CN101652318A - 水分生成用反应炉的并列运转方法 - Google Patents

水分生成用反应炉的并列运转方法 Download PDF

Info

Publication number
CN101652318A
CN101652318A CN200780052631A CN200780052631A CN101652318A CN 101652318 A CN101652318 A CN 101652318A CN 200780052631 A CN200780052631 A CN 200780052631A CN 200780052631 A CN200780052631 A CN 200780052631A CN 101652318 A CN101652318 A CN 101652318A
Authority
CN
China
Prior art keywords
moisture
reaktionsofen
mixed gas
generates
generate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN200780052631A
Other languages
English (en)
Inventor
皆见幸男
平尾圭志
田口将暖
成相敏朗
川田幸司
森本明弘
池田信一
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujikin Inc
Original Assignee
Fujikin Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujikin Inc filed Critical Fujikin Inc
Publication of CN101652318A publication Critical patent/CN101652318A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B5/00—Water
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J12/00—Chemical processes in general for reacting gaseous media with gaseous media; Apparatus specially adapted therefor
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T137/00—Fluid handling
    • Y10T137/0318—Processes
    • Y10T137/0396—Involving pressure control

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Formation Of Insulating Films (AREA)
  • Fuel Cell (AREA)
  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
  • Hydrogen, Water And Hydrids (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

在通过并列运转多座水分生成用反应炉而对应于高纯度水供给量的增大的要求的情况下，本发明能够借助极其简单的孔部件的利用而进行(H2)和(O2)的混合气体的分流供给，从而能够使混合气体(原料气体)分流装置简单化和大幅降低设备费。即，本发明的水分生成用反应炉的并列运转方法为，在并列地连接的多个水分生成用反应炉的各混合气体入口侧配设具有既定的口径的小孔的孔部件，通过上述各孔部件向各水分生成用反应炉供给来自混合器的氢和氧的混合气体(G)，并且使在各水分生成用反应炉中生成的水分合流而向高纯度水的使用装置供给。

