CN101678502A - 把结构结合到透明工件表面的方法 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种把结构(M)结合到在某一波长范围内透明的工件(W)表面(O)的方法。为此，使得待结构化的表面(O)与含有目标材料的目标表面(3)接触，借助波长在某一波长范围内的激光束(2)，将能量引入透过工件(W)引入到待结构化的表面(O)和目标表面(3)的边界区域(G)的至少一个位置上，从而将目标材料沉积在待结构化的表面中和/或上的各个位置处。为此，使用脉冲重复频率大于10kHz的脉冲激光束(L)，该激光束被聚焦使得焦点定位在目标表面之上或之下，其中激光束焦点处的功率密度大于2000W/mm2。本发明还涉及一种装置(1)，其把结构(M)引入在某一波长范围内透明的工件(W)的表面(O)。

Description

把结构结合到透明工件表面的方法
技术领域
本发明涉及一种把结构结合到在一特定波长范围内透明的工件表面的方法，其中，使待结构化的表面与含有目标材料的目标表面接触，并且其中，借助波长在该特定波长范围内的激光束，穿过工件至少在一个位置处，能量被引入待构造工件的表面和目标表面的边界区域中，从而在相关位置处，目标材料沉积在待结构化的表面中。而且，本发明涉及执行该方法的对应设备。
背景技术
例如，借助把适合的结构结合到工件表面可以对相关的工件做标记。目前可用于此的是通常的激光刻字系统或激光标记系统，可用来采用标记的形式把各种结构(诸如铭刻、如条形码或其他任何图形元素的机读码)结合到相关工件的表面。只要使用合适的激光器，这种系统还可以用来标记各种材料，特别包括如玻璃或树脂玻璃的透明材料。通常，使用激光束来标记透明材料，该激光束的光尽可能地由透明材料所吸收。例如，玻璃具有针对大约180nm和大约2500nm之间的光波长的传输范围。因此，当前使用波长为10600nm、9600nm或9300nm的CO2激光用于玻璃标记。操作模式如下：把激光器聚焦到待标记的点上或者相关工件的表面内或表面上，并且在此尽可能多地将能量引入工件。结果，在工件材料的相关点处产生局部形式的“微裂”，随后在透明材料中可以看到微裂。作为替代，可以在表面进行雕刻。在此，从待标记工件的表面去除局部材料。为了使得标记更清楚可见，例如可以采用不透明材料执行这种雕刻。然而，把这种材料结合到雕刻中需要另外的工序步骤。其他可行的形成标记的方法是传统的印刷方法，用来把文字或其他图形元素施加到表面上。这些印刷方法的一个缺点是标记相对容易被破坏。
作为替代，DE 195 17 625 A1描述了一种在引言部分提到的活字的方法，其中为了把图案印刷到相关表面上，把含颜料层施加到实心的透明基板(如玻璃)表面上。随后通过基板用激光照射该层，使得该层材料转印到基板表面。如此得到的印迹牢固地粘合到表面并且抗酸以及对基底起到保护作用，在该文献中假设在印刷操作期间该层材料的粒子有可能也扩散到表面中。
此外，在WO 95/25639中描述了类似的方法，其中使用激光通过工件把能量局部地引入目标中来在透明工件上制造标记，结果目标材料蒸发并局部沉积在透明工件待标记的表面上。在该处理中，目标并没有直接朝向待标记表面，而是例如定位在距待标记表面0.1mm的距离处，从而采用该蒸发沉积方法得到最好的结果。
DE 196 37 255 C1描述了另一类似方法，其中透明材料待写入的表面被定位在距基板材料较短距离处，该基板材料由陶瓷基板粒子和粘合剂组成。使用激光通过透明材料局部照射基板材料。其中，把激光聚焦到待写入的表面上。引入到基板材料中的激光能量确保粘合剂蒸发。在处理中被释放的基板粒子可以通过激光束的焦点到达待写入的表面上，并且由于高能量密度，基板粒子被烧结。
由于在透明材料的稍后的后处理期间烧结基板粒子存在缺点，DE 10 2006 029 941 A1提出了一种改进方法。其中，所使用的基板仅仅是金属或半金属，如硅。与待写入的表面直接接触的方式，或者优选地，在距该表面很短距离处进行定位。调整通过透明材料再次传导到基板上的激光束，使得基板的粒子在待写入的表面上蒸发并且凝结，而不会发生基板材料的粒子扩散到透明材料的情况。为此，使用了最大1kHz的脉冲重复频率、均值功率为8.4W或12W、焦点直径为42μm以及偏转速度为50mm/s的脉冲激光束。在此情况下，优选地使激光束聚焦到透明材料待写入的表面上。在该方法的一个变型中，待写入表面中的透明材料被另外局部烧蚀和/或熔化。为此，例如使用最大0.4kHz的脉冲重复频率、均值功率为12W、焦点直径为42μm以及偏转速度为20mm/s的激光束。
