CN101789242B - 记录设备和记录激光功率设置方法 - Google Patents

Abstract

公开了记录设备和记录激光功率设置方法。所述记录设备包括：光学头部件，其将激光束照射到记录介质上，并执行信息的记录、再现或擦除；激光驱动部件，其驱动光学头部件以输出激光束；调制度测量部件，其测量由光学头部件读出的信号的调制度；以及控制部件，其执行激光驱动部件和光学头部件的控制，以在变化激光功率的同时执行记录介质的测试区域上的记录和擦除，基于根据激光功率的变化的擦除特性和已再现信号增长特性来计算功率基准值，并通过使用功率基准值来设置记录激光功率，其中所述擦除特性和已再现信号增长特性中的每一个通过获取已再现信号的调制度测量值来获得。

Description

记录设备和记录激光功率设置方法

技术领域

本发明涉及用于记录介质(如光盘)的记录设备以及用于记录设备的记录激光功率设置方法。

背景技术

在可记录的记录介质(如相变光盘)上必须执行记录激光功率的优化(所谓的OPC(最优功率控制))，因此提出了用于其的各种技术。

作为称为γ方法的技术，日本专利No.3124721和日本专利No.3801000(在下文中称为专利文档2)公开了利用诸如目标γ值、ρ比之类的参数来获得关于光盘的激光功率的最优值的技术。

特别在专利文档2中，公开了近似目标γ值的方法。

此外，日本专利申请特开No.2000-137918和日本专利No.3259642公开了检测关于功率改变的误差指标(error index)(如，抖动值)的最小值并将该最小值设置为最优功率的方法。

发明内容

顺便提及，现有技术仍然留下了以下问题。

在检测关于功率改变的误差指标(如，抖动值)的最小值并将该最小值设置为最优功率的方法中，在某些情况下，为了检测最优记录激光功率，可能给予过多的记录功率。由于相变记录介质具有要重复使用的测试区域，因此当考虑由于过多记录功率引起的对介质的损坏时，不期望通过大大超出其最优值的记录功率来执行OPC。

另一方面，在γ方法中，在实际的大规模生产设计中，关于两个参数(即，目标γ值和ρ比)获得所有记录介质的最优值的研究和操作已经极其艰苦了。

另外，在使用已再现RF信号的调制度(modulation degree)的OPC技术(如，作为现有技术的γ方法)中，存在关于具有低调制度(低功率区域)的已再现的RF信号的以下问题，这导致了实际操作的困难。

1.将电或光噪声分量添加到已再现RF信号，因此显著降低了测量精度。

2.低功率记录显著地受记录介质的圆周内的灵敏度变化等的影响。

3.在低功率记录中，产生了由长标记形成的RF的增长与由短标记形成的RF的增长之间的差，因此在再现的时候，调制度曲线以复杂的方式变形。

4.即使仅记录具有单一长度的标记，在形成的标记的头部部分与其尾端部分之间关于记录功率的RF的增长也不同，因此在再现的时候在调制度曲线中产生变形。

在这一点上，期望防止提供过多的功率，在通过低功率执行记录的情况下防止基于已再现RF信号的低调制度进行处理，并允许使用单个参数执行OPC。

根据本发明的实施例，提供了一种记录设备，包括：光学头部件，其将激光束照射到记录介质上，并执行信息的记录、再现和擦除之一；激光驱动部件，其驱动光学头部件，以便光学头部件输出激光束；调制度测量部件，其测量由光学头部件读出的信号的调制度；以及控制部件，其执行激光驱动部件和光学头部件的控制，以作为设置从光学头部件输出的记录激光功率的记录激光功率设置处理，在变化激光功率的同时执行记录介质的测试区域上的记录和擦除，基于根据激光功率的变化的擦除特性和已再现信号增长特性来计算功率基准值，并通过使用功率基准值的运算来设置记录激光功率，其中擦除特性和已再现信号增长特性中的每一个是通过控制光学头部件以再现测试区域并获取来自调制度测量部件的已再现信号的调制度测量值来获得。

进一步，在记录激光功率与擦除激光功率之比保持恒定的情况下，执行记录激光功率设置处理。

进一步，控制部件控制激光驱动部件和光学头部件以执行记录激光功率设置处理，其包括：作为第一处理，通过设置为预定固定值的激光功率在测试区域上执行记录；作为第二处理，在固定值或更小的范围中变化激光功率的同时，在经历了第一处理中的记录的测试区域上执行擦除；作为第三处理，在经历了第二处理中的擦除的测试区域上执行再现，并根据通过调制度测量部件获得的调制度测量值计算擦除特性；作为第四处理，在固定值或更小的范围中变化激光功率的同时，在完全擦除状态的测试区域上执行记录；作为第五处理，在经历了第四处理中的记录的测试区域上执行再现，并根据通过调制度测量部件获得的调制度测量值计算已再现信号增长特性；以及作为第六处理，设置擦除特性和已再现信号增长特性的匹配点的功率作为功率基准值，并通过使用功率基准值的运算来设置记录激光功率。

进一步，控制部件执行第二处理多次。

进一步，控制部件控制激光驱动部件和光学头部件以执行记录激光功率设置处理，其包括：作为第一处理，通过设置为预定固定值的激光功率在测试区域上执行记录，并在测试区域上形成标记和空白；作为第二处理，在固定值或更小的范围中变化所述激光功率的同时，在经历了第一处理中的记录的测试区域中，对空白执行记录且对标记执行擦除；作为第三处理，在经历了第二处理的测试区域上执行再现，并根据通过调制度测量部件获得的调制度测量值来计算擦除特性和已再现信号增长特性的组合特性；以及作为第四处理，通过使用根据组合特性确定的功率基准值的运算来设置记录激光功率。

进一步，控制部件控制激光驱动部件和光学头部件以执行记录激光功率设置处理，其包括：作为第一处理，通过设置为预定固定值的激光功率在测试区域上执行记录，并在测试区域上形成标记和空白；作为第二处理，在固定值或更小的范围中变化激光功率的同时，在经历了第一处理中的记录的测试区域上执行擦除；作为第三处理，在固定值或更小的范围中变化激光功率的同时，在经历了第一处理中的记录的测试区域中，对空白执行记录且对标记执行擦除；作为第四处理，在经历了第三处理的测试区域上执行再现，并根据通过调制度测量部件获得的调制度测量值来计算擦除特性和已再现信号增长特性的组合特性；以及作为第五处理，通过使用根据组合特性确定的功率基准值的运算来设置记录激光功率。

根据本发明的另一实施例，提供了一种记录激光功率设置方法，包括：在变化从光学头部件输出的激光功率的同时，在记录介质的测试区域上执行记录和擦除；通过光学头部件再现测试区域，并获取已再现信号的调制度测量值；基于根据激光功率的变化的擦除特性和已再现信号增长特性计算功率基准值，擦除特性和已再现信号增长特性中的每一个是从所述调制度测量值获得的；以及通过使用功率基准值的运算来设置记录激光功率。

