CN101718490A - 用于密闭腔内坩埚中熔体的流出口定位调整装置 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种用于密闭腔内坩埚中熔体的流出口定位调整装置。用于密闭腔内坩埚中熔体的流出口定位调整装置,该装置包括缸体、滑块和升降螺母;升降螺母的上部设有卡槽,滑块上部设有径向凸出的凸台,凸台卡接在卡槽内,升降螺母内圈的下部通过螺纹连接在缸体的上端部;所述的滑块的上部设有连接头,滑块下部设置在缸体内部,并通过密封圈密封;在滑块与缸体之间设有导柱和导向孔,导柱设置在导向孔内。本发明的装置不用打开密闭壳体,在密闭状态下对熔体流出口到浇铸模具表面的距离与朝向进行调节定位,非常的方便。
Description
技术领域
本发明涉及一种用于密闭腔内坩埚中熔体的流出口定位调整装置。
背景技术
在很多情况下,对材料加工需要在一个封闭的腔体中从腔外对腔内的部件位置进行调整定位。例如在真空状态或保护气氛下金属的液态成形(如铸造、铸轧等)设备和半固态液态成形(如触变成形、流变成形等)设备中,封闭的腔体内的坩埚中熔体流出口的上下位置和出口朝向需要用腔外的机构进行调整定位。
晶体硅太阳能电池作为一种可再生的清洁能源,现在越来越受到人们的重视,应用也越来越广泛。将晶体硅制成硅箔带是降低晶体硅太阳能电池制造成本的有效方法之一,为此开发了一种硅带制造设备。该设备包括密闭壳体,在密闭壳体内有坩埚,在坩埚的外面安装有加热器,坩埚下部设有熔体流出口,流出口下方安装有可移动的浇铸模具。在制作硅带时,把多晶硅原料放在坩埚内,将密闭壳体抽成真空或充有保护气氛,启动加热器,对坩埚内硅原料加热使之熔化,并对硅熔体施加一定的压力,使硅熔体从坩埚的出口流到浇铸模具上。在这个过程当中,流出口到模具表面的距离需要保持在一定的范围内,流出口的朝向要对准模具的移动方向,使之能获得符合所需宽度和厚度要求的硅带。原先将硅原料装入坩埚内后,依靠手工调节好熔体流出口到模具表面的距离和朝向,然后对坩埚定位装夹,用定位装夹装置将熔体流出口夹紧,如果在硅带的制作过程中发现距离和朝向不太合适,就需要将密闭壳体打开重新进行调节,这将会使原先的密闭真空环境或充气环境遭到破坏,需要重新进行抽真空或充气,有时需要多次重复此步骤,非常的麻烦。所以如何不打开密闭壳体,在密闭状态下对熔体流出口到浇铸模具表面的距离和朝向进行调节就成为所需要解决的问题。
发明内容
本发明为了解决在密闭状态下对熔体流出口到浇铸模具表面的距离和朝向进行定位的问题,设计了一种用于密闭腔内坩埚熔体流出口定位调整装置,该装置可以实现在密闭腔体外部对熔体流出口到浇铸模具表面的距离与朝向进行调节,具有操作方便、结构简单的特点。
为了实现上述的目的,本发明采用了以下的技术方案:
用于密闭腔内坩埚中熔体的流出口定位调整装置,该装置包括用于连接密闭腔室的缸体、滑块和升降螺母;升降螺母的上部通过螺钉固定一个压环,压环与升降螺母之间设有卡槽,滑块上部设有径向凸出的凸台,凸台卡接在卡槽内,升降螺母内圈的下部设有螺纹,并通过螺纹连接在缸体的上端部;所述的滑块的上部设有连接头,滑块下部滑动设置在缸体内部,并通过设置在滑块下部的密封圈密封;在滑块与缸体之间设有导柱和导向孔,导柱设置在导向孔内。
作为优选,上述的缸体的内圈设置有凸环,所述的导向孔设置在凸环上,所述的导柱固定在滑块上,导柱套设在导向孔内。
作为优选,上述的缸体外周侧壁上设有刻度,升降螺母上设有第一指针,第一指针正对所述的刻度,刻度可显示调整的高度。
作为优选,上述的连接口上设置有套接通气管道的压垫圈,压垫圈与连接口之间设有密封圈,压垫圈通过压紧螺母固定在连接口上,压紧螺母通过螺纹旋接在连接口上。上述的结构实现了连接口的密封,并可以固定通气管道。
作为优选,上述的升降螺母的外圈周向均匀设有若干只第一推动手柄,第一推动手柄通过螺栓固定在升降螺母上。第一推动手柄方便使用者使用。
作为优选,该装置还包括旋转调节构件,旋转调节构件包括第二推动手柄和用于连接密闭腔室的连接套,第二推动手柄设置在缸体的外圈,连接套与缸体之间通过螺纹连接,并通过密封圈密闭缸体与连接套。旋转调节构件可以实现熔体流出口朝向的调整。作为再优选,连接套外周侧壁上设有刻度,缸体上设有第二指针,第二指针正对所述的刻度。刻度用于显示熔体流出口朝向的角度。作为优选,上述的滑块可采用聚四氟乙烯材料。
本发明由于采用了上述的技术方案,通过对升降螺母的旋转带动滑块的上下滑动以及通过调整旋转调节构件,从而带动通气管道和坩埚的上下滑动和转动,由此调节坩埚下部的熔体流出口到浇铸模具的距离和朝向。该装置不用打开密闭壳体,在密闭状态下对熔体流出口到浇铸模具表面的距离与朝向进行调节定位,非常的方便。
附图说明
图1为本发明实施例1的剖面示意图。
图2为本发明实施例2的剖面示意图。
图3为本发明实施例2的外部结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图对本发明的具体实施方式做一个详细的说明。