发明内容
本发明的一个目的在于提供一种用于将特别稳定的结构结合到透明工件的表面中的替代方法和对应设备。
采用如权利要求1所述的方法以及如权利要求14所述的设备实现这一目的。
因此，根据本发明，在引言中所提到的类型的方法中，使用脉冲重复频率大于10kHz的脉冲激光束。其被聚焦，使得焦点定位在目标表面上或目标表面之下，激光束在焦点处的功率密度大于2000W/mm2。功率密度在此表示与焦点面积有关的平均激光功率。
通过聚焦到目标表面上或目标上，例如在目标表面之下紧靠目标表面处，能量的大部分被引入目标中。而且，使用比现有技术明显更高的脉冲重复频率，同时产生高功率密度。相应地，由于高脉冲重复频率，所以脉冲在这里相对较短。由于激光脉冲短而强，所以目标粒子平均以相对高的能量到达透明工件的表面上，并且因此可以渗透该表面。
因此，与上述现有技术不同，这里有针对性地尝试：除了把目标材料施加到工件表面上之外，实现目标材料到工件表面的尽可能好的扩散，并且该方法特意不被调整为使得目标材料尽可能仅仅沉积在待构造的材料的表面上。
在各种试验中已发现，使用该方法可以来把目标材料特别良好地结合到透明工件的表面上和表面中，使得可以以此方式生成可以容易看到并且只有很费力(例如，通过对表面磨蚀或碾磨)才能去除的永久结构。
按照根据本发明的方法把结构结合到工件表面中的一种适合的设备除了含目标材料的目标表面(其例如可以紧贴工件的待结构化的表面或者在其上可放置工件)之外，还需要适合的激光束产生装置，用于产生波长处于工件在其中为透明的波长范围内的激光束。激光束产生装置必须被设计和布置成使得穿过与目标表面接触的工件，借助于激光束，至少在一个位置处，能量可以被引入到工件的待结构化的表面与目标表面的边界区域中，从而在相关位置处，目标材料被沉积在待结构化的表面中。根据本发明，激光束产生装置在此被设计成生成脉冲重复频率大于10kHz的脉冲激光束，并且具有聚焦装置(诸如适合的物镜)以及控制装置，其中控制装置在结构化处理期间把激光束聚焦到目标表面上或聚焦到目标表面之下紧靠目标表面处，激光束在焦点处的功率密度大于2000W/mm2。
另外，该设备或激光束产生装置可以具有适合的控制装置，其不仅确保聚焦参数的期望设置(诸如焦点的位置和直径)，而且确保其他激光参数的设置(诸如脉冲重复频率或功率)。该控制装置可以由中央控制单元或多个控制单元组成，其中这多个控制单元以适合的方式彼此连接进行通信。
本发明的其他特别有利的实施例和改进可以从从属权利要求以及以下描述中获得。根据本发明的设备在此也可以根据从属的方法权利要求加以改善，反之亦然。
该方法可以用来把一结构结合到各种透明材料(诸如各种玻璃、树脂玻璃等)的表面中。尤其优选地，其适于把结构结合到玻璃工件的表面中，因为如果使用其他装置可能只能很费力地实现，并且使用根据本发明的方法在玻璃材料中生成的结构特别持久。
也可以使用各种材料作为目标材料。试验显示：金属，诸如铜、铝、特别是蒂坦铝合金(一种专用铝合金)、钛等是非常适合的。钢尤其适合，优选的是不锈钢(诸如V2A)，其中甚至可以以较低的激光功率实现结构的良好视觉可辨别。
目标材料也可以被施加到工件表面上，并且然后在结构化处理之前再次被移除，特别优选地是薄膜(例如金属膜或者含金属或含颜料薄膜)形式的。非常优选地，其可以是自粘薄膜。
如果目标材料是导电材料，则还可以使用该方法把任何导电结构施加到玻璃表面或其他透明材料表面上。
如在引言中所述，本发明的一个优选应用是用文字、标识等形式的结构对工件做标记。可替代地，或附加地，也可以将以根据本发明的方式导入的结构用于完全不同的目的。例如出于纯粹的视觉原因或设计原因，可以把艺术装饰、局部结构、摄影图像等结合到表面中。
另一优选应用示例是施加技术的导体轨迹结构(诸如天线结构或热导体)，其尤其对于机动车辆的玻璃特别感兴趣。
激光束的波长(即，所述激光束的光的波长)应当优选地处于大约180nm到大约2500nm范围内，特别优选地处于大约300nm到大约1800nm范围内。尤其地，在对玻璃工件进行标记期间，已证明使用波长大约为1060nm的激光器是有效的。具有这种波长的激光器例如是“FAYb激光器”(光纤放大镱激光器：fiber amplified ytterbiumlaser)。为了达到良好的效果，也可以使用波长为1064nm或532cm的Nd-YAG激光器(掺杂钕的钇铝石榴石激光器：neodymium-dopedyttrium-aluminum-garnet laser)。