在上述实施例中，在变化激光功率的同时，作为所执行的记录和擦除的结果，测量已再现信号(已再现的RF信号)的调制度，并使用擦除特性和已再现信号增长特性来计算功率基准值。然后，例如，将与擦除特性曲线和已再现信号增长特性曲线的交叉点对应的功率设置为功率基准值。可替代地，也可以根据从擦除特性曲线和已再现信号增长曲线获得的组合特性曲线来计算类似的功率基准值。具体地说，功率基准值是促进了擦除的处理的调制度与促进了增长的处理的调制度匹配的点。

通过将功率基准值设置为具有相对高调制度的点，可以防止在低调制区域中精度的降低。

此外，在OPC处理中不需要照射过度高的激光功率。

另外，通过计算功率基准值，可以通过使用一个参数(系数)的运算来计算最优记录激光功率，并进行记录激光功率的设置。

根据本发明的实施例，通过使用从擦除特性和已再现信号增长特性获得的功率基准值，变得可以仅以特定系数(代替过去要求的多个参数)来运算OPC结果的分布，结果是当在实际的大规模生产设计中研究大量记录介质时，可以大大地减少处理的数量。

进一步，在实际使用中，可以防止在OPC处理时使用从具有不稳定测量精度的低调制度的RF信号获得的结果，结果是可以提高记录激光功率的确定精度。

此外，将预定固定值设置为功率的上限，并且在测试(OPC)中不使用大大超出最优功率的功率，结果是不存在可能损坏记录介质的测试区域的担心。

如附图中所图示的那样，根据本发明的最佳方式实施例的如下详细描述，本发明的这些和其它目标、特征和优点将变得更加明显。

附图说明

图1是根据本发明实施例的盘驱动设备的框图；

图2是本实施例的记录功率和ε值的说明图；

图3是第一实施例的OPC处理的流程图；

图4A到图4C是示出了第一实施例的擦除特性曲线的说明图；

图5A到图5C是示出了第一实施例的RF增长特性曲线的说明图；

图6A和图6B是用于说明第一实施例和第二实施例的基准点设置的图；

图7是第二实施例的OPC处理的流程图；

图8A到图8D是示出了第二实施例的擦除特性曲线的说明图；

图9A和图9B是第三实施例和第四实施例的OPC处理的流程图；

图10A到图10E是示出了第三实施例的记录/擦除操作的说明图；

图11A到图11C是示出了第三实施例的组合特性曲线的说明图；

图12A到图12D是示出了第四实施例的组合特性曲线的说明图；

图13A和图13B是示出了各实施例的测试结果的说明图；以及

图14A和图14B是示出了各实施例的测试结果的说明图。

具体实施方式

在下文中，将描述本发明的实施例。这里，将关于相变光盘执行记录和再现的盘驱动设备作为本发明的实施例的记录设备的示例，并且描述其OPC操作。将以如下顺序进行描述。

(1.盘驱动设备的结构)

(2.作为第一实施例的OPC操作)

(3.作为第二实施例的OPC操作)

(4.作为第三实施例的OPC操作)

(5.作为第四实施例的OPC操作)

(6.根据各实施例的OPC操作的测试结果)

(1.盘驱动设备的结构)

将参照图1描述实施例的盘驱动设备的结构。

该实施例的盘驱动设备是关于光盘(如蓝光盘(注册商标)和DVD(数字多功能盘))执行记录和再现的记录/再现设备，并具有特别地关于相变盘(可重写盘)的OPC(最优功率控制)操作的特征。

当将光盘90安装到盘驱动设备时，将其置于转盘(turntable)(未示出)上，并且在记录/再现操作中通过转轴电机2以恒定线性速度(CLV)可旋转地驱动。

在再现的时候，光学拾取器(光学头(optical head)部件)1读出在光盘90的磁道上记录的标记信息。

进一步，在光盘90上记录数据的时候，光学拾取器1将用户数据作为相变标记记录在光盘90的磁道上。

应该注意，尽管通过在光盘90的内圆周区域91中的压印凹点或抖动(wobble)凹槽来将盘的物理信息等记录为特定于再现的管理信息，但是也由光学拾取器1读出那些条信息。

此外，也由光学拾取器1从光盘90中读出作为光盘90上凹槽磁道的抖动而嵌入的ADIP(Address in Pregroove)信息。

在光学拾取器1中形成的是成为激光源的激光二极管、用于检测反射光的光电检测器、成为激光束的输出端的物镜、光学系统(其中，通过物镜将激光束照射到盘的记录表面上，并且将其反射光引导至光电检测器)等。

在光学拾取器1中，通过双轴机构保持物镜以便在跟踪方向和对焦方向中可移动。

进一步，通过滑板(sled)机构3，整个光学拾取器1在盘半径方向中可移动。

此外，通过从激光驱动器13提供的驱动信号(驱动电流)来驱动光学拾取器1中的激光二极管以发射激光束。

由光电检测器检测从光盘90反射的光信息，根据接收到的光量将其转换为电信号，并提供到矩阵电路4。

矩阵电路4包括电流-电压转换电路、矩阵运算/放大器电路等，以便对应于从作为光电检测器的多个光接收装置输出的输出电流，并通过矩阵运算处理产生必要的信号。

例如，矩阵电路4产生与再现数据(RF信号)对应的再现信息信号、对焦误差信号和用于伺服控制的跟踪误差信号等。

此外，矩阵电路4产生与凹槽的抖动有关的信号，即，作为用于检测抖动的信号的推挽信号。

分别将从矩阵电路4输出的RF信号提供到数据检测处理部件5和调制度测量部件19，将对焦误差信号和跟踪误差信号提供到光学块伺服电路11，并且将推挽信号提供到抖动信号处理电路6。

数据检测处理部件5对RF信号进行二进制化。

例如，数据检测处理部件5对RF信号执行A/D转换处理、通过PLL的再现时钟产生处理、PR(局部响应)归一化处理、维特比解码(最大似然解码)等，并通过局部响应最大似然解码(PRML(局部响应最大似然(Partial Response Maximum Likelihood))检测方法)获得二进制数据序列。

然后，数据检测处理部件5将二进制数据序列作为从光盘90读出的信息提供到下一级中的编码/解码部件7。

编码/解码部件7在再现的时候解调再现数据，而在记录的时候调制记录数据。换言之，编码/解码部件7在再现的时候执行数据解调、解交织、ECC解码、地址解码等，并且在记录的时候执行ECC编码、交织、数据调制等。

在再现的时候，将在数据检测处理部件5中解码的二进制数据序列提供到编码/解码部件7。编码/解码部件7解调二进制数据序列，并从光盘90获得已再现的数据。

例如，通过对已经经历了游程长度受限编码并记录在光盘90上的数据执行解调，并执行作为纠错的ECC解码等来获得来自光盘90的已再现数据。

根据系统控制器10的指示，将在编码/解码部件7中解码为已再现数据的数据传送到主机接口8，然后传送到主机设备100。主机设备100的示例包括计算机设备和AV(视听)系统设备。