实施例1
如图1所示的用于密闭腔室10的可调整定位的接头装置,该装置包括用于连接密闭腔室10的缸体7、连接通气管道1的滑块3、升降螺母5和旋转调节构件,缸体7和升降螺母5采用不锈钢材料,滑块3采用聚四氟乙烯材料。如图1所示,升降螺母5的外圈周向均匀设有三只第一推动手柄4,第一推动手柄4通过螺栓固定在升降螺母5上。升降螺母5的上部通过螺钉52固定有压环51,压环51与升降螺母5之间形成有卡槽,滑块3上部设有径向凸出的凸台31,凸台31卡接在卡槽内,升降螺母5内圈的下部设有螺纹53,并通过螺纹53连接在缸体7的上端部。所述的滑块3的上部设有连接通气管道1的连接头36,连接头36上设置有套接通气管道1的压垫圈21,压垫圈21与连接头36之间设有密封圈22,压垫圈21通过压紧螺母2固定在连接头36上,压紧螺母2通过螺纹旋接在连接头36上。滑块3的下部可滑动并密封设置在缸体7内部。并在缸体7的内圈设置有凸环71,凸环71上导向孔72,滑块3上设置有导柱6,导柱6套设在导向孔72内。
上述的缸体7外周侧壁上可以设有刻度74,升降螺母5上设置第一指针54,第一指针54正对所述的刻度74。
在制造硅带13的时候,将此定位调整装置安装到制造硅片的专用设备上,将坩埚9上部的通气管道1,固定在连接头36上,将缸体7与密闭腔室10固定连接。需要对熔体流出口11到浇铸模具12表面的距离进行调节的时候,就通过第一推动手柄4旋转升降螺母5,升降螺母5推动滑块3上下移动,这样就带动通气管和坩埚9上下移动,实现了调节了熔体流出口11到浇铸模具12表面的距离。
实施例2
如图2所示,在实施例1的基础上,本实施例增加了调整熔体流出口朝向的旋转调节构件,旋转调节构件包括第二推动手柄73和用于连接密闭腔室10的连接套8,第二推动手柄73设置在缸体7的外圈,连接套8与缸体7之间通过螺纹82连接,并通过密封圈81密闭缸体7与连接套8的连接壁。旋转调节构件可以实现熔体流出口11朝向的调整。如图3所示,连接套8外周侧壁上设有刻度83,缸体7上设有第二指针75,第二指针针75对所述的刻度83。刻度83用于显示调整熔体流出口11朝向的角度。
Claims (8)
1.用于密闭腔内坩埚中熔体的流出口定位调整装置,其特征在于:该装置包括用于连接密闭腔室(10)的缸体(7)、滑块(3)和升降螺母(5);升降螺母(5)的上部通过螺钉(52)固定有压环(51),压环(51)与升降螺母(5)之间设有卡槽,滑块(3)设有径向凸出的凸台(31),凸台(31)卡接在卡槽内,升降螺母(5)内圈的下部设有螺纹(53),并通过螺纹(53)连接在缸体(7)的上端部;所述的滑块(3)的上部设有连接头(36),滑块(3)下部滑动设置在缸体(7)内部,并通过密封圈(35)密封,在滑块(3)与缸体(7)之间设有导柱(6)和导向孔(72),导柱(6)置于导向孔(72)内。
2.根据权利要求1所述的用于密闭腔内坩埚中熔体的流出口定位调整装置,其特征在于:缸体(7)的内圈设置有凸环(71),所述的导向孔(72)设置在凸环(71)上,所述的导柱(6)固定在滑块(3)上,导柱(6)套设在导向孔(72)内。
3.根据权利要求1所述的用于密闭腔内坩埚中熔体的流出口定位调整装置,其特征在于:缸体(7)外周侧壁上设有刻度(74),升降螺母(5)上设有第一指针(54),第一指针(54)正对所述的刻度(74)。
4.根据权利要求1所述的用于密闭腔内坩埚中熔体的流出口定位调整装置,其特征在于:连接头(36)上设置有套接通气管道(1)的压垫圈(21),压垫圈(21)与连接头(36)之间设有密封圈(22),压垫圈(21)通过压紧螺母(2)固定在连接头(36)上,压紧螺母(2)通过螺纹旋接在连接头(36)上。
5.根据权利要求1所述的用于密闭腔内坩埚中熔体的流出口定位调整装置,其特征在于:升降螺母(5)的外圈周向均匀设有若干只第一推动手柄(4),第一推动手柄(4)通过螺栓固定在升降螺母(5)上。
6.根据权利要求1所述的用于密闭腔内坩埚中熔体的流出口定位调整装置,其特征在于:该装置还包括旋转调节构件,旋转调节构件包括第二推动手柄(73)和用于连接密闭腔室(10)的连接套(8),第二推动手柄(73)设置在缸体(7)的外圈,连接套(8)与缸体(7)之间通过螺纹(82)连接,并通过密封圈(81)密闭缸体(7)与连接套(8)。
7.根据权利要求1所述的用于密闭腔内坩埚中熔体的流出口定位调整装置,其特征在于:连接套(8)外周侧壁上设有刻度(83),缸体(7)上设有第二指针(75),第二指针(75)正对所述的刻度(83)。
8.根据权利要求1所述的用于密闭腔内坩埚中熔体的流出口定位调整装置,其特征在于:滑块(3)采用聚四氟乙烯材料。
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