另外，激光束产生装置优选具有光束导向装置，以便沿着根据结构化图像限定的结构化轨迹移动激光焦点。这意味着，沿着所述结构化轨迹(例如沿着文本)以特定前进速度以点的方式步进地或连续地移动激光，以便从而产生期望的结构化图像。
优选地，以大于70mm/s的前进速度，尤其优选的是大于100mm/s的前进速度前进，根据特定应用可能甚至更快。
这样的光束导向装置可以具有任意期望的设计。例如，激光器可以经由光波导引导，并且所述光波导借助适合的设置装置被适当地调整。然而，光束导向装置同样可以具有通常的具有偏转单元(例如两个偏转镜、棱镜等)的设计。为了基于这样的系统确保在每种情况下激光束的焦点都保持为直接在目标表面上或目标表面之下的一个面中，聚焦装置必须具有相应的设计。为此，例如建议使用具有F-Theta透镜等的平场物镜。这样的F-Theta物镜把激光束聚焦到平面的像场面上。在此，光束入射角与聚焦的图像点在像场中(即，在要进行结构化的平面中)的位置之间存在正确的比例关系。同样地，例如如果待结构化的表面为曲面，则也可以使用适合的3D物镜。集成有聚焦物镜的适合的偏转单元是可在市场上获得的，例如用于传统激光雕刻或激光标记设备。这些也可以用于根据本发明的设备。同样地，也可以使用为所述装置提供的控制系统。然而，有必要的是，使用适合的激光，其中待结构化的材料在该激光的波长下为能透射的，并且控制系统被设置为，在可能的情况下甚至对于自动控制被相应地编程为使得，焦点不定位在待构造的工件本身中，而是例如定位在目标表面上或定位在目标表面之下紧靠目标表面处。
如在引言中所述，根据本发明设计结构化处理，使得目标材料的粒子尽可能地扩散到透明工件的待结构化的表面中。因此，优选地执行结构化使得目标材料的粒子至少在一个位置处以最大渗透深度(例如对于点标记，在点标记的中心处，或者对于线标记，沿线标记的中心线，至少为大约15μm，优选地至少为大约30μm)渗透到待结构化的表面中。在迄今所执行的测试标记中，发现可以使用根据本发明的方法容易地实现目标粒子到工件表面中的高达30μm或者更大的渗透深度。
优选地，在尽可能短的时间段内，应当把高能量导入目标中。在此，优选控制激光束，使得待结构化的表面中的温度即使在结构化期间也低于工件材料的熔化温度，具体地说是在激光束焦点正好位于其中的相对于目标表面的直接边界区域中。
也就是说，工件表面不应当局部熔化。根据玻璃的类型，玻璃的熔化温度在大约1000℃和大约1600℃之间。
另一方面，当前待标记的工件表面中的温度也不应当过低，因为较高的温度有利于扩散。大约600℃以上的温度是特别优选的。
通过调整各种参数来设置最佳条件，这些参数确定通过激光束导入目标的能量以及导入所述能量的时间。
已经证明了焦点处的激光束具有尽可能高的功率密度是有利的。因此，优选地，调整激光束使得在焦点处其具有大于约3kW/mm2的功率密度，特别优选地是大于约10kW/mm2，非常优选地是大于约100kW/mm2。
对此，首先，焦点直径必须足够小。优选地，设置焦点直径使得其小于60μm，尤其优选地小于40μm。例如，在测试中，已经实现了焦点直径只有大约30μm的优质标记。
其次，激光的平均功率必须足够高。例如，应当大于10W。优选使用平均功率可以设置在10W和50W之间的激光器。在焦点直径为大约60μm的情况下，12W的功率足以实现焦点处大于4kW/mm2的功率密度。
然而，除了所导入的功率之外，如上所定义的前进速度以及激光束的脉冲重复频率也对目标中(并且因此还有在邻接工件表面中)的温度特性起到一定影响。根据本发明，以大于10kHz的相对较高的脉冲重复频率进行操作。优选地，使用大于20kHz的脉冲重复频率，特别优选地是位于20kHz和100kHz之间。这相当于在10μm和50μm之间的脉冲重复时间。
根据这种短脉冲重复时间，激光脉冲本身还必须相对短。激光脉冲的脉冲持续时间优选地小于100ns，尤其优选地小于20ns。由于尽可能短的脉冲持续时间是有利的，所以在ps范围中或以下的脉冲持续时间是特别优选的。
具有指定平均功率的短脉冲持续时间导致相应高的激光脉冲峰值功率(或者“激光峰值功率”)。在根据本发明的方法中，优选地以大于10kW的激光脉冲峰值功率操作，尤其优选地的是大于25kW。因此，这样确保了在尽可能短的时间内尽可能多的能量被导入目标材料中，以提供具有足够能量的目标材料的粒子，并且还甚至局部地将待标记工件中的温度保持在期望的温度限度内，并且由此实现目标粒子到工件表面中的尽可能好的扩散。