Description

水分生成用反应炉的并列运转方法
技术领域
本发明涉及一种水分生成用反应炉的并列运转方法，例如被使用在半导体制造设备及化学品制造设备等中，不使用特别的原料气体的分流供给装置，只通过在进行并列运转的多个水分生成用反应炉的各原料气体供给管路中插入具有适当的口径的孔部件，就能够以既定的水分生成量稳定地使各水分生成用反应炉并列运转。
背景技术
在基于半导体制造设备的水分氧化法的硅氧化膜附加处理等中，需要进行高纯度水的供给，通常，如图8所示使用水分生成用反应炉而进行所需的高纯度水分的供给。
即，该水分生成用反应炉如国际公开号WO97/28085号及日本专利第3639469号所公开的那样，形成有将入口侧炉主体部件2和出口侧炉主体部件3组装成对置状而在内部具有空间部4的反应炉主体1，且在反应炉主体1中设置原料气体入口5和水分气体出口6和反射器7及反射器8，进而在出口侧炉主体部件3的内表面形成铂涂层被膜9。
此外，在使水分生成时，首先，从原料气体入口5向空间部4内供给氧O2和氢H2的混合气体G，借助反射器7、8而搅拌混合气体G且借助铂涂层被膜9的催化剂作用使O2及H2活性化。接着，通过在温度450℃以下的非燃烧状态下使被活性化的O2和H2瞬时地反应而生成水。该生成的水以水分气体W的形态从水分气体出口6向反应炉主体1的外部排出。
如上述图8所示的构造的水分生成用反应炉尽管是极小型(例如外径约114mm、厚度约35mm)，但是通过在400℃以下的温度下催化剂反应能够连续地生成大约2SLM(换算为0℃/1气压的标准状态下的水分气体量)左右的水分气体W，具有出色的实用的效用。
但是，在图8所示的水分生成用反应炉中，在增加原料气体G的供给量而增加该水分生成量时，使得出口侧炉主体部件3的温度急剧上升，并且反应炉主体1的内部空间温度上升，接近于H2和O2的混合气体即原料气体G的爆炸可能温度，变为极其危险的状态。此外，若使原料气体G的供给量增加，则氢H2和氧O2的反应率降低，而氧O2以及或者氢H2在未反应的状态下混入至水分气体GW内，会在使用水分气体W的工艺侧发生种种的不良情况。
进而，反应炉主体1的温度上升，从而导致形成在出口侧炉主体部件3的内壁面的铂涂层被膜9剥离脱落，从而引起催化剂作用的大幅降低。
另一方面，为了避免上述那样的不良情况的发生而开发出了如图9所示那样的构造的水分生成用反应炉：在入口侧炉主体部件2以及出口侧炉主体部件的外壁面设置冷却用散热片10、11，促进自反应炉主体1的散热。另外，在图9中，12是电加热器，用于在水分生成用反应炉1的启动时使水分生成用反应炉1的温度上升至300℃附近。
但是，若设置冷却用散热片10、11，则使得水分生成用反应炉1的外形尺寸大幅地增加，从而若例如令水分生成量为1.3倍，则反应炉1的容积要增加大约3倍，存在不能够与水分生成用反应炉1的小型化的要求对应的问题。
另外，为了不使用冷却用散热片10、11而使水分生成量增加，考虑增大反应炉主体1自身的外形尺寸的方案。但是，在铂涂层被膜9的形成面积为一定面积以上时，在水分生成时出口侧炉主体部件3的内表面的温度分布不均，其结果铂涂层被膜9易发生剥离。例如，若反应炉主体1的内径尺寸为2倍以上，则可以判定铂涂层被膜9的剥离频率明显增大，存在不能够适当地与水分生成量的增加的要求相对应的问题。
因此，作为以往的这种水分气体W的供给设备，将多台的水分生成用反应炉并列地连接，并且使用高精度的混合气体分流供给装置，控制向各水分生成用反应炉供给的混合气体G的流量，从而与水分生成量(供给水分量)的增加的要求相对应。
但是，设置高精度的混合气体G的分流供给装置的设备不仅导致设备量的增多，而且需要有用于该设备的设置的大的空间，进而存在在混合气体分流供给装置的维修管理等方面需要费用的问题。
[专利文献1]国际公开WO97/28085号
[专利文献2]日本专利第3639469号
发明内容
本发明用于解决在使用以往的水分生成用反应炉的高纯度水分的供给设备中的上述那样的问题，即亻.通过水分生成用反应炉的大型化(或者大容量化)而对应供给水量的增加的要求时，由于铂涂层催化剂被膜的耐久性等的构造方面而限制了水分生成用反应炉的大型化，因此存在一定的制约的问题；口.设置混合气体G的分流供给装置且从混合气体分流供给装置向多台的进行并列运转的生成用反应炉供给混合气体G，从而与供给水量的增加的要求相对应时，不仅导致混合气体G的分流供给装置的设备成本及管理成本的增高，而且需要有大的设置空间的问题；等的问题，发明的主要的目的在于提供一种水分生成用反应炉的并列运转方法，不需要复杂的混合气体G的分流供给装置，通过在向进行并列运转的各水分生成用反应炉的混合气体供给管路中央设具有既定的内径的孔部件，能够以简单的机构而廉价且准确地向并列运转的各水分生成用反应炉供给既定量的混合气体G，由此能够容易地对应于水分生成量的增加的要求。
