CN101716582B - 工业尘埃清洗方法及装置 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种工业尘埃清洗方法，该方法包括：利用高压气体形成的涡流吹扫工件表面，利用真空口将涡流吹扫起来的尘埃抽走。另外，本发明还提供一种工业尘埃清洗装置，该装置包括：涡流产生装置，具有至少一涡流出口；罩，设在涡流产生装置的外围，以形成环绕涡流产生装置的真空口；以及抽真空装置，与真空口相连。本发明能替代以往的利用水洗、毛刷清洗等方法，节约资源和空间、降低成本，清洗的洁净度较好，二次污染的可能性极小。
Description
技术领域
本发明涉及等离子显示器领域，具体而言，涉及一种工业尘埃清洗方法及装置。
背景技术
液晶基板、等离子基板、薄膜及版面进行油漆等生产过程中对尘埃的要求是非常严格的，现有的工业尘埃清洗方法采用水洗或毛刷进行清洗，这样一是浪费资源和空间、增大成本，二是洁净度不能保证，二次污染的可能性极大。
因此，有必要对现有的清洗方法进行改进。
发明内容
本发明目的在于提供一种利用气体进行的工业尘埃清洗方法及装置，以替代水洗或毛刷进行清洁。
为此，本发明提供的利用气体进行工业尘埃清洗的方法包括：利用高压气体形成的涡流吹扫工件表面，利用真空口将涡流吹扫起来的尘埃抽走。
其中，上述涡流自至少一涡流出口吹出，上述真空口环绕至少一涡流出口。
其中，上述涡流自一槽中吹出，上述真空口在上述中心槽的两侧平行延伸。
其中，使上述工件在上述涡流下方水平移动。
其中，使用于吹扫的涡流沿工件表面移动。
其中，上述工件为待清洗的等离子或液晶基板、其它薄膜或薄板表面的除尘清洗等。
其中，上述涡流由高压气体进入一圆形腔体中形成。
另外，本发明还提供一种利用气体进行工业尘埃清洗的装置，包括：涡流产生装置，具有至少一涡流出口；罩，设在涡流产生装置的外围，以形成环绕涡流产生装置的真空口；以及抽真空装置，与真空口相连。
其中，上述涡流产生装置包括高压进气管、涡流腔、以及与涡流腔连通的至少一涡流出口。
其中，上述涡流腔为球形腔体。
本发明利用高压气体形成的涡流吹扫工件表面，利用真空口将涡流吹扫起来的尘埃抽走，不但将轻浮在工件表面的尘埃抽走，而且还将紧密附着在工件上的尘埃去除掉，节约了资源和空间、降低了成本，清洗的洁净度较好，二次污染的可能性极小。
除了上面所描述的目的、特征和优点之外，本发明还有其它的目的、特征和优点。下面将参照图，对本发明的其它的目的、特征和效果作进一步详细的说明。
附图说明
此处所说明的附图用来提供对本发明的进一步理解，构成本申请的一部分。图中，
图1示意性的示出了根据本发明的工业尘埃清洗的装置的结构。
具体实施方式
下面将参考附图并结合优选实施例，来详细说明本发明。
本发明的工业尘埃清洗方法是利用高压气体形成的涡流吹扫工件表面，再利用真空口将所述涡流吹扫起来的尘埃抽走。从而达到清洁工件表面的目的。下面描述根据本发明方法的装置。
图1示意性的示出了根据本发明的利用气体进行工业尘埃清洗的装置的结构。如图所示，根据本发明的利用气体进行的工业尘埃清洗装置包括：涡流产生装置30，罩40，抽真空装置(图中未示出)，以及用于输送待清洁工件的传送装置10。
传送装置10，用于传送工件20，该工件20为需清洗工业尘埃的等离子或液晶基板、其它薄膜或薄板等部件；涡流产生装置30，设置在传送装置10的上方，用于产生涡流，涡流产生装置30具有高压进气管(图中未示出)、形状为球形腔体的涡流腔33、以及与涡流腔连通的涡流出口31；罩40，设在涡流产生装置30的外围，以形成环绕涡流产生装置30的真空口32；抽真空装置，与真空口32相连，可以由真空泵、真空管道和真空阀门构成。
清洗工件20的工业尘埃时，传送装置10将工件20传送至涡流产生装置30下面，涡流腔33产生涡流，通过涡流出口31，利用压力为0.5～0.7Mpa的高压气体形成的涡流吹扫工件20表面，两边的抽真空口32把涡流旋扫起来的尘埃及从两边抽吸进来的尘埃一起抽走。随着传送装置10将工件20从一端传送至另一端，工件20表面上的工业尘埃就被清洗干净。本发明不但将轻浮在工件表面的尘埃抽走，而且还将紧密附着在工件20上的尘埃去除掉，从而达到彻底清洁的目的。
在图1所示的工业尘埃清洗装置中，涡流腔33还可以为其他形状，只要能产生涡流即可。涡流出口根据情况可以设置多个。另外，涡流出口还可以呈槽状，此时，用于抽真空的真空口可设置在槽状涡流出口的两侧。
本发明能替代以往的利用水洗、毛刷清洗等方法，节约资源和空间、降低成本，清洗的洁净度较好，二次污染的可能性极小。
以上仅为本发明的优选实施例而已，并不用于限制本发明，对于本领域的技术人员来说，本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (7)
1.一种工业尘埃清洗方法，其特征在于，包括：
利用涡流吹扫工件表面，其中，所述涡流由高压气体进入一球形腔体的涡流腔中形成，并且通过与所述涡流腔连通的涡流出口吹出，
利用真空口将所述涡流吹扫起来的尘埃抽走。
2.根据权利要求1所述的工业尘埃清洗方法，其特征在于，
所述涡流自至少一涡流出口吹出，所述真空口环绕所述至少一涡流出口。
3.根据权利要求1所述的工业尘埃清洗方法，其特征在于，
所述涡流自一槽中吹出，所述真空口在所述槽的两侧平行延伸。
4.根据权利要求1所述的工业尘埃清洗方法，其特征在于，使所述工件在所述涡流下方水平移动。
5.根据权利要求1所述的工业尘埃清洗方法，其特征在于，使用于吹扫的涡流沿所述工件表面移动。
6.根据权利要求1所述的工业尘埃清洗方法，其特征在于，
所述工件为待清洗的等离子或液晶基板、薄膜或薄板表面。
7.一种工业尘埃清洗装置，其特征在于，包括
涡流产生装置，包括高压进气管、球形腔体的涡流腔、以及与所述涡流腔连通的至少一涡流出口；
罩，设在所述涡流产生装置的外围，以形成环绕涡流产生装置的真空口；以及抽真空装置，与所述真空口相连。
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