附图说明
下面将基于示例性实施例参考附图详细描述本发明。从中能看出本发明的其他细节和优势。在附图中：
图1示出了在对玻璃工件进行标记期间根据本发明的设备的一个示例性实施例的示意图。
图2示出了在并入标记期间具有目标位于下面的玻璃工件的截面图。
图3示出了玻璃工件的底截面图，用于确定目标粒子的渗透深度，其中在标记区域中已经使用根据本发明的方法对玻璃工件进行了标记。
具体实施方式
以下将假设(并非把本发明限制于这种应用)，把结构结合到表面中是用于对工件进行标记。如上所述，也可以使用根据本发明的方法来把用于其他目的的结构(诸如技术的导体轨迹结构或图形区)结合到表面中。
根据图1所示的发明的一种设备的示例性实施例基本上是传统的激光标记装置，如下所述，已经针对根据本发明的方法的应用对该激光标记装置进行改进。
重要一点在于，位于待标记工件W下面的是目标2，例如钢板2或钢箔，其中待标记工件W通过待标记表面O被布置到目标上。钢板2或钢箔的表面形成目标表面3，其中工件的待标记表面O的尽可能大的面积位于在要施加标记M的区域内。
而且，使用具有激光束源5的激光束产生装置4，其产生激光束L，其中在激光束L的波长下，工件W是能透射的。玻璃的透射范围位于180nm和2500nm之间。因此，在此优选使用波长为λ＝1060的FAYb激光器。
除了激光束源5之外，激光束产生装置4还具有偏转单元12形式的光束导向装置12，该偏转单元具有两个通过致动电机7、9驱动的偏转镜6、8，这两个偏转镜6、8确保激光束L倾斜到两个垂直方向。聚焦装置11被耦接到该光束导向装置12或偏转单元12，聚焦装置11例如是具有F-Theta透镜的F-Theta物镜11或平场物镜。图1仅以F-Theta透镜示意性地示出了聚焦装置11。偏转单元12可以与所述F-Theta物镜11一起被设计为一个单元。F-Theta物镜11的任务是把已经被偏转镜6、8偏转特定角度的激光束L聚焦到平面平行的面，该平面平行的面在图1所示的坐标系中沿x和y方向延伸并且在此优选精确地定位在目标表面3上。根据偏转镜6、8的设置，在此命中所述x-y平面中的另一点。以此方式，通过调节致动电机7、9或者偏转镜6、8，激光束L的焦点F可以以任何方式沿标记图像B(这里例如是文本“Panasonic”)所限定的特定标记轨迹移动。在此可以使用适当的光阑等来暂时地挡住激光束L，以便例如对于这样的文本的非邻接字母，从一个字母跳转到下一字母而不对该区域进行标记。
具有F-Theta物镜11的完整的偏转单元12也可以是可在市场上获得的单元，如在现有技术的激光标记系统中所使用的。激光束源5和具有F-Theta物镜11的偏转单元12由控制单元10致动。在此情况下，也可以使用可在市场上获得的控制单元10，其必须被适当地编程以使得可由控制单元10自动设置的焦点F如所期望的那样被设置到目标表面3上或设置到目标表面3下紧靠目标表面3处。
然后，在激光束L当前所位于的区域中局部地或者在该区域周围，能量被导入到工件W的待结构化的表面O与目标表面3的边界区域G中，即，被导入到目标以及工件表面O两者中，其中能量的主要部分首先被引导到目标表面3上的焦点F处。以此方式，金属被加热到一定程度，使得金属粒子沉积在玻璃表面O上并且渗透玻璃表面。这由图2示意性地示出。
试验显示，在一个标记处，金属粒子渗透到玻璃基板的渗透深度t可以大于30μm。图3示出了可以看到扩散通道和渗透深度的底截面(放大500倍)。在一点处，测量渗透深度t。其在这里大约是48μm。
对于这些试验，使用平均功率为12瓦特的FAYb激光器。这是激光器峰值功率最大达到20kW的具有20ns持续时间的脉冲的脉冲激光器。在该系统中，脉冲重复时间可以被设置为从10μs到50μs。激光器是“单模激光器”(模式TEM00)，并且品质因数M2＝1.4。在测试中，物镜被定位在距目标表面3为190mm处，焦点F被直接设置到目标表面3上。那么，焦点F中的光束直径大约为60μm(见图2)。对于这种设置，激光器在焦点处的功率密度大约为4000W/mm2。
特别地，采用各种金属进行试验，并且试验产生非常容易识别的标记。例如，采用铜和采用蒂坦铝合金作为目标材料进行试验，其中在每种情况下，激光功率为10瓦特，前进速度为70mm/s，脉冲重复时间为50μs。在这些条件下，在这两种目标材料的情况下，标记M非常容易识别。在另一试验中，使用铝作为目标材料。采用10瓦特的激光功率，80mm/s的前进速度以及50μs的脉冲重复时间，在此所产生的标记同样非常容易识别。