技术方案1的发明将以下构成作为发明的基本构成：在多个水分生成用反应炉的各混合气体入口侧配设孔部件且将各孔部件的入口侧向混合气体供给管并列状地连接，通过各孔部件向各水分生成用反应炉分流供给氢和氧的混合气体。
技术方案2的发明将以下构成作为发明的基本构成：在多个水分生成用反应炉的各混合气体入口侧配设孔部件且将各孔部件的入口侧向混合气体供给管并列状地连接，通过各孔部件向各水分生成用反应炉分流供给氢和氧的混合气体，此外，并列地连接各水分生成用反应炉的水分气体出口侧，通过水分供给管向水分使用装置供给由各水分生成用反应炉生成的水分。
技术方案3的发明在技术方案2的发明中，令水分使用装置为在接近于大气压的压力下使用的工艺腔。
技术方案4的发明在技术方案2的发明中，令水分使用装置为在1～700Torr的压力下使用的工艺腔，并且在自各水分生成用反应炉的生成水分的水分供给管中设置减压用孔部件。
技术方案5的发明在技术方案1或2的发明中，是如下的构成：令并列地连接的水分生成用反应炉为两台，且令配置在各水分生成用反应炉的混合气体入口侧的孔部件为相同口径的孔部件，从混合气体供给管向各水分生成用反应炉供给大致等量的混合气体。
技术方案6的发明在技术方案5的发明中，令各水分生成用反应炉的额定水分生成量为5SLM～10SLM，且令配设在混合气体入口侧的孔部件的口径为0.8～0.6mmφ。
技术方案7的发明在技术方案6的发明中，令水分生成用反应炉的内压为200Torr以上的压力值。
技术方案8的发明在技术方案1或2的发明中，令水分生成用反应炉为如下构成的水分生成用反应炉：将入口侧炉主体部件和出口侧炉主体部件组装成对置状而形成有内部空间，并且在入口侧炉主体部件上设置混合气体入口，另外在出口侧炉主体部件上设置水分气体出口，进而在出口侧炉主体部件的内壁面上设置铂涂层被膜，并且在内部空间内设置反射器，在上述内部空间内在非燃烧状态下借助铂涂层被膜的催化剂作用使混合气体中的氢气和氧气发生反应而生成水分。
在本发明中，以只在并列地连接的水分生成用反应炉的混合气体入口侧配置既定的口径的孔部件的简单的构成的分流构造，能够非常准确地分流作为水分生成用的原料气体的混合气体，能够使用以往的使用铂被膜催化剂的非燃烧式的水分生成用反应炉进行高纯度水的大量供给。
即，根据本发明，不使用构造复杂的高价的混合气体分流装置而使用以往的非燃烧式水分生成用反应炉，能够更安全且更廉价，并且不会导致设备的大型化，能够大量地供给高纯度水。
附图说明
图1是表示本发明的第一实施方式的水分生成用反应炉的并列运转的系统图。
图2是表示本发明的第二实施方式的水分生成用反应炉的并列运转的系统图。
图3是表示取代混合气体G而供给N2气体而测定向各水分生成用反应炉的分流状态的系统图。
图4是将表3的各运算值图表化的图，(a)表示分流误差与流量(MFM1)的关系，(b)表示分流误差与孔部件上游侧压力P2的关系，(c)表示孔部件上游侧压力P2与计算压力的关系，(d)表示孔部件上游侧压力P2与流量的相对分流误差(％)的关系。
图5是从两台水分生成用反应炉向常压用腔CH供给17SLM的水分气体时的系统图。
图6是表示基于使用两台水分生成用反应炉(额定5SLM)的实现的并列运转的水分供给状态的系统图。
图7是表示图6的系统图中的试验结果的一例的线图。
图8是表示以往的水分生成用反应炉的一例的剖视图。
图9是表示以往的带冷却散热片的水分生成用反应炉的一例的剖视图。
附图标记说明
H2  氢气
O2  氧气
N2  氮气
M  H2和O2的气体混合器
G  混合气体(原料气体)
WG1、WG2  水分生成用反应炉
OR1、OR2、OR3  孔部件
S  H2气体传感器
F  过滤器
CH  工艺腔
P1、PW1、PW2、PC  压力计
W1、W2、W  水分(水分气体)
L1、L2、L3、L4  配管路
MFC1、MFM1、MFM2  质量流量计
HTC1～HTC4  温度控制器
RG1～RG4  压力调节器
V1～V4  阀
FA1、FA2  冷却用风扇
HTM1、HTM2  温度监视器
1  反应炉主体
2  入口侧炉主体部件
3  出口侧炉主体部件
4  炉主体的内部空间
5  混合气体(原料气体)入口
6  水分气体出口
7、8  反射器
9  铂涂层被膜
10、11  冷却用散热片
具体实施方式
以下，参照附图说明本发明的实施方式。
图1表示本发明的第一实施方式，表示使用两台水分生成用反应炉WG1、WG2而向常压的工艺腔CH供给水分W的情况。
