CN101832757A - 一种探测晶片偏移位置的方法 - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 60
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 17
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 11
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 claims description 5
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 abstract description 10
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 5
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 238000007373 indentation Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
Images
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Description
Claims (8)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN2010101638308A CN101832757B (zh) | 2010-04-29 | 2010-04-29 | 一种探测晶片偏移位置的方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN2010101638308A CN101832757B (zh) | 2010-04-29 | 2010-04-29 | 一种探测晶片偏移位置的方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN101832757A true CN101832757A (zh) | 2010-09-15 |
CN101832757B CN101832757B (zh) | 2011-08-24 |
Family
ID=42716913
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN2010101638308A Active CN101832757B (zh) | 2010-04-29 | 2010-04-29 | 一种探测晶片偏移位置的方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN101832757B (zh) |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant | ||
PE01 | Entry into force of the registration of the contract for pledge of patent right |
Denomination of invention: Method for detecting offset position of wafer Effective date of registration: 20150202 Granted publication date: 20110824 Pledgee: China Development Bank Co Pledgor: Advanced Micro-Fabrication Equipment (Shanghai) Inc. Registration number: 2009310000663 |
|
PC01 | Cancellation of the registration of the contract for pledge of patent right | ||
PC01 | Cancellation of the registration of the contract for pledge of patent right |
Date of cancellation: 20170809 Granted publication date: 20110824 Pledgee: China Development Bank Co Pledgor: Advanced Micro-Fabrication Equipment (Shanghai) Inc. Registration number: 2009310000663 |
|
CP02 | Change in the address of a patent holder | ||
CP02 | Change in the address of a patent holder |
Address after: 201201 No. 188 Taihua Road, Jinqiao Export Processing Zone, Pudong New Area, Shanghai Patentee after: Advanced Micro-Fabrication Equipment (Shanghai) Inc. Address before: 201201 No. 188 Taihua Road, South District, Jinqiao Export Processing Zone, Pudong, Shanghai Patentee before: Advanced Micro-Fabrication Equipment (Shanghai) Inc. |
|
CP01 | Change in the name or title of a patent holder | ||
CP01 | Change in the name or title of a patent holder |
Address after: 201201 Shanghai City Jingqiao export processing zone of Pudong New Area (South) Taihua Road No. 188 Patentee after: China micro semiconductor equipment (Shanghai) Co.,Ltd. Address before: 201201 Shanghai City Jingqiao export processing zone of Pudong New Area (South) Taihua Road No. 188 Patentee before: China micro semiconductor equipment (Shanghai) Co.,Ltd. |