CN101834003A - 多辐照装置联体屏蔽结构 - Google Patents
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Abstract
一种多辐照装置联体式屏蔽结构，涉及核技术应用领域的辐射防护技术。本发明是将多个辐照装置的屏蔽系统采用联体式结构相邻建造，各辐照装置具有位置相对的共用墙体，各辐照装置可共用一套水系统、绝缘气系统及控制室。其有益效果是：由于本发明采用多辐照装置联体式屏蔽结构设计，通过共用墙体的建造，各辐照装置可共用一套水、气系统，可有效降低辐射防护的建造费用，提高单位屏蔽材料的防护效用；提高了场地的利用率；减少了墙体的厚度与施工难度；提高了整个装置的屏蔽防护的安全性；由于辐照装置的集中分布，对周边环境造成的影响降为最低，并且有利于辐照设备的统一管理。
Description
(一)技术领域
本发明涉及核技术应用领域的辐射防护技术，尤其是建造多辐照装置屏蔽室的方法及其结构。
(二)背景技术
在核技术应用领域中，现有的加速器或钴源等辐照装置通常是分散建设的，各辐照装置的屏蔽系统单独建造，各辐照装置有单独的水、气、风系统，其主要缺点是造成了土地资源和材料的浪费，单独的水、气、风系统增加了设计及建造费用，而且分散建设不利于多个辐照设备的统一管理。
(三)发明内容
为了克服上述现有技术存在的问题，本发明的目的是提供一种适合多辐照装置的联体式屏蔽结构。
本发明将多个辐照装置的屏蔽系统采用联体式结构相邻建造，各辐照装置具有位置相对的共用墙体，各辐照装置可共用一套水系统、绝缘气系统、通风系统及控制室。
上述辐照装置既可以是加速器装置，也可以是钴源等其他辐照装置。
上述共用墙体厚度是依据相邻两个或多个辐照装置中要求较高者确定。
本发明的有益效果是：由于本发明采用了多辐照装置联体式屏蔽结构设计，通过共用墙体的建造，各辐照装置可共用一套水、气、风系统，可有效降低辐射防护的建造费用，提高单位屏蔽材料的防护效用；提高了场地的利用率；减少了墙体的厚度与施工难度；提高了整个装置的屏蔽防护的安全性；由于辐照装置的集中分布，对周边环境造成的影响降为最低，并且有利于辐照设备的统一管理。
(四)附图说明
图1-1是2个辐照装置的联体式屏蔽结构一层平面图。其中1为辐照室一，2为辐照室二，3为共用屏蔽墙，4为控制室，5、6、7、8、9、10均为通风口，11为烟囱，12、13为水池。
图1-2是2个辐照装置的联体式屏蔽结构二层平面图。其中16为主机室一，17为主机室二，14为绝缘气罐，15为烟囱。
图2是3个辐照装置的联体式屏蔽结构。其中1为辐照室一，2为辐照室二，3为辐照室三，4、5为共用屏蔽墙，6为控制室。
(五)具体实施方式
下面参照附图详细的描述本发明的说明性、非限制性实施例，对根据本发明的多辐照装置联体屏蔽结构进行进一步说明。
实施例1：参照图1-1和图1-2，图1-1是2个辐照装置的联体式屏蔽结构一层平面图，图1-2是2个辐照装置的联体式屏蔽结构二层平面图。辐照室一(1)和辐照室二(2)相邻建造，两个辐照装置具有共用墙体(3)，两个辐照装置可共用一套水系统(12、13)、绝缘气系统(14)、通风系统(5、6、7、8、9、10、11)及控制室(4)。
实施例2：参照图2，图2是3个辐照装置的联体式屏蔽结构。辐照室一(1)、辐照室二(2)和辐照室三(3)相邻建造，形成“品”字型结构，三个辐照装置具有两个共用墙体(4、5)，三个辐照装置可共用一套水系统、绝缘气系统、通风系统及控制室(6)。
Claims (4)
1.一种多辐照装置联体式屏蔽结构，其结构特征是：将多个辐照装置的屏蔽系统采用联体式结构相邻建造，各辐照装置具有位置相对的共用墙体。
2.如权利要求1所述的多辐照装置联体式屏蔽结构，其特征在于各辐照装置可共用一套水系统、绝缘气系统、通风系统及控制室。
3.如权利要求1所述的辐照装置，既可以是加速器装置，也可以是钴源等其他辐照装置。
4.如权利要求1所述的共用墙体，其厚度是依据相邻两个或多个辐照装置中要求较高者确定。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN200910068120A CN101834003A (zh) | 2009-03-13 | 2009-03-13 | 多辐照装置联体屏蔽结构 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN200910068120A CN101834003A (zh) | 2009-03-13 | 2009-03-13 | 多辐照装置联体屏蔽结构 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN101834003A true CN101834003A (zh) | 2010-09-15 |
Family
ID=42718042
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN200910068120A Pending CN101834003A (zh) | 2009-03-13 | 2009-03-13 | 多辐照装置联体屏蔽结构 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN101834003A (zh) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN110275197A (zh) * | 2019-03-27 | 2019-09-24 | 华中科技大学 | 电子束检测系统 |
| US11483919B2 (en) | 2019-03-27 | 2022-10-25 | Huazhong University Of Science And Technology | System of electron irradiation |
-
2009
- 2009-03-13 CN CN200910068120A patent/CN101834003A/zh active Pending
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|---|---|---|---|---|
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| US11483919B2 (en) | 2019-03-27 | 2022-10-25 | Huazhong University Of Science And Technology | System of electron irradiation |
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| WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Application publication date: 20100915 |