CN101885285A - 一种金属天花板表面花纹冷气染冷热转印技术 - Google Patents

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Abstract

本发明采用200度高温热转印和常温冷转印两种。以PET为原料，高温热转印强度高、画面不失真；常温冷转印成本低，工艺简单。适用于厨房、卫生间，客厅、卧室，学校、教室、办公室、公共场所等的天花板吊顶都可以用。外观整洁高雅、美观大方、环保现代，美化环境。本发明的优点是：200度高温热转印强度高、画面不失真，立体感强，安装简单，环保健康；常温冷转印工艺简单，图像清晰，生产效益高。

Description

一种金属天花板表面花纹冷气染冷热转印技术
技术领域：
本发明涉及一种金属天花板表面花纹气染冷热转印技术，属于家居装潢建材技术领域。
背景技术：
目前市场上有很多种各式各样的天花板，塑料的易氧化寿命短、花纹色彩单调，金属的表面处理使用传统的烤漆，表面实在是不美观，完全不能满足现代人的美化家装的审美视觉要求了。
发明内容：
本发明采用200度高温热转印和常温冷转印两种。以PET为原料，高温热转印强度高、画面不失真；常温冷转印成本低，工艺简单。适用于厨房、卫生间，客厅、卧室，学校、教室、办公室、公共场所等的天花板吊顶都可以用。外观整洁高雅、美观大方、环保现代，美化环境。
本发明的优点是：200度高温热转印强度高、画面不失真，立体感强，安装简单，环保健康；常温冷转印：工艺简单，图像清晰，生产效益高。
具体实施方式：
对本发明作进一步说明：实施例：本发明的目的是提供一种金属天花板表面花纹气染冷热转印技术，为实现以上目的、本术发明的技方案是提供一种金属天花板表面花纹气染冷热转印技术。包括：金属冲压成型件和龙骨支架。
本发明的技术方案是提供一种金属天花板表面花纹冷气染冷热转印技术，包括气染热转印技术；气染冷转印技术；一.热转印工艺：(1)铝板的前处理(除油——脱脂——氧化)；(2)铝板滚涂图层处理(涂料——滚涂——加热烘干)；(3)热转印：电脑中设计好的图案，使用热转印油墨打印或印刷到热转移纸上，再把热转印纸通过热转印机加热至200度和加压，将纸上的图案转印到铝板的涂层表面；(4)在铝板的表面覆上一层保护膜，保护图案的耐氧化、耐光化合耐磨；(5)将转印好图案的铝板冲裁拉伸成型；二.气染冷热转印工艺：以PET为原料，先将设计图案打印在纸上，再使用高温转印到金属天花板上；气染冷热转印---以PET为原料，先将设计图案打印在纸上，再使用常温转印到金属天花板上。

Claims (3)

1.一种金属天花板表面花纹冷气染冷热转印技术，为实现以上目的，本发明的技术方案是提供一种金属天花板表面花纹冷气染冷热转印技术，包括气染热转印技术；气染冷转印技术；一.热转印工艺：(1)铝板的前处理(除油——脱脂——氧化)；(2)铝板滚涂图层处理(涂料——滚涂——加热烘干)；(3)热转印：电脑中设计好的图案，使用热转印油墨打印或印刷到热转移纸上，再把热转印纸通过热转印机加热至200度和加压，将纸上的图案转印到铝板的涂层表面；(4)在铝板的表面覆上一层保护膜，保护图案的耐氧化、耐光化合耐磨；(5)将转印好图案的铝板冲裁拉伸成型；二.气染冷热转印工艺：以PET为原料，先将设计图案打印在纸上，再使用高温转印到金属天花板上；气染冷热转印---以PET为原料，先将设计图案打印在纸上，再使用常温转印到金属天花板上。
2.根据权利要求1所述的一种金属天花板表面花纹冷气染冷热转印技术，其特征在于：热转印工艺：(1)铝板的前处理(除油——脱脂——氧化)；(2)铝板滚涂图层处理(涂料——滚涂——加热烘干)；(3)热转印：电脑中设计好的图案，使用热转印油墨打印或印刷到热转移纸上，再把热转印纸通过热转印机加热至200度和加压，将纸上的图案转印到铝板的涂层表面；(4)在铝板的表面覆上一层保护膜，保护图案的耐氧化、耐光化合耐磨；(5)将转印好图案的铝板冲裁拉伸成型。
3.根据权利要求1所述的一种金属天花板表面花纹冷气染冷热转印技术，其特征在于：气染冷热转印工艺：以PET为原料，先将设计图案打印在纸上，再使用高温转印到金属天花板上；气染冷热转印---以PET为原料，先将设计图案打印在纸上，再使用常温转印到金属天花板上。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN103640355A (zh) * 2013-12-05 2014-03-19 通达宏泰科技(苏州)有限公司 笔记本金属外壳覆膜工艺
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CN107160885A (zh) * 2017-07-08 2017-09-15 海宁市恒康塑料包装有限公司 一种光铝热转印膜的制造方法以及一种吊顶或墙板的制造方法

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Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

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