已发现，原则上，诸如铝膜之类的金属膜可用作目标材料。例如，在使用5瓦特的激光功率、1000mm/s的前进速度以及50μs的脉冲重复时间并且使用铝膜的情况下，获得非常容易识别的标记。在特定制作条件下，如果待标记工件在目标表面上的特定定位太过复杂，那么使用金属膜是有利的，并且在制作工艺中金属膜可以相对容易地被施加到工件上。
采用钢获得了最好的结果。这里，利用仅仅8瓦特的功率、150mm/s的前进速度以50μs的脉冲重复时间生成特别容易识别的标记。
随后，对由此标记的工件进行有关标记的易破坏性测试。在此示出，通过清洗或擦洗装置以及通过利用刀片等进行刮削都不能明显地破坏这些标记。
因此，借助具有使用优势的经过相对容易的改进的传统激光标记系统可以使用根据本发明的方法以简单方式特别是在玻璃表面制作用于任意功能的非常耐用的结构。
最后，再次指出，附图所示的设备以及结合附图描述的具体方法仅仅是示例实施例，本领域技术人员可以在不脱离本发明的保护范围的情况下采用各种方法对这些示例实施例进行变化。出于完整性的原因，进一步指出，不定冠词“一个”的使用并不排除相关部件出现多次。

Claims (15)

1、一种用于将结构(M)结合到在特定波长范围内透明的工件(W)的表面(O)中的方法，其中，将待结构化的表面(O)与包含目标材料的目标表面(3)接触，并且其中，借助于波长处在所述特定波长范围内的激光束(2)，能量被引导穿过所述工件(W)至少在一个位置处到达所述工件(W)的待结构化的表面(O)与所述目标表面(3)的边界区域(G)中，从而在相关位置处，目标材料被沉积在待结构化的表面(O)中，
其特征在于：使用脉冲重复频率大于10kHz的脉冲激光束，其中所述脉冲激光束被聚焦，使得焦点被定位在所述目标表面之上或之下，其中所述激光束在焦点处的功率密度大于2000W/mm2。
2、如权利要求1所述的方法，其特征在于：所述工件(W)由玻璃制成。
3、如权利要求1或2所述的方法，其特征在于：所述目标材料是金属。
4、如权利要求3所述的方法，其特征在于：所述目标材料是钢。
5、如前述任一权利要求所述的方法，其特征在于：所述结构(M)被设计用于标记所述工件(W)。
6、如前述任一权利要求所述的方法，其特征在于：所述激光束(L)的焦点(F)沿着根据结构化图像(B)而指定的结构化轨迹，以大于70mm/s的前进速度，特别优选地是以大于100mm/s的前进速度移动。
7、如前述任一权利要求所述的方法，其特征在于：执行结构化处理，使得所述目标材料的粒子至少在一个位置处以至少约15μm，优选至少约30μm的深度渗透到待结构化的表面的深度。
8、如前述任一权利要求所述的方法，其特征在于：控制所述激光束，使得在结构化处理期间，待结构化的表面的温度低于工件材料的熔化温度。
9、如前述任一权利要求所述的方法，其特征在于：所述激光束在焦点处的功率密度大于约3kW/mm2，特别优选地是大于大约10kW/mm2，非常优选地是大于大约100kW/mm2。
10、如前述任一权利要求所述的方法，其特征在于：焦点直径小于60μm，优选小于40μm。
11、如前述任一权利要求所述的方法，其特征在于：所述脉冲重复频率大于20kHz。
12、如前述任一权利要求所述的方法，其特征在于：激光脉冲的脉冲持续时间小于100ns，优选小于20ns。
13、如前述任一权利要求所述的方法，其特征在于：激光脉冲峰值功率大于10kW，优选大于25kW。
14、一种用于将结构(M)结合到在特定波长范围内透明的工件(W)的表面(O)中的设备，包括：
包含目标材料的目标表面(3)，用于与所述工件(W)的待结构化的表面(O)接触，
激光束产生装置(4)，用于产生波长处在所述特定波长范围内的激光束(L)，其中所述激光束产生装置(4)被设计和布置为使得：借助于所述激光束，能量穿过与所述目标表面(3)接触的工件(W)至少在一个位置处被引入到所述工件(W)的待结构化的表面(O)与所述目标表面(3)的边界区域(G)中，从而在相关位置处，将目标材料沉积在所述待结构化的表面(O)中，其特征在于：所述激光束产生装置(4)被设计为产生脉冲重复频率大于10kHz的脉冲激光束(L)，并且具有聚焦装置(11)和控制装置(10)，其中所述控制装置(10)在结构化处理期间将激光束(L)聚焦到目标表面(3)上或聚焦到目标表面(3)下面与目标表面紧挨之处，所述激光束在焦点处的功率密度大于2000W/mm2。
