CN101760353A - 一种清洗膜系统含硅、铁、钙镁污垢的复合清洗剂 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种清洗膜系统含硅、铁、钙镁污垢的复合清洗剂,包括由分子式为NH4HF2的氟化铵、分子式为C3H4OH(COOH)3的柠檬酸、分子结构式为HOOC-COOH的草酸(即乙二酸)和去离子水组成根据质量配比分别为1∶2∶3∶4配制而成并于常温下形成溶液。本发明有益效果为:通过多重作用去除氧化铁对膜系统的污染,可达到良好的除污效果;可同时解决无机盐、金属氧化物、硅等多类污染物对膜系统的损害,药效范围广;可代替多种药剂共同使用,操作简便。

Description

一种清洗膜系统含硅、铁、钙镁污垢的复合清洗剂
技术领域
本发明涉及一种针对水处理膜系统中硅垢、铁的氧化物垢、钙盐垢以及镁盐垢污染的酸性复合清洗制剂,尤其涉及一种清洗膜系统含硅、铁、钙镁污垢的复合清洗剂。
背景技术
随着纯水技术和废水回用技术的不断发展,膜技术(包括反渗透膜、纳滤膜、超滤膜、微滤膜)在水处理中的应用越来越广泛,而水源的不断恶化对膜系统的正常运行提出更高的要求,膜系统的污堵亦成为其运行的第一大障碍,如何减少污堵或者污堵后如何有效清洗是目前行业领域内最为关注的两个研究方向。膜系统的主要污染物种类为:无机盐(如碳酸钙、硫酸钙、硫酸钡)、金属氧化物(如铁)、无机胶体(如淤泥)、微生物、有机物、细菌、霉菌、硅等;针对这些污染物的主要清洗剂为:盐酸、磷酸、柠檬酸、氢氧化钠、EDTA、氢氟酸等,但这些药剂的清洗效果较差、功能单一、药效低,并不具备将所有各类杂质完全去除彻底的作用。
发明内容
针对以上缺陷,本发明提供一种除污效果较佳、药效范围广、可代替多种药剂使用的清洗膜系统含硅、铁、钙镁污垢的复合清洗剂,从而彻底解决无机垢污堵后不能有效清洗的问题。
为实现上述目的,本发明采用以下技术方案:
一种清洗膜系统含硅、铁、钙镁污垢的复合清洗剂,包括由分子式为NH4HF2的氟化铵、分子式为C3H4OH(COOH)3的柠檬酸、分子结构式为HOOC-COOH的草酸(即乙二酸)和去离子水组成根据质量配比分别为10%、20%、30%和40%或质量配比分别为1∶2∶3∶4配制而成并于常温下形成溶液。
本发明有益效果为:通过多重作用去除氧化铁对膜系统的污染,可达到良好的除污效果;可同时解决无机盐、金属氧化物、硅等多类污染物对膜系统的损害,药效范围广;可代替多种药剂共同使用,操作简便。
具体实施方式
实施例1
本发明实施例所述的清洗膜系统含硅、铁、钙镁污垢的复合清洗剂,包括由分子式为NH4HF2的氟化铵、分子式为C3H4OH(COOH)3的柠檬酸、分子结构式为HOOC-COOH的草酸(即乙二酸)和去离子水组成根据质量配比分别为10%、20%、30%和40%配制而成并于常温下形成溶液。
实施例2
本发明实施例所述的清洗膜系统含硅、铁、钙镁污垢的复合清洗剂,包括由分子式为NH4HF2的氟化铵、分子式为C3H4OH(COOH)3的柠檬酸、分子结构式为HOOC-COOH的草酸(即乙二酸)和去离子水组成根据质量配比分别为10.5%、20.5%、29.5%和39.5%配制而成并于常温下形成溶液。
实施例3
本发明实施例所述的清洗膜系统含硅、铁、钙镁污垢的复合清洗剂,包括由分子式为NH4HF2的氟化铵、分子式为C3H4OH(COOH)3的柠檬酸、分子结构式为HOOC-COOH的草酸(即乙二酸)和去离子水组成根据质量配比分别为9.8%、19.8%、30.8%和40.8%配制而成并于常温下形成溶液。

Claims (1)

1.一种清洗膜系统含硅、铁、钙镁污垢的复合清洗剂,其特征在于:包括由分子式为NH4HF2的氟化铵、分子式为C3H4OH(COOH)3的柠檬酸、分子结构式为HOOC-COOH的草酸(即乙二酸)和去离子水组成根据质量配比分别为1∶2∶3∶4配制而成并于常温下形成溶液。
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