在光盘90上执行记录/再现的时候处理ADIP信息。

换言之，在抖动信号处理电路6中，将从矩阵电路4输出的、作为与凹槽的抖动有关的信号的推挽信号转换为数字抖动数据。另外，通过PLL处理产生与推挽信号同步的时钟。

将抖动数据解调为组成ADIP解调电路16中的ADIP地址的数据流，并将该数据流提供到地址解码器9。

地址解码器9解码所提供的数据以获得地址值，然后将其提供到系统控制器10。

在记录的时候，从主机设备100传送记录数据。经由主机接口8将记录数据提供到编码/解码部件7。

在这种情况下，编码/解码部件7执行纠错码添加(ECC编码)、交织、子码添加等作为记录数据的编码处理。进一步，对已经经历了以上处理的数据执行游程长度受限编码。

在写策略部件14中将由编码/解码部件7处理的记录数据转换为激光驱动脉冲，该激光驱动脉冲已经经历了记录补偿处理(如，关于记录层特性、激光束点的形状和记录线性速度的最优记录功率的精细调整以及激光驱动脉冲的波形的调整)。写策略部件14将该激光驱动脉冲提供到激光驱动器13。

激光驱动器13将已经经历了记录补偿处理的激光驱动脉冲提供到光学拾取器1中的激光二极管，以使得激光二极管发射激光束。因此，在光盘90上形成与记录数据对应的标记。

应该注意，激光驱动器13包括所谓的APC(自动功率控制)电路，并将激光输出的级别控制为恒定而不论温度等如何，同时基于用于监控激光功率的检测器的输出来监控激光输出的功率，其中在光学拾取器1中提供所述检测器。

向激光驱动器13提供来自系统控制器10的、用于记录和再现的激光输出的级别的目标值，并在记录和再现的时候控制激光输出的级别以取得目标值。

通过稍后描述的OPC处理来设置记录中的最优激光功率。

光学块伺服电路11基于从矩阵电路4提供的对焦误差信号和跟踪误差信号产生用于对焦、跟踪和滑板的各种类型的伺服驱动信号，由此执行伺服操作。

具体地说，光学块伺服电路11根据对焦误差信号和跟踪误差信号产生对焦驱动信号和跟踪驱动信号，并通过双轴驱动器18驱动光学拾取器1内的双轴机构的对焦线圈和跟踪线圈。相应地，光学拾取器1、矩阵电路4、光学块伺服电路11、双轴驱动器18和双轴机构组成跟踪伺服环和对焦伺服环。

进一步，光学块伺服电路11响应于从系统控制器10发送的跟踪跳跃指令而关闭跟踪伺服环，并通过输出跳跃驱动信号来执行跟踪跳跃操作。

此外，光学块伺服电路11基于作为跟踪误差信号的低频分量获得的滑板误差信号、来自系统控制器10的存取执行控制等产生滑板驱动信号，由此通过滑板驱动器15来驱动滑板机构3。尽管在图1中未示出，但滑板机构3具有由保持光学拾取器1的主轴、滑板电机、传动齿轮等组成的机构。当根据滑板驱动信号来驱动滑板电机时，进行光学拾取器1的要求的滑动移动。

转轴伺服电路12控制转轴电机2以执行CLV旋转。

转轴伺服电路12获得通过用于抖动信号的PLL处理而产生的时钟，作为转轴电机2的当前旋转速度信息，并将其与预定CLV基准速度信息进行比较，由此产生转轴误差信号。

可替代地，由于在数据再现的时候，通过在数据检测处理部件5中执行的PLL处理而产生的已再现时钟用作转轴电机2的当前旋转速度信息，所以也可以通过将当前旋转速度信息与预定CLV基准速度信息进行比较来产生转轴误差信号。

然后，转轴伺服电路12将根据转轴误差信号产生的转轴驱动信号输出，以使得转轴驱动器17执行转轴电机2的CLV旋转。

此外，转轴伺服电路12根据来自系统控制器10的转轴启动/制动(kick/brake)控制信号来产生转轴驱动信号，以执行诸如转轴电机2的起动、停止、加速和减速的操作。

由微计算机形成的系统控制器10控制如上所述的伺服系统和记录/再现系统的各种操作。

系统控制器10根据经由主机接口8从主机设备100提供的命令执行各种类型的处理。

例如，当主机设备100发布写命令时，系统控制器10首先将光学拾取器1移动到进行写操作的地址。然后，系统控制器10使得编码/解码部件7对从主机设备100传送的数据(例如，视频数据和音频数据)执行如上所述的编码处理。然后根据如上所述编码的数据来驱动激光驱动器13以发射激光束，由此执行记录。

另外，当主机设备100发布请求光盘90上记录的某一数据的传送的读命令时，例如，系统控制器10首先以作为目标的指定地址执行搜索操作的控制。具体地说，系统控制器10发布命令以指示光学块伺服电路11，从而以由搜索命令指定的地址作为目标来执行光学拾取器1的存取操作。

此后，执行向主机设备100传送指定的数据部分内的数据所需的操作控制。具体地说，从光盘90读出数据，并且在数据检测处理部件5和编码/解码部件7中执行再现处理，由此传送所请求的数据。

还将在矩阵电路4中获得的RF信号提供到调制度测量部件19。调制度测量部件19测量已再现的RF信号的调制度，并且当执行后面所述的OPC操作时将其提供到系统控制器10。

调制度对应于RF信号波形的幅度级别。例如，当在再现预定T标记的时候由LH表示RF信号的幅度的最高级别，由LL表示其最低级别并且由LZ表示无信号条件下的级别时，由(LH-LL)/(LH-LZ)表示调制度。

存储部件20存储在各种类型的处理中由系统控制器10使用的参数和常数。例如，存储部件20由非易失性存储器组成。

应该注意，在图1的示例中，已经描述了连接到主机设备100的盘驱动设备。然而，根据本实施例的盘驱动设备可以具有不连接到另一设备的不同结构。在这种情况下，添加操作部件或显示部件，或者数据输入/输出接口部分的结构变得不同于图1的结构。换言之，只需要形成用于与根据用户操作来执行记录和再现一起输入和输出各条数据的终端部分。当然，盘驱动设备的其他各种结构示例是可以想到的。

