CN101879596A - 一种高密度耐高温钼坩埚的制备方法 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种高密度耐高温钼坩埚的制备方法，所述高密度耐高温钼坩埚的制备方法包括下述步骤：(1)选料；选择下述质量比的钼粉：Mo≥99.95％、O≤0.015％、N≤0.005％、Si≤0.002％、C≤0.005％；(2)成型；(3)压制；(4)烧结；本发明与普通钼坩埚相比具有如下的优点：工艺简单、产品质量稳定、制作外型尺寸较大；烧结温度高；产品密度大于9.8g/cm³；其使用温度大于2000℃；钼含量可达99.90％。

Description

一种高密度耐高温钼坩埚的制备方法

技术领域

本发明涉及一种高密度耐高温钼坩埚的制备方法。

背景技术

钼坩埚主要用于冶金工业、稀土行业、金属钕、单晶硅、人造晶体和机械加工等行业。现有钼坩埚的制作方法主要有粉末冶金热压成形和钼板焊接两种形式，用粉末冶金热压成形法制作钼坩埚需要高精度的专用模具，造成钼坩埚制作成本高，制造周期长，而且所形成的钼坩埚壁较厚，整体笨重，不易搬动，原材料用量较大。而采用钼板焊接制作钼坩埚，坩埚底是用冷压技术制作的，由于钼材料属于硬脆材质，在常温下延展性差，所制作的埚底尺寸较小，不能满足大尺寸的使用要求，表面质量不好，有较明显的折痕，造成钼坩埚整体质量较低；工序环节多，效率低下。

专利号为2008100457191的发明专利公开了一种《大尺寸异形薄壁钼坩埚、其制造方法及专用热压炉》。“所制造的钼坩埚质量好、尺寸大、生产周期短，制造成本低，满足了钼坩埚下降法生产大尺寸人造晶体的需求。”

发明内容

本发明的目的在于提供一种高密度、耐高温钼坩埚的制备方法，其成品钼坩埚的密度大于9.8g/cm³，使用温度大于2000℃。

为实现上述目的，本发明采用了如下的技术方案，所述高密度耐高温钼坩埚的制备方法包括下述步骤：

(1)选料；选择下述质量比的钼粉：Mo≥99.95％、O≤0.015％、N≤0.005％、Si≤0.002％、C≤0.005％；

(2)成型；

(3)压制；

(4)烧结；

本发明与普通钼坩埚相比具有如下的优点：工艺简单、产品质量稳定、制作外型尺寸较大；烧结温度高；产品密度大于9.8g/cm³；其使用温度大于2000℃；钼含量可达99.90％。

具体实施方式

所述高密度耐高温钼坩埚的制备方法包括下述步骤：

(1)选料；选择下述质量比的钼粉：Mo≥99.95％、O≤0.015％、N≤0.005％、Si≤0.002％、C≤0.005％；

(2)成型；

(3)压制；

(4)烧结。

Claims (1)

1.一种高密度耐高温钼坩埚的制备方法，其特征在于：所述高密度耐高温钼坩埚的制备方法包括下述步骤：

(1)选料；选择下述质量比的钼粉：Mo≥99.95％、O≤0.015％、N≤0.005％、Si≤0.002％、C≤0.005％；

(2)成型；

(3)压制；

(4)烧结。