在金属膜需要形成金属条的部位上的光刻胶，去除其余部位的光刻胶；

(4)采用湿刻法或干刻法对金属膜进行蚀刻，保留经步骤(3)处理后由光刻胶覆盖的部分金属膜，去除其余部分的金属膜，形成由光刻胶覆盖的金属条；

(5)去除覆盖在金属条上的光刻胶，使金属条的表面暴露；

(6)对金属条进行氧化处理，在金属条的表层形成金属氧化物绝缘层；

(7)再次涂布一层光刻胶，光刻胶层覆盖所有金属氧化物绝缘层；

(8)对步骤(7)形成的光刻胶层进行曝光、显影，去除光刻胶层与金属条两端对应部位的光刻胶，使相应部位的金属氧化物绝缘层暴露；

(9)采用湿刻法或干刻法蚀刻金属氧化物绝缘层，保留经步骤(8)处理后由光刻胶覆盖的部分金属氧化物绝缘层，去除其余部分的金属氧化物绝缘层，使金属条两端的金属暴露出来；

(10)去除透明基板上剩余的光刻胶，露出导电桥结构；形成在透明基板上的金属条构成导电桥，金属氧化物绝缘层形成在金属条中段的表层上，金属条露出的两端用于连接电极块；

(11)在透明基板形成有导电桥结构的一面上形成导电膜层；导电膜层附着于金属条露出的两端的表面、金属氧化物绝缘层的表面、以及透明基板形成有导电桥结构的一面的其余表面；

(12)图形化导电膜层，也就是说，在导电膜层上刻蚀出断区，断区将导电膜层分割成若干个连续设置的第一个方向的电极、以及以第一个方向的电极为间隔的若干个第二个方向的电极块；第二个方向的电极块的两端分别连接与其相邻的两个金属条的相邻端部，且金属条的两端分别连接与其相邻的两个第二个方向的电极块，形成连续的第二个方向的电极；第一个方向的电极跨过金属氧化物绝缘层并且附着在金属氧化物绝缘层的表面上，使得第一个方向的电极与第二个方向的电极相互绝缘。

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