CN101696487A - 卷绕镀膜前处理工艺及装置 - Google Patents

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佘自力
李金明
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Abstract

本发明涉及真空镀膜技术,尤其涉及一种卷绕镀膜前处理工艺及实现该工艺的装置,适用于被镀材料为能够卷绕的薄膜式材料,其特征在于,包括以下步骤:第(1)步,加热除气;第(2)步,辉光活化处理;第(3)步,通过隔离带进入真空室;前述第(1)至(3)步是在线的、连续发生的。一种卷绕镀膜前处理装置,包括真空室,还包括加热装置、辉光放电装置、隔离带。本发明提供一种镀膜效果好的卷绕镀膜前处理工艺及实现该工艺的装置。

Description

卷绕镀膜前处理工艺及装置
技术领域
本发明涉及真空镀膜技术,尤其涉及一种卷绕镀膜前处理工艺及实现该工艺的装置。
背景技术
现有的真空镀膜工艺,对于品质要求不高的,一般不进行前处理;对于具有较高品质要求的镀膜,一般先进行前处理,大都采用红外加热方式,进行除气处理,以增加被镀材料表面洁性,镀膜均匀,附着力好。现有的真空镀膜设备,因在线密封等原因一般都是独立的,不设置前处理装置。现有的前处理工艺,在表面除气处理后,一般也还要经过存贮、周转,还能到镀膜工序,存贮及周转工序会带来二次污染,影响镀膜效果。
发明内容
本发明的目的在于克服上述现有技术的不足之处而提供一种镀膜效果好的卷绕镀膜前处理工艺及实现该工艺的装置。
本发明的目的可以通过以下技术方案实现:
一种卷绕镀膜前处理工艺,适用于被镀材料为能够卷绕的薄膜式材料,其特征在于,包括以下步骤:
第(1)步,加热除气;
第(2)步,辉光活化处理;
第(3)步,通过隔离带进入真空室;
前述第(1)至(3)步是在线的、连续发生的。
卷绕镀膜前处理工艺,其特征在于:第(1)步的加热除气,是指被镀材料在线通过一加热装置,以便去除被镀材料表面的水气、氢气、氮气,所述加热装置内的温度为60℃至200℃,所述被镀材料从进入至离开所述加热装置的时间为10s至60s。
卷绕镀膜前处理工艺,其特征在于:所述被镀材料是PET膜,所述温度为130℃,所述时间为30s;或所述被镀材料是PI膜,所述温度为200℃,所述时间为30s;或所述被镀材料是PEM膜,所述温度为150℃,所述时间为30s。
卷绕镀膜前处理工艺,其特征在于:第(2)步所述的辉光活化处理,是指被镀材料在线通过一高压辉光放电装置,以增加被镀材料表面活性及去除顽固性粘着颗粒。
卷绕镀膜前处理工艺,其特征在于:第(3)步所述的通过隔离带进入真空室,是指所述被镀材料在线经过一段长600mm至800mm、宽10mm至12mm的狭缝,进入真空室以便开始镀膜工序。
一种卷绕镀膜前处理装置,包括真空室,其特征在于:还包括加热装置、辉光放电装置、隔离带;所述加热装置是红外发热元件;所述隔离带有二条,分别定义为第一隔离带和第二隔离带,所述第一隔离带设置于所述真空室的入口,所述第二隔离带设置于所述真空室的出口;所述真空室、所述加热装置、所述辉光放电装置的位置关系为,按被镀材料流动的方向,依次是所述加热装置、所述辉光放电装置、所述真空室。
卷绕镀膜前处理装置,其特征在于:所述加热装置是成对设置的红外发热元件,每对红外发热元件之发热面相向设置;所述红外发热元件是发热片,其结构为,发热面是铜板或铝板,再向内依次是热管、热反射层、隔热材料层。