当在光盘90上执行记录操作时，盘驱动设备在实际的记录操作之前执行调整处理以获得最优的记录激光功率(OPC处理)。

通过对光盘90中提供的测试区域(OPC区域)执行测试写来进行激光功率的调整。

例如，可以在安装光盘90之后，或者紧接在实际地执行记录之前执行最优记录激光功率的判断处理。

在OPC处理的描述之前，将参照图2描述在记录的时候激光驱动信号的波形。

图2示出了在写策略部件14中形成的、且由激光驱动器13提供给光学拾取器1的激光二极管的激光驱动信号的波形的示例。

这里，示出了形成4T标记和7T标记的波形的示例。应该注意，“T”表示信道时钟周期。

将激光驱动信号的波形设置为具有与如图2中所示那样形成的标记长度对应的脉冲数量的脉冲列波形。

脉冲波形由冷却功率(cooling power)、擦除功率Pe和记录功率Pp的脉冲级别形成。

在这种情况下，将(擦除功率Pe)/(记录功率Pp)表示为ε值，在该示例中将所述ε值设置为恒定固定。具体地说，记录功率Pp与擦除功率Pe之比恒定。

在假设ε值是固定值的情况下执行下面描述的OPC操作。

(2.作为第一实施例的OPC操作)

将描述作为第一实施例的OPC操作。

第一实施例的OPC操作的概述如下。

作为关于光盘90(其作为相变介质)确定最优记录功率的方法，通过使用初始功率对测试区域首先执行正常的写操作。然后，在将初始功率设置为最大值的情况下在预定范围中变化擦除功率的同时，对测试区域执行擦除操作。在擦除之后，测量测试区域中剩余RF信号的调制度，由此获得擦除特性曲线。

接着，通过使用初始功率对测试区域执行擦除，由此获得完全擦除的状态，并将具有固定ε值的记录功率添加到相同范围中的擦除功率作为以上范围，以便执行测试记录。然后，测量测试区域中增长的RF信号的调制度，由此获得RF增长特性曲线。

通过将当擦除特性区域和RF增长特性曲线彼此重叠时获得的交叉点作为基准点，通过使用与基准点对应的激光功率的操作获得最优记录功率。

参照图3到图6，将描述OPC处理的特定示例。

图3示出了系统控制器10在执行OPC操作时的处理。

应该注意，当将光盘90安装到盘驱动设备时，识别盘类型，并且在开始OPC操作时对于每一种盘类型确定用于OPC处理的初始功率。这里使用的盘类型包括盘制造商、生产年份、产品型号等。

对于每一种盘类型可以由设计者预先确定初始功率，或者可以基于作为管理信息(激光功率推荐值)的在盘上记录的信息来确定初始功率。

当在对应类型的盘上执行记录时，初始功率必须具有能够获得已再现信号的足够的调制度并充分地执行擦除的功率强度，但未将记录质量视为问题。

作为步骤F101，系统控制器10首先在光盘90的测试区域上使用初始功率来执行正常记录。

具体地说，基于以上初始功率，系统控制器10使得光学拾取器1存取光盘90的测试区域，并控制写策略部件14和激光驱动器13来通过具有固定值的记录功率Pp来执行记录操作。应该注意，作为测试记录数据，从编码/解码部件7输出用于形成预定标记/空白(space)图案的记录数据。

应该注意，在这种情况下，考虑重写记录特性，可以多次执行记录。另外，为了可靠地消除过去记录标记的影响，可以在执行步骤F101的处理之前将测试区域经历DC擦除。

接下来，在步骤F102，系统控制器10在变化擦除功率的同时对测试区域执行擦除操作，其中在步骤F101已经通过初始功率对测试区域执行了记录。具体地说，系统控制器10使得光学拾取器1再次存取测试区域，并指示写策略部件14和激光驱动器13将擦除功率的变化范围设置为从Pe-max到Pe-min的范围，其中例如最大值是初始功率，且最小值是初始功率的1/3。然后，在变化擦除功率的同时，执行DC擦除。

在步骤F103，系统控制器10测量测试区域中剩余RF信号的调制度，并因此获得擦除特性曲线。具体地说，系统控制器10使得光学拾取器1再现测试区域，包括调制度测量部件19中那时获取的调制度，并获得擦除特性曲线。

将参照图4描述擦除特性曲线。

图4A示出了在步骤F101使用固定功率已经对测试区域执行了记录的状态下，当再现测试区域时获得的RF信号波形。由于使用固定功率的记录，所以在测试区域的再现的时候，获得具有预定幅度级别的RF信号波形。

接着，在步骤F102，如上所述，在变化功率的同时执行擦除。在这种情况下，假设在从Pe-min到Pe-max增大擦除功率的同时执行擦除，则在擦除之后(即，在步骤F103)，通过再现测试区域来获得如图4B中所示的RF信号波形。

具体地说，在擦除功率低的阶段，很难擦除记录标记。然而，随着擦除功率增大，促进了记录标记的擦除，并且当使用擦除功率Pe-max时几乎完全擦除标记。结果，尽管在RF信号波形中，在经历了使用低擦除功率的擦除的部分中仍然存在大幅度，但幅度级别逐渐地减小。

在步骤F103，将图4B中所示的状态的RF信号波形提供到调制度测量部件19并测量其调制度。

相应地，系统控制器10获得如图4C所示的擦除特性曲线。具体地说，获得的是在横坐标轴是擦除功率且纵坐标轴是调制度的情况下示出了根据擦除功率的剩余RF信号的调制度的曲线。

应该注意，在擦除功率Pe-max不具有足够的功率以充分地执行直到该点的擦除的情况下，未获得如图4B所示的RF信号波形。换言之，可能存在即使在通过擦除功率Pe-max的擦除部分中仍未充分地执行擦除的情况，这可能导致相对高的调制度仍然存在。

相应地，在通过擦除功率Pe-max擦除的部分的调制度不足够低的情况下，系统控制器10在步骤F104判断擦除功率Pe-max是不合适的(缺乏擦除功率)。然后，系统控制器10进行到步骤F105以改变(向上修改)具有最大级别的擦除功率Pe-max的值，并再次从步骤F101开始。

在通过步骤F101到F103适当地获得如图4C所示的擦除特性曲线的情况下，系统控制器10处理到步骤F106。接着，系统控制器10执行用于获得RF增长特性曲线的处理。

在步骤F106，系统控制器10首先控制光学拾取器1、写策略部件14和激光驱动器13以通过使用擦除功率Pe-max临时地对测试区域执行DC擦除。

应该注意，尽管在假设与在步骤F101到F103使用的测试区域相同的测试区域用于步骤F107及后续步骤的处理的情况下执行DC擦除，但是也可以使用已经经历了DC擦除(或未使用的)的另一测试区域。在这种情况下，步骤F106的处理是不必要的。

接下来，系统控制器10控制光学拾取器1、写策略部件14和激光驱动器13以便以完全擦除的状态对测试区域执行测试记录，同时变化擦除功率以便擦除功率落入从Pe-max到Pe-min的范围中。此时，输出记录功率，以便ε值恒定。

