CN101705958A - 双油缸同步控制系统 - Google Patents

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杨定华
赵莎莎
张鹏
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Hunan Hefeng CNC Machine Tool Co Ltd
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Abstract

本发明提供了一种双油缸同步控制系统,其特征在于,包括第一主油缸、第二主油缸、控制器、第一位移传感器、第二位移传感器、第一比例放大器、第二比例放大器和第一比例阀和第二比例阀;第一比例放大器的输出端、第一比例阀和第一主油缸的控制端依次串接;第二比例放大器的输出端、第二比例阀、第二主油缸的控制端依次串接;第一位移传感器和第二位移传感器分别设置在第一主油缸和第二主油缸上;第一位移传感器和第二位移传感器的信号输出端均连接控制器的输入端口;第一比例放大器和第二比例放大器的输入端均连接控制器的输出端口。本发明能实现第一主油缸和第二主油缸在开机运行的整个过程中能始终保持同步。

Description

双油缸同步控制系统
技术领域
本发明属于机电一体化技术,涉及一种双油缸同步控制系统。
背景技术
现有油缸同步技术主要是通过油缸上的位移传感器安装的绝对零误差和保证油路及压力腔体积绝对一致来实现的。其中传感器安装的绝对零误差不可能实现,即使实现,但在设备运行过程中双油缸出现的位移误差也无法调整;而油路及两个油缸的油缸压力腔的体积也不可能达到绝对一致,因为任何一种设备加工出的零件绝对不可能完全一样。因此,这种油缸同步技术具有无法克服的缺陷。
发明内容
本发明的所要解决的技术问题是提供一种双油缸同步控制系统,实现油缸同步的精确控制。
为解决上述技术问题,本发明所采用的技术方案为:
一种双油缸同步控制系统,其特征在于,包括第一主油缸、第二主油缸、控制器、第一位移传感器、第二位移传感器、第一比例放大器、第二比例放大器和第一比例阀和第二比例阀;第一比例放大器的输出端、第一比例阀和第一主油缸的控制端依次串接;第二比例放大器的输出端、第二比例阀、第二主油缸的控制端依次串接;第一位移传感器和第二位移传感器分别设置在第一主油缸和第二主油缸上;第一位移传感器和第二位移传感器的信号输出端均连接控制器的输入端口;第一比例放大器和第二比例放大器的输入端均连接控制器的输出端口。
所述的控制器为微处理器,包括PID控制单元。
采用上述技术方案的双油缸立式拉床,在开机运行时,通过位移传感系统检测两主油缸的实时位移数据,并将数据传送到CNC(计算机数字控制)控制系统,由CNC系统对两个数据进行大小比对,计算位移差,转化成信号模拟量传送至调节系统,由比例阀放大器根据传出的模拟信号,调节比例阀供油量,使油缸腔压力产生变化最终使两油缸同步。
发明的有益效果:
本发明基于CNC(计算机数字控制)系统控制,能精确调整双油缸整个运动过程中始终同步。本系统结构简单,易于实施,控制效果好。
附图说明
图1为本发明的总体结构示意图。
具体实施方式
以下结合附图对本发明作进一步说明。
实施例1:
如图1所示,第一位移传感器和第二位移传感器分别采集对应第一主油缸和第二主油缸的位移实时数据的电信号传送至控制器(如果传感器输出为模拟信号,则需要AD转换器进行数据转换)。将得到两组数字信号传送至计算机(控制器)分析。由控制器分析计算出位移差并根据PID(比例微分积分)进行实时数据参数计算,得到的数值即为液压油流量调节值,即控制量【必要时在控制器的输出端到比例放大器之间需要引入DA转换器】。再将液压油流量调节值送至第一比例放大器和第二比例放大器,由第一比例放大器调节第一比例阀开大或小,从而调节第一主油缸增速或减速;由第二比例放大器调节第二比例阀开小或大,从而调节第二主油缸减速或增速。通过这种控制方式来调整第一主油缸和第二主油缸的同步。本系统为一个闭环控制系统,最终能实现第一主油缸和第二主油缸位移差值为零即第一主油缸和第二主油缸同步为止。
采用上述技术,油缸在开机运行的整个过程中能始终保持同步,且安装、调试、检测、修理都较为方便。
综合上述,本项技术专用于双缸立式拉床的双油缸同步调节。

Claims (2)

1.一种双油缸同步控制系统,其特征在于,包括第一主油缸、第二主油缸、控制器、第一位移传感器、第二位移传感器、第一比例放大器、第二比例放大器和第一比例阀和第二比例阀;第一比例放大器的输出端、第一比例阀和第一主油缸的控制端依次串接;第二比例放大器的输出端、第二比例阀、第二主油缸的控制端依次串接;第一位移传感器和第二位移传感器分别设置在第一主油缸和第二主油缸上;第一位移传感器和第二位移传感器的信号输出端均连接控制器的输入端口;第一比例放大器和第二比例放大器的输入端均连接控制器的输出端口。
2.根据权利要求1所述的双油缸同步控制系统,其特征在于,所述的控制器为微处理器,包括PID控制单元。
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PB01 Publication
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
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