卷绕镀膜前处理装置,其特征在于:所述隔热材料层是隔热膜,该隔热膜的膜系结构为多层隔热单元构成的复合而成,各层隔热单元同向设置;每层隔热单元由基材层和气凝胶层组成;所述基材层是聚酰亚胺或碳纤维膜,所述气凝胶层是多孔二氧化硅气凝胶;且相邻的隔热单元之间还具有一高温胶层。
卷绕镀膜前处理装置,其特征在于:该卷绕镀膜前处理装置还包括导向辊。
卷绕镀膜前处理装置,其特征在于:所述加热装置还包括一抽风机,以便及时排掉被镀材料表面释放出来的水气、氢气、氮气。
本发明的卷绕镀膜前处理工艺在线的、连续发生的加热除气、辉光活化处理、通过隔离带进入真空室;加热除气能够去除被镀材料表面的水气、氢气、氮气以及其它杂气,而辉光活化处理能够去顽固颗粒,从而镀膜表面更均匀,附着力更好;被镀材料通过隔离带在线进入真空室,隔离带给真空室的压力损失很小,并且这种压力损失是连续的定量的,可以通过真空泵及时的定量调整,对镀膜工序没有影响,由此带来的优点是被镀材料在经过前处理后直接进入真空室没有二次污染,与现有技术相比,镀膜效果更好。本发明的卷绕镀膜前处理装置包括真空室,还包括加热装置、辉光放电装置、隔离带,能够实现在线前处理及在线镀膜;因为同时设置了加热装置和辉光放电装置,与现有技术相比,同时去除了水气等杂气及顽固颗粒,前处理效果更好,并且,本发明的卷绕镀膜前处理装置,被镀材料前处理后能过隔离带直接进入真空室,减少了二次污染,所以镀膜效果更好。
附图说明
图1是本发明第一个实施例卷绕镀膜前处理工艺流程图。
图2是本发明第二个实施例之卷绕镀膜前处理装置的原理示意图。
具体实施方式
下面将结合附图对本发明作进一步详述。
参考图1,本发明的第一个实施例是一种卷绕镀膜前处理工艺,适用于被镀材料为能够卷绕的薄膜式材料,其特征在于,包括以下步骤:第(1)步,加热除气;第(2)步,辉光活化处理;(3)步,通过隔离带进入真空室;前述第(1)至(3)步是在线的、连续发生的。第(1)步的加热除气,是指被镀材料在线通过一加热装置,以便去除被镀材料表面的水气、氢气、氮气以及其它杂气,所述被镀材料是PET膜,所述温度为130℃,所述时间为30s;第(2)步所述的辉光活化处理,是指被镀材料在线通过一高压辉光放电装置,以增加被镀材料表面活性及去除顽固性粘着颗粒。第(3)步所述的通过隔离带进入真空室,是指所述被镀材料在线经过一段长659mm、宽11mm的狭缝,进入真空室以便开始镀膜工序。
参考图2,本发明的第二个实施例是一种卷绕镀膜前处理装置,包括真空室104,还包括加热装置101、辉光放电装置102、隔离带103;所述加热装置101是红外发热元件;所述隔离带103有二条,分别定义为第一隔离带和第二隔离带,所述第一隔离带设置于所述真空室104的入口,所述第二隔离带设置于所述真空室104的出口;所述真空室104、所述加热装置101、所述辉光放电装置102的位置关系为,按被镀材料001流动的方向,依次是所述加热装置101、所述辉光放电装置102、所述真空室104。本实施例中,所述加热装置101是成对设置的红外发热元件,每对红外发热元件之发热面相向设置;所述红外发热元件是发热片,其结构为,发热面是铜板或铝板,再向内依次是热管、热反射层、隔热材料层,所述隔热材料层是隔热膜,该隔热膜的膜系结构为多层隔热单元构成的复合而成,各层隔热单元同向设置,每层隔热单元由基材层和气凝胶层组成,所述基材层是聚酰亚胺或碳纤维膜,所述气凝胶层是多孔二氧化硅气凝胶,且相邻的隔热单元之间还具有一高温胶层。本实施例中,该卷绕镀膜前处理装置还包括导向辊,用于支撑被镀材料001。所述加热装置101还包括一抽风机(图中未示出,采用现有技术中加热除风方式即可),以便及时排掉被镀材料001表面释放出来的水气、氢气、氮气。

Claims (10)