将参照图5A到图5C描述该操作。

图5A示出了通过以完全擦除的状态再现测试区域而获得的RF信号波形。由于完全擦除状态，不存在RF信号波形幅度，且仅存在噪声级别。

图5B的上部分是在步骤F107的记录之后通过执行再现而获得的RF信号波形。

如上所述，在从Pe-max到Pe-min的范围中变化擦除功率的同时执行测试记录意味着以如图5B的下部分所示的激光驱动信号的波形执行记录。

具体地说，基于由ε值确定的记录功率，以其中擦除功率与记录脉冲组合的激光驱动信号的波形执行记录，同时从Pe-max到Pe-min逐渐地变化擦除功率。

通过以这种波形的激光驱动信号执行记录，在擦除功率低(即，记录功率低)的状态下未充分地形成标记。然而，随着擦除功率变高(即，记录功率变高)，可靠地形成标记。相应地，当在该记录之后执行再现时，获得如图5B的上部分所示的RF信号波形。

接着，系统控制器10测量测试区域中RF信号的调制度，以由此获得RF增长特性曲线。具体地说，系统控制器10使得光学拾取器1再现测试区域，包括调制度测量部件19中在那时获取的调制度，并获得RF增长特性曲线。

在这种情况下，如上所述，通过再现测试区域而获得的RF信号波形如图5B所示。在步骤F108，将图5B的状态下的RF信号波形提供到调制度测量部件19，并测量调制度。

相应地，系统控制器10获得如图5C所示的RF增长特性曲线。具体地说，系统控制器10获得在横坐标轴是擦除功率且纵坐标轴是调制度的情况下，示出了在变化擦除功率的同时，根据由ε值确定的擦除功率的RF信号的调制度的曲线。

由于擦除特性曲线和RF增长特性曲线通过以上处理获得，因此在步骤F109，系统控制器10通过使用擦除特性曲线和RF增长特性曲线来计算最优记录功率。

图6一起示出了擦除特性曲线和RF增长特性曲线。

这里，将擦除特性曲线与RF增长特性曲线的交叉点(即，其调制度一致的点)设置为基准点BP。将与基准点BP对应的擦除功率表示为Pe-det。

另外，通过将擦除功率Pe-det乘以预定系数K而获得的值被表示为最优擦除功率Pe-result。

应该注意，系数K是在装运之前在设计过程等中通过研究多种盘而计算出的值，并且是根据盘类型存储在盘驱动设备的存储部件20中的系数值。

如上所述，将擦除功率与记录功率之间的关系固定到ε值(＝Pe/Pp)。

结果，在确定最优擦除功率Pe-result之后，使用ε值来确定最优记录功率。

系统控制器10如上所述设置最优记录功率，其后进行设置以便在关于光盘90执行的记录操作中使用最优记录功率来进行记录。

根据该实施例的OPC处理，变得可以仅通过特定系数K(代替现有技术中要求的多个参数)来运算OPC结果的分布，结果是当在实际的大规模生产设计中研究大量盘时可以大大地减少处理的数量。

在过去，例如，考虑到互相影响的多个参数(如，目标γ值和ρ比)已经设置了该多个参数的每一个值，同时该多个参数与各种类型的盘对应，因此参数设置已经是极其麻烦的操作。然而，在该实施例中，只需要预先确定与各种类型的盘对应的系数K。换言之，可以使用从基准擦除功率Pe-det获得的一个参数来确定记录功率，结果是极大地简化了参数设置操作。

另外，如从图6发现的那样，可以将基准点BP设置为调制度不那么低的点。例如，可以将这样的点设置为调制度约为50％的点。

如上所述，在调制度低(例如，约30％)的区域中，测量精度是不稳定的。然而，在该实施例中，可以计算OPC结果而不使用从具有不稳定测量精度的低调制度的RF信号获得的结果，结果是可以提高功率确定精度。

此外，执行测试记录的功率的最大值对应于基于初始功率的固定记录功率。由于在测试中不使用大大超出最优功率的功率，因此不存在可能损坏盘90的测试区域的担心。

(3.作为第二实施例的OPC操作)

将描述第二实施例的OPC操作。

在第一实施例的OPC操作中，在某些情况下，图6A中所示的基准点BP(即，擦除特性曲线与RF增长特性曲线的交叉点)可能处于调制度太高的位置。例如，它是擦除特性曲线为如图6B所示的虚线指示的那样的情况。该情况的基准点BP1是具有高调制度的点。

在这样的情况下，与图6A的情况相比，擦除特性曲线和RF增长特性曲线以钝角相交。尽管基准点处的擦除功率Pe-det必须作为擦除特性曲线和RF增长特性曲线的交叉点获得，但是当两条曲线以钝角相交时，图6B的横坐标轴上的点(即，擦除功率)的误差变大。具体地说，由于盘90的灵敏度变化引起的调制度的变化趋向于影响由交叉点指示的功率值。这导致基准擦除功率Pe-det的确定精度的降低，并引起了可能不能获得足够的功率确定精度的担心。

相应地，期望获得如图6B的实线指示的那样的擦除特性曲线，并使用两条曲线以相对锐角相交的基准点BP2。

在这点上，在第二实施例中，系统控制器10执行图7的处理。

应该注意，图7的步骤F101到F109的处理与图3的那些相同，因此省略其描述。在图7中，紧接步骤F102，添加步骤F102-2的处理。

在步骤F102-2，执行与步骤F102相同的处理。也就是说，在从Pe-max到Pe-min的范围中变化擦除功率的同时，擦除在步骤F101已经通过初始功率执行了记录的测试区域。换言之，在变化擦除功率的同时执行的擦除操作重复两次。

参照图8描述该处理的意义。

图8A示出了在步骤F101已经通过固定功率对测试区域进行了记录的状态下，当执行测试区域的再现时获得的RF信号波形。类似于图4A的情况，由于通过固定功率的记录，如图8A所示，在测试区域的再现的时候，获得具有预定幅度级别的RF信号波形。

接着，在步骤F102，如上所述，在变化功率的同时执行擦除。在这种情况下，假设在从Pe-min到Pe-max增大擦除功率的同时执行擦除。然而，当由于介质的特性等未充分地执行擦除时，通过再现测试区域而获得的RF信号波形如图8B所示。

当在这种状态下试图获得擦除特性曲线时，获得如图6B的虚线所指示的那样的曲线。

相应地，在步骤F102-2，在变化功率的同时再次执行擦除。结果，在第二次擦除之后的步骤F103，通过再现测试区域而获得的RF信号波形如图8C所示。从该RF信号波形，获得如图8D所示的擦除特性曲线(即，图6B的实线的擦除特性曲线)。

在以这种方式(F104到F109)获得擦除特性曲线之后执行的处理与第一实施例中的相同。具体地说，获得RF增长特性曲线，然后从作为擦除特性曲线和RF增长特性曲线的交叉点的基准点BP2获得基准擦除功率Pe-det。通过将擦除功率Pe-det乘以系数K来计算最优擦除功率Pe-result。在确定最优擦除功率Pe-result之后，使用ε值来确定最优记录功率。