15、如权利要求14所述的设备，其特征在于：所述激光束产生装置(4)具有光束导向装置(12)，以便沿着根据结构化图像(B)限定的结构化轨迹来移动激光焦点(F)。
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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102161233A (zh) * 2010-01-08 2011-08-24 早川橡胶株式会社 使用激光的接合方法
CN103253197A (zh) * 2012-10-08 2013-08-21 上海博迩森汽车配件有限公司 后视镜镜片加工方法
CN105710538A (zh) * 2016-04-22 2016-06-29 中国电子科技集团公司第十三研究所 玻璃晶圆激光标识的制作方法
CN106335289A (zh) * 2016-11-18 2017-01-18 深圳英诺激光科技有限公司 一种在透明材料上进行白色或彩色打标的设备及方法
CN108367383A (zh) * 2016-03-02 2018-08-03 宝马股份公司 用于材料锁合地连接铝铸件与接合配合件的方法以及构件
CN109070266A (zh) * 2016-03-08 2018-12-21 敦提大学 降低陶瓷表面的光电子产率和/或二次电子产率的方法；相应的设备和产品
CN114083156A (zh) * 2021-12-31 2022-02-25 杭州银湖激光科技有限公司 一种透明材料的激光加工方法

Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102007018402A1 (de) * 2007-04-17 2008-10-23 Panasonic Electric Works Europe Ag Verfahren zum Einbringen einer Struktur in eine Oberfläche eines transparenten Werkstücks
DE102007028042B3 (de) * 2007-06-14 2008-08-07 Universität Zu Lübeck Verfahren zur Laserbearbeitung transparenter Materialien
DE102008058535A1 (de) * 2008-11-21 2010-05-27 Tesa Se Verfahren zur Materialbearbeitung mit energiereicher Strahlung
WO2011135398A1 (en) * 2010-04-30 2011-11-03 Becton Dickinson France Method for marking a transparent container
CN103889642B (zh) * 2011-09-23 2016-04-13 伯格利-格拉维瑞斯股份有限公司 在压花钢辊上产生具有结构的表面的方法和设备
CN103917378B (zh) * 2011-11-17 2016-01-06 法国圣戈班玻璃厂 激光标记的聚合物工件
DE102012219249A1 (de) * 2012-10-22 2014-02-13 Bundesdruckerei Gmbh Vorrichtung zur Laserpersonalisierung von Sicherheitselementen
JPWO2014080822A1 (ja) 2012-11-20 2017-01-05 国立大学法人九州大学 レーザ加工装置及びレーザ加工方法
EP3047932B1 (en) * 2015-01-21 2018-12-26 Agie Charmilles New Technologies SA Method of laser ablation for engraving of a surface with patch optimization, with corresponding software and machine tool
CA2931245C (en) 2015-05-26 2023-07-25 National Research Council Of Canada Metallic surface with karstified relief, forming same, and high surface area metallic electrochemical interface