1.一种卷绕镀膜前处理工艺,适用于被镀材料为能够卷绕的薄膜式材料,其特征在于,包括以下步骤:
第(1)步,加热除气;
第(2)步,辉光活化处理;
第(3)步,通过隔离带进入真空室;
前述第(1)至(3)步是在线的、连续发生的。
2.根据权利要求1所述的卷绕镀膜前处理工艺,其特征在于:第(1)步的加热除气,是指被镀材料在线通过一加热装置,以便去除被镀材料表面的水气、氢气、氮气,所述加热装置内的温度为60℃至200℃,所述被镀材料从进入至离开所述加热装置的时间为10s至60s。
3.根据权利要求2所述的卷绕镀膜前处理工艺,其特征在于:所述被镀材料是PET膜,所述温度为130℃,所述时间为30s;或所述被镀材料是PI膜,所述温度为200℃,所述时间为30s;或所述被镀材料是PEM膜,所述温度为150℃,所述时间为30s。
4.根据权利要求1所述的卷绕镀膜前处理工艺,其特征在于:第(2)步所述的辉光活化处理,是指被镀材料在线通过一高压辉光放电装置,以增加被镀材料表面活性及去除顽固性粘着颗粒。
5.根据权利要求1所述的卷绕镀膜前处理工艺,其特征在于:第(3)步所述的通过隔离带进入真空室,是指所述被镀材料在线经过一段长600mm至800mm、宽10mm至12mm的狭缝,进入真空室以便开始镀膜工序。
6.一种卷绕镀膜前处理装置,包括真空室,其特征在于:还包括加热装置、辉光放电装置、隔离带;所述加热装置是红外发热元件;所述隔离带有二条,分别定义为第一隔离带和第二隔离带,所述第一隔离带设置于所述真空室的入口,所述第二隔离带设置于所述真空室的出口;所述真空室、所述加热装置、所述辉光放电装置的位置关系为,按被镀材料流动的方向,依次是所述加热装置、所述辉光放电装置、所述真空室。
7.根据权利要求6所述的卷绕镀膜前处理装置,其特征在于:所述加热装置是成对设置的红外发热元件,每对红外发热元件之发热面相向设置;所述红外发热元件是发热片,其结构为,发热面是铜板或铝板,再向内依次是热管、热反射层、隔热材料层。
8.根据权利要求7所述的卷绕镀膜前处理装置,其特征在于:所述隔热材料层是隔热膜,该隔热膜的膜系结构为多层隔热单元构成的复合而成,各层隔热单元同向设置;每层隔热单元由基材层和气凝胶层组成;所述基材层是聚酰亚胺或碳纤维膜,所述气凝胶层是多孔二氧化硅气凝胶;且相邻的隔热单元之间还具有一高温胶层。
9.根据权利要求6所述的卷绕镀膜前处理装置,其特征在于:该卷绕镀膜前处理装置还包括导向辊。
10.根据权利要求6所述的卷绕镀膜前处理装置,其特征在于:所述加热装置还包括一抽风机,以便及时排掉被镀材料表面释放出来的水气、氢气、氮气。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101914755A (zh) * 2010-07-13 2010-12-15 淮安富扬电子材料有限公司 卷绕式带状ito导电薄膜的生产方法及装置
CN102212791A (zh) * 2011-06-02 2011-10-12 爱蓝天高新技术材料(大连)有限公司 对聚酯型聚氨酯泡沫基体进行磁控溅射镀膜的设备及方法
US20120276396A1 (en) * 2011-04-28 2012-11-01 Nitto Denko Corporation Vacuum film formation method and laminate obtained by the method
CN102899629A (zh) * 2011-07-29 2013-01-30 日东电工株式会社 双面真空成膜方法及利用该方法获得的层积体

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101914755A (zh) * 2010-07-13 2010-12-15 淮安富扬电子材料有限公司 卷绕式带状ito导电薄膜的生产方法及装置
CN101914755B (zh) * 2010-07-13 2012-07-18 淮安富扬电子材料有限公司 卷绕式带状ito导电薄膜的生产方法及装置
US20120276396A1 (en) * 2011-04-28 2012-11-01 Nitto Denko Corporation Vacuum film formation method and laminate obtained by the method
US9523147B2 (en) * 2011-04-28 2016-12-20 Nitto Denko Corporation Vacuum film formation method and laminate obtained by the method
CN102212791A (zh) * 2011-06-02 2011-10-12 爱蓝天高新技术材料(大连)有限公司 对聚酯型聚氨酯泡沫基体进行磁控溅射镀膜的设备及方法
CN102899629A (zh) * 2011-07-29 2013-01-30 日东电工株式会社 双面真空成膜方法及利用该方法获得的层积体
US9297066B2 (en) 2011-07-29 2016-03-29 Nitto Denko Corporation Method for double-side vacuum film formation and laminate obtainable by the method

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