系统控制器10如上所述设置最优记录功率，其后进行设置以便在对光盘90执行的记录操作中使用最优记录功率来进行记录。

根据上述第二实施例，可以实现与第一实施例中的效果相同的效果。另外，可以执行高精度的记录功率设置，同时支持由于介质的特性等未满意地获得擦除特性曲线的情况。

(4.作为第三实施例的OPC)

将参照图9A、图10和图11描述第三实施例。

在该实施例中的OPC操作的基本构思与第一实施例中的相同，但第三实施例是更有效地执行OPC操作的示例。

具体地说，首先使用初始功率执行初始记录，接下来在相同区域上执行记录和擦除，同时在预定范围中变化功率，其中将初始功率设置为最大值。在这种情况下，使通过初始功率的记录中形成标记的位置不同于在通过变化的功率执行记录和擦除的情况下形成标记的位置。另外，使用NRZI数据图案，在该NRZI数据图案中擦除经历了通过初始功率的记录的区域。

图9A示出了当执行OPC操作时系统控制器10的处理。

同样在该情况下，假设当将光盘90安装到盘驱动设备时，识别其盘类型，并在开始OPC操作时对于每一种盘类型确定用于OPC处理的初始功率。对于每一种盘类型可以由设计者预先确定初始功率，或者可以基于在盘上作为管理信息(激光功率推荐值)记录的信息来确定初始功率。当在对应类型的盘上执行记录时，初始功率必须具有能够获得已再现信号的充分调制度并充分地执行擦除的功率强度，但未将记录质量视为问题。

在步骤F201，系统控制器10控制光学拾取器1、激光驱动器13和写策略部件14以便使用初始功率在测试区域上执行正常记录操作。在这种情况下，考虑到重写记录特性，可以多次执行记录。另外，在步骤F201的处理之前可以将测试区域经历DC擦除。

这里，例如，用于记录的NRZI数据图案是如图10A所示的图案。系统控制器10使得编码/解码部件7产生这样的测试记录图案，并使得写策略部件14提供该图案。写策略部件14产生如图10C所示的激光驱动信号的波形，并将其提供到激光驱动器13。

相应地，在光盘90的测试区域中，将区域A设置为空白，并且将区域B设置为标记。例如，形成9T标记、6T标记、7T标记等。

应该注意，图10A所示的NRZI数据图案仅为示例。进一步，不是必须使用具有各种T标记/空白的图案。可替代地，可以使用具有恒定T长度的标记/空白的图案。应该注意，在伺服稳定性方面，长度变化的标记/空白是合适的。

接着，在步骤F202，系统控制器10在测试区域上执行记录和擦除，同时变化擦除功率使其在从Pe-max到Pe-min的范围中。在这种情况下，输出记录功率，使得ε值变得恒定。

假设用于记录的NRZI数据图案为如图10B所示的图案。例如，系统控制器10使得编码/解码部件7产生这样的测试记录/擦除图案，并使得写策略部件14提供该图案。写策略部件14产生如图10D所示的激光驱动信号的波形，并将其提供到激光驱动器13。

进一步，如图10E所示，系统控制器10以步进方式改变擦除功率Pe。假设将包括图10A和图10B的数据图案的预定部分设置为测试区域中的部分D1，则当将所述部分设置为部分D1、D2、……、Dn时，在n个部分之上执行步骤F201和F202的操作。在这种情况下，在步骤F202，如图10E所示，在每一个部分中改变擦除功率(以及从擦除功率由ε值确定的记录功率)。

在步骤F202，光学拾取器1的激光二极管根据图10D所示的激光驱动信号的波形输出激光束。相应地，在区域A中形成标记，并且在区域B中执行擦除。换言之，擦除在步骤F201通过初始功率在区域B中记录的标记。

进一步，在部分D1、D2、……中用于在步骤F201形成标记的记录功率逐渐地增大，并且擦除功率也逐渐地增大。

接着，系统控制器10在步骤F203测量测试区域的调制度，并获得组合特性曲线，所述组合特性曲线是通过将擦除特性曲线与RF增长特性曲线组合而获得的。具体地说，系统控制器10使得光学拾取器1再现测试区域，并包括由调制度测量部件19获得的调制度，因此获得组合特性曲线。

将参照图11描述组合特性曲线。

图11A示意性地示出了在步骤F201通过固定功率已经在测试区域上执行了记录的状态下通过再现测试区域而获得的RF信号波形。

应该注意，在图11A中，一条实线表示图10中所示的区域B中的RF信号的幅度。如图10中看到的那样，例如，在部分D1、D2、……、Dn的每一个中存在许多区域B，而在图11A中，为了说明的方便，在部分D1、D2、……、Dn的每一个中，RF信号的幅度仅由两条实线(两个区域B)表示。

由于在步骤F201通过固定功率执行记录，因此如图11A所示，当再现测试区域时，获得区域B上预定幅度级别的RF信号波形。

接着，如上所述，在步骤F202变化功率，并执行区域A上的记录和区域B上的擦除。在这种情况下，在将擦除功率从Pe-min增大到Pe-max的同时执行擦除。在擦除操作之后，也就是说，在步骤F203，通过再现测试区域而获得的RF信号幅度如图11B所示。

在图11B中，虚线表示区域A上的RF信号幅度。

具体地说，在擦除功率低的阶段，在区域A中未充分地形成标记，并且未充分地执行区域B的擦除。随着擦除功率变高，促进了区域B中记录标记的擦除，并在区域A中逐渐地形成足够的标记。

结果，通过再现部分D1到Dn，获得如图所示的RF信号幅度。

在步骤F203，将图11B的状态下的RF信号波形被提供到调制度测量部件19，因此测量调制度。

相应地，系统控制器10可以获得如图11C所示的组合特性曲线。具体地说，获得的是在横坐标轴是擦除功率且纵坐标轴是调制度的情况下示出了根据擦除功率的RF信号的调制度的曲线。

这里，图11B的实线对应于在上述第一实施例中用于获得擦除特性曲线的RF信号波形，并且虚线对应于用于获得RF增长特性曲线的RF信号波形。

具体地说，获得图11C中所示的组合特性曲线作为将擦除特性曲线与RF增长特性曲线组合的曲线。

在组合特性曲线中，将调制度变为最小的点表示为基准点BP。

如上所述，能够获得RF增长特性曲线的区域A和能够获得擦除特性曲线的区域B在测试区域中交替地重复。由于在调制度最小的基准点BP的较低擦除功率侧上，区域A中RF的增长级别低于区域B中剩余RF的增长级别，所以看到了擦除特性曲线。另一方面，由于在基准点BP的较高擦除功率侧上，区域B中剩余RF的增长级别低于区域A中RF的增长级别，所以看到了RF增长特性曲线。具体地说，对于图11C所示的组合特性曲线的最小值的搜索对应于第一实施例中对于图6A的交叉点的搜索。