GB201609086D0 (en) * 2016-05-20 2016-07-06 Spi Lasers Uk Ltd Method for creating a mark with a desired colour on an article
DE102016122113A1 (de) * 2016-11-17 2018-05-17 Karlsruher Institut für Technologie Vorrichtung zur Identifikation von Gegenständen und Lebewesen in Wasser sowie Verfahren zu Herstellung und Anwendung der Vorrichtung und deren Verwendung
JP6334074B1 (ja) * 2017-05-23 2018-05-30 堺ディスプレイプロダクト株式会社 素子基板の製造方法およびレーザクリーニング装置
WO2018233842A1 (en) * 2017-06-23 2018-12-27 Hp Indigo B.V. METHOD, APPARATUS AND SYSTEM FOR MOVING MATERIAL WITH A PULSED LASER BEAM
CN111230320B (zh) * 2020-03-16 2022-05-17 深圳泰德激光技术股份有限公司 一种阳极氧化铝表面的激光打标方法
US20220347791A1 (en) * 2021-02-26 2022-11-03 Nagoya Institute Of Technology Laser processing apparatus, thickness detection method, and thickness detection apparatus

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FI103396B (fi) * 1994-03-24 1999-06-30 Laserplus Oy Menetelmä ja laite merkkausten tekemiseksi lasipintaan
JP3616679B2 (ja) * 1995-09-07 2005-02-02 カルソニックカンセイ株式会社 端部閉塞パイプおよび熱交換器用ヘッダー
DE19517625A1 (de) * 1995-05-13 1996-11-14 Budenheim Rud A Oetker Chemie Verfahren zum musterförmigen Bedrucken fester Substratoberflächen
US5761111A (en) * 1996-03-15 1998-06-02 President And Fellows Of Harvard College Method and apparatus providing 2-D/3-D optical information storage and retrieval in transparent materials
DE19637255C1 (de) 1996-09-13 1997-12-11 Jenoptik Jena Gmbh Verfahren zum indirekten Beschriften von transparenten Materialien
EP0861155B1 (en) * 1996-09-19 2000-10-18 Koninklijke Philips Electronics N.V. Method of producing a patterned surfacial marking on a transparent body
EP0850779B1 (en) * 1996-12-27 2001-05-02 Omron Corporation Method of marking an object with a laser beam
US6281471B1 (en) * 1999-12-28 2001-08-28 Gsi Lumonics, Inc. Energy-efficient, laser-based method and system for processing target material