换言之，在图9A的步骤F201到F203可以获得与图3的步骤F101到F108获得的效果相同的效果。

由于获得了组合特性曲线，因此在步骤F204，系统控制器10计算最优记录功率。

具体地说，与图11C的基准点BP对应的擦除功率由Pe-det表示。

然后，通过将擦除功率Pe-det乘以预定系数K而获得的值被表示为最优擦除功率Pe-result。在确定最优擦除功率Pe-result之后，使用ε值来确定最优记录功率。

系统控制器10如上所述设置最优记录功率，其后进行设置，以便在对光盘90执行的记录操作中使用最优记录功率来进行记录。

根据如上所述的第三实施例，可以获得与第一实施例的效果相同的效果。另外，通过在步骤F202，在变化功率的同时，来同时地执行擦除和记录，可以使得整个OPC操作更加有效，并且减少用于OPC处理的时间。

(5.作为第四实施例的OPC操作)

将描述第四实施例的OPC操作。

在第三实施例的OPC操作中，在某些情况下，图11C中所示的基准点BP(即，组合特性曲线的最小值)可能是调制度太高的位置。例如，它是组合特性曲线变为如图12D的虚线指示的曲线的情况。该情况的基准点BP1是具有高调制度的点。

在这种情况下，示出了组合特性曲线的底部的角度是钝角，因此由于光盘90的灵敏度变化而引起的调制度的变化趋向于影响由最小值指示的功率值。这引起了可能不能获得足够的功率确定精度的担心。将第四实施例应用于这样的情况。

在第四实施例中，系统控制器10执行图9B的处理。应该注意，图9B的步骤F201到F204的处理与图9A的那些相同，因此省略其描述。在图9B中，紧接步骤F201，添加步骤F210的处理。

在步骤F201，系统控制器10首先通过初始功率在测试区域上执行记录(见图10A和图10C)。如果在保持这种状态的同时执行再现，则如图12A所示(类似于图11A)，获得已再现信号的幅度。

接着，在步骤F210，系统控制器10在从Pe-max到Pe-min的范围中变化擦除功率的同时在测试区域上执行擦除。这里，仅执行擦除，其中如图10E所示对于每一个部分变化擦除功率，而记录脉冲不重叠。相应地，仅执行使用初始功率已经进行了记录的区域B中标记的擦除。

如果在保持该状态的同时执行再现，则如图12B所示，获得已再现信号的幅度。

接着，在步骤F202，系统控制器10在变化功率的同时在测试区域上执行记录和擦除(见图10B、图10D和图10E)。

具体地说，不仅在区域B上执行第二擦除，还通过变化功率在区域A上执行记录。

相应地，在步骤F203的阶段，通过再现测试区域而获得的RF信号波形如图12C所示。从该RF信号波形，可以获得由图12D的实线指示的组合特性曲线，然后可以获得基准点BP2。

在如上所述获得组合特性曲线之后，如第三实施例中那样，在步骤F204计算最优记录功率。具体地说，从具有组合特性曲线上最低调制度的基准点BP2获得基准擦除功率Pe-det。然后，通过将擦除功率Pe-det乘以预定系数K来获得最优擦除功率Pe-result。在确定最优擦除功率之后，通过使用ε值来确定最优记录功率。

系统控制器10如上所述设置最优记录功率，其后进行设置以便在对光盘90执行的记录操作中使用最优记录功率进行记录。

根据如上所述的第四实施例，可以达到与第三实施例中的效果相同的效果。另外，可以执行以高精度的记录功率设置，同时支持获得组合特性(其中，由于介质的特性等未满意地获得擦除特性)的情况。

(6.根据各实施例的OPC操作的测试结果)

在上文中，已经描述了第一到第四实施例的OPC操作。这里，示出了将那些OPC操作考虑为实际适用的测试结果。

在实验中，将2005年、2006年和2007年制造的三种类型的光盘用作DVD+RW介质，将两个盘驱动设备用作设备#1和#2。然后，执行以下测试(1)到(4)。

(1)为了检查各介质之中的差异是否可以由OPC吸收，通过使用设备#1对三种类型的光盘执行功率容限(margin)测试。

(2)接着，使用设备#1，绘制关于三种类型的光盘的OPC结果。

通过检查以上(1)和(2)的结果，确认各介质之中的差异由OPC吸收。

(3)为了额外地检查各设备之间的差异是否可以由OPC吸收，通过使用设备#2对2007年制造的光盘执行功率容限测试。

(4)接着，使用设备#2，绘制关于2007年制造的光盘的OPC结果。

通过检查通过使用设备#1的功率容限测试的结果和关于2007年制造的光盘的OPC以及通过使用设备#2或获得的那些，确认各设备之间的差异由OPC吸收。

图13A示出了以上(1)的结果。具体地说，为了确认可商用的各介质之间的变化能够由该实施例的OPC操作吸收，通过准备三种类型的光盘(其标识ID相同但生产年份彼此不同)，并使用设备#1对光盘执行功率容限测试来获得结果。在图13A中，纵坐标轴是PI误差，而横坐标轴是记录中的擦除功率。

如从结果中看到的那样，2006年和2007年制造的光盘的最优功率基本上相同，但2005年制造的光盘需要相对高的功率。

然后，如以上(2)那样，图13B示出了通过使用在以上(1)中使用的设备#1来研究三种类型的光盘的OPC结果而获得的结果。通过绘制使用第四实施例的技术的情况的OPC结果来获得图13B。在图13B中，纵坐标轴是调制度，而横坐标轴是擦除功率。

如从结果中看到的那样，与以上(1)的结果类似，仅2005年制造的光盘具有相对高的OPC结果。

这意味着该OPC操作吸收了介质的变化。

然后，如上述(3)那样，为了确认各设备之间的变化可以由该示例的OPC操作吸收，通过使用另一设备#2对2007年制造的光盘执行功率容限测试。将其结果叠加在以上(1)中获得的2007年制造的光盘的结果上，由此获得图14A。

如从结果中看到的那样，与设备1的结果相比，设备#2的结果向低功率方向略有偏移，即，设备#1需要更高的功率。

可以想到，这是因为由于光学系统、激光组件等的变化而存在功率效率的微小差异。

接下来，如以上(4)那样，使用在以上(3)中使用的设备#2研究2007年制造的光盘的OPC结果。如图13B的情况中那样，在使用第四实施例的技术的情况下，通过绘制设备#1和#2的OPC结果来获得图14B。

如从结果中看到的那样，与以上(3)的结果类似，设备#1具有相对高的OPC结果。

这意味着该OPC操作吸收了各设备之间的变化。

从以上实验中，已经确认各实施例的OPC技术是适当的。

在上文中，尽管已经描述了各实施例的OPC处理，但本发明的多种修改示例是可想到的，而不会限于上述第一到第四实施例。

此外，作为记录设备，用于各种光盘(如DVD和蓝光盘)的记录设备是可想到的。另外，本发明也可以应用于盘以外的光介质的记录设备。

本发明包含与在2009年1月22日向日本专利局提交的日本优先权专利申请JP 2009-011859中公开的主题有关的主题，将其全部内容通过引用的方式合并在此。

本领域的技术人员应该理解，根据设计要求和其他因素，可以出现各种修改、组合、部分组合和变更，只要它们落在所附权利要求或其等价物的范围内即可。

Claims (5)

1.一种记录设备，包括：

光学头部件，其将激光束照射到记录介质上，并执行信息的记录、再现和擦除之一；

激光驱动部件，其驱动光学头部件，以便光学头部件输出所述激光束；

调制度测量部件，其测量由所述光学头部件读出的信号的调制度；以及

控制部件，其执行所述激光驱动部件和所述光学头部件的控制，以作为设置从所述光学头部件输出的记录激光功率的记录激光功率设置处理，在变化激光功率的同时执行记录介质的测试区域上的记录和擦除，基于根据激光功率的变化的擦除特性和已再现信号增长特性来计算功率基准值，并通过将所述记录激光功率与对应于功率基准值的擦除激光功率之比保持恒定来设置记录激光功率，其中擦除特性和已再现信号增长特性中的每一个是通过控制光学头部件以再现测试区域并获取来自调制度测量部件的已再现信号的调制度测量值来获得的，

其中，所述控制部件控制所述激光驱动部件和所述光学头部件以执行所述记录激光功率设置处理，该处理包括

作为第一处理，通过设置为预定固定值的激光功率在测试区域上执行记录，

作为第二处理，在所述固定值或更小的范围中变化所述激光功率的同时，在经历了所述第一处理中的记录的测试区域上执行擦除，

作为第三处理，在经历了所述第二处理中的擦除的测试区域上执行再现，并根据由所述调制度测量部件获得的调制度测量值计算所述擦除特性，

作为第四处理，在所述固定值或更小的范围中变化所述激光功率的同时，在完全擦除状态的测试区域上执行记录，

作为第五处理，在经历了所述第四处理中的记录的测试区域上执行再现，并根据由所述调制度测量部件获得的调制度测量值计算已再现信号增长特性，以及

作为第六处理，设置擦除特性曲线和已再现信号增长特性曲线的交叉点的功率作为功率基准值，并通过将所述记录激光功率与对应于功率基准值的擦除激光功率之比保持恒定来设置所述记录激光功率。

2.根据权利要求1所述的记录设备，

其中，所述控制部件执行所述第二处理多次。

3.一种记录设备，包括：

光学头部件，其将激光束照射到记录介质上，并执行信息的记录、再现和擦除之一；

激光驱动部件，其驱动光学头部件，以便光学头部件输出所述激光束；

调制度测量部件，其测量由所述光学头部件读出的信号的调制度；以及

控制部件，其执行所述激光驱动部件和所述光学头部件的控制，以作为设置从所述光学头部件输出的记录激光功率的记录激光功率设置处理，在变化激光功率的同时执行记录介质的测试区域上的记录和擦除，基于根据激光功率的变化的擦除特性和已再现信号增长特性来计算功率基准值，并通过将所述记录激光功率与对应于功率基准值的擦除激光功率之比保持恒定来设置记录激光功率，其中擦除特性和已再现信号增长特性中的每一个是通过控制光学头部件以再现测试区域并获取来自调制度测量部件的已再现信号的调制度测量值来获得的，

其中，所述控制部件控制所述激光驱动部件和所述光学头部件以执行所述记录激光功率设置处理，该处理包括

作为第一处理，通过设置为预定固定值的激光功率在测试区域上执行记录，并在测试区域上形成标记和空白，

作为第二处理，在所述固定值或更小的范围中变化所述激光功率的同时，在经历了所述第一处理中的记录的测试区域中，对空白执行记录且对标记执行擦除，

作为第三处理，在经历了所述第二处理的测试区域上执行再现，并根据由所述调制度测量部件获得的调制度测量值计算所述擦除特性和所述已再现信号增长特性的组合特性，以及

作为第四处理，通过将在其上组合特性曲线的调制度变为最小的调制度最小点的功率设置为功率基准值，并且通过将所述记录激光功率与对应于功率基准值的擦除激光功率之比保持恒定来设置记录激光功率。

4.一种记录设备，包括：

光学头部件，其将激光束照射到记录介质上，并执行信息的记录、再现和擦除之一；

激光驱动部件，其驱动光学头部件，以便光学头部件输出所述激光束；

调制度测量部件，其测量由所述光学头部件读出的信号的调制度；以及

控制部件，其执行所述激光驱动部件和所述光学头部件的控制，以作为设置从所述光学头部件输出的记录激光功率的记录激光功率设置处理，在变化激光功率的同时执行记录介质的测试区域上的记录和擦除，基于根据激光功率的变化的擦除特性和已再现信号增长特性来计算功率基准值，并通过将所述记录激光功率与对应于功率基准值的擦除激光功率之比保持恒定来设置记录激光功率，其中擦除特性和已再现信号增长特性中的每一个是通过控制光学头部件以再现测试区域并获取来自调制度测量部件的已再现信号的调制度测量值来获得的，

其中，所述控制部件控制所述激光驱动部件和所述光学头部件以执行记录激光功率设置处理，该处理包括

作为第一处理，通过设置为预定固定值的激光功率在测试区域上执行记录，并在测试区域上形成标记和空白，

作为第二处理，在所述固定值或更小的范围中变化所述激光功率的同时，在经历了所述第一处理中的记录的测试区域上执行擦除，

作为第三处理，在所述固定值或更小的范围中变化所述激光功率的同时，在经历了所述第一处理中的记录的测试区域中，对空白执行记录且对标记执行擦除，

作为第四处理，在经历了所述第三处理的测试区域上执行再现，并根据由所述调制度测量部件获得的调制度测量值计算所述擦除特性和所述已再现信号增长特性的组合特性，以及

作为第五处理，通过将在其上组合特性曲线的调制度变为最小的调制度最小点的功率设置为功率基准值，并且通过将所述记录激光功率与对应于功率基准值的擦除激光功率之比保持恒定来设置记录激光功率。

5.一种记录激光功率设置方法，包括：

在变化从光学头部件输出的激光功率的同时，在记录介质的测试区域上执行记录和擦除；

通过所述光学头部件再现所述测试区域，并获取已再现信号的调制度测量值；

根据所述激光功率的变化计算功率基准值作为擦除特性曲线和已再现信号增长特性曲线的交叉点，所述擦除特性和所述已再现信号增长特性中的每一个是从所述调制度测量值获得的；以及

通过将所述记录激光功率与对应于功率基准值的擦除激光功率之比保持恒定来设置记录激光功率。

Images