US6929886B2 (en) 2001-01-02 2005-08-16 U-C-Laser Ltd. Method and apparatus for the manufacturing of reticles
JP4246645B2 (ja) 2003-01-28 2009-04-02 有限会社岩倉溶接工業所 レーザによるカラーマーキング方法
EP1606119A1 (en) * 2003-03-13 2005-12-21 Koninklijke Philips Electronics N.V. Marking method and market object
JP2004351746A (ja) * 2003-05-29 2004-12-16 Central Glass Co Ltd レーザ走査によるガラスの描画方法
CN1603888A (zh) 2004-11-05 2005-04-06 中国科学院上海光学精密机械研究所 飞秒激光相干技术传输周期微结构的方法
US7626138B2 (en) * 2005-09-08 2009-12-01 Imra America, Inc. Transparent material processing with an ultrashort pulse laser
DE102006029941A1 (de) * 2006-06-29 2008-01-03 Calyxo Gmbh Verfahren zum indirekten Beschriften transparenter Materialien
DE102007018402A1 (de) * 2007-04-17 2008-10-23 Panasonic Electric Works Europe Ag Verfahren zum Einbringen einer Struktur in eine Oberfläche eines transparenten Werkstücks

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102161233A (zh) * 2010-01-08 2011-08-24 早川橡胶株式会社 使用激光的接合方法
CN102161233B (zh) * 2010-01-08 2014-09-17 早川橡胶株式会社 使用激光的接合方法
CN103253197A (zh) * 2012-10-08 2013-08-21 上海博迩森汽车配件有限公司 后视镜镜片加工方法
CN103253197B (zh) * 2012-10-08 2016-08-31 上海博迩森汽车配件有限公司 后视镜镜片加工方法
CN108367383A (zh) * 2016-03-02 2018-08-03 宝马股份公司 用于材料锁合地连接铝铸件与接合配合件的方法以及构件
US11911843B2 (en) 2016-03-02 2024-02-27 Bayerische Motoren Werke Aktiengesellschaft Method for integrally bonding a cast aluminum part to a joining partner, and part
CN109070266A (zh) * 2016-03-08 2018-12-21 敦提大学 降低陶瓷表面的光电子产率和/或二次电子产率的方法；相应的设备和产品
CN105710538A (zh) * 2016-04-22 2016-06-29 中国电子科技集团公司第十三研究所 玻璃晶圆激光标识的制作方法
CN106335289A (zh) * 2016-11-18 2017-01-18 深圳英诺激光科技有限公司 一种在透明材料上进行白色或彩色打标的设备及方法
CN114083156A (zh) * 2021-12-31 2022-02-25 杭州银湖激光科技有限公司 一种透明材料的激光加工方法

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Publication number Publication date
JP2010524692A (ja) 2010-07-22
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