在图1中，H2是氢气，O2是氧气，N2是氮气，M是H2和O2的气体混合器，G是混合气体，WG1、WG2是水分生成用反应炉，OR1、OR2是孔部件，S是H2传感器，F是过滤器，CH是工艺腔，P1、PW1、PW2、PC是压力计，W1、W2、W是水分，L1、L2、L3、L4是配管路。
上述水分生成用反应炉WG1、WG2使用两台相同规格的水分生成用反应炉，为不锈钢制且其外径尺寸大约为180mmφ、厚度大约为37mm，出口侧炉主体部件的内壁面形成有铂涂层被膜。
另外，在本实施方式中，将两台相同规格的水分生成用反应炉并列地连接，但是也可以将两台以上例如3～5台并列地连接。
上述孔部件OR1、OR2是在外径约12mmφ、厚度0.2～1.0mm的不锈钢薄板上钻出既定的小孔(圆形孔)的部件，更换自如地插装在孔部件插装器(省略图示)内。另外，在本实施方式中，使用如后述那样地具有0.5～1.0mmφ的小孔的孔部件OR1、OR2。
上述配管路L1～L4由内径4.3mmφ、外径6.35mmφ的不锈钢制管形成，此外，消耗所生成的水分W的工艺腔CH在常压(760Torr)下进行各种的半导体处理。
参照图1，从气体混合器M供给的混合气体G通过混合气体供给管L1、各孔部件(0.6mmφ或0.7mmφ)OR1、OR2向各水分生成用反应炉WG1、WG2供给，在此生成的水分W1、W2通过水分供给管L4向常压腔CH供给。
另外，为了顺利地进行混合气体G的分流供给，需要在各部的压力P1、PW、PC之间使P1＞PW＞PC的关系成立，此外，压力PC比压力PW降低配管路的压力损失量(约0.02～0.03MPa)。
表1表示令孔部件OR1、OR2的口径为0.6或者0.7mmφ而改变H2和O2的混合比及向常压(760Torr)的工艺腔CH的水分供给流量(sccm)时的孔部件OR1、OR2的上游侧压力P1的估算的一例，能够得知压力的概算值。另外，压力的运算式使用后述的式(2)以及(3)，并且令配管路为内径4mmφ的不锈钢管，其总长为600～800mm。此外，表1中的供给水分量表示每一台的供给量。
[表1]
Figure G2007800526316D00071
图2表示本发明的第二实施方式，表示从两台水分生成用反应炉WG1、WG2向在1～100Torr的减压状态下使用的工艺腔CH供给生成水分W的情况。
另外，在图2中，OR3是设置在过滤器F的下游侧的孔部件，被设置为用于向腔CH供给的生成水分W的减压。
在本实施方式中，与上述图1所示的第一实施方式的情况相同，为了顺利地进行混合气体G的分流供给，从两水分生成用反应炉WG1、WG2供给既定量的生成水分W1、W2，水分生成用反应炉WG1、WG2的压力必须为200Torr～900Torr。因为在水分生成用反应炉WG1、WG2的内压在200Torr以下时，H2气体的爆炸边界温度(爆炸可能温度)降低到大约350℃～400℃的温度。
表2表示令减压用孔部件OR3的口径为0.8mmφ及1.0mmφ时的水分生成用反应炉WG1、WG2的内压PW等的运算值的一例，使用的压力的运算式等与上述表1的情况相同。
[表2]
Figure G2007800526316D00081
此外，表3表示在混合气体G的混合条件等与表2的情况相同时运算令上游侧孔部件OR1、OR2的口径为0.7mmφ时的孔部件OR1、OR2的上游侧的压力值的一例，能够得知孔部件OR1、OR2上游侧的压力值P1的概要。
[表3]
Figure G2007800526316D00082
图3表示在上述图1所示的第一实施方式中的水分生成用反应炉的并列运转中调查作为混合气体G的替代而供给N2气体时的N2气体的分流状态的回路，在图3中MFC1、MFM1、MFM2分别表示质量流量计。
在图3中，MFM1及MFM2的各测定值与向水分生成用反应炉WG1、WG2的混合气体G的流入量直接成比例，所以能够从该MFM1及MFM2的测定值得知各水分生成用反应炉WG1、WG2中的水分生成量。
表4表示从令图3中的孔部件OR1、OR2的口径为0.7、0.6、0.5mmφ时的各测定值的分流误差及压力误差的运算值。
[表4]
  孔部件(mm)   上游压①(MPa G)   MFM1②(SLM)   MFM2③(SLM)   分流误差②-③％   平均值②和③(SLM)   计算值④   压力误差①-④(MPa)
  0.8   0.011   1.15   1.13   1.74％   1.14   0.0014   0.0096
  0.8   0.020   2.69   2.67   0.74％   2.68   0.0077   0.0123
  0.8   0.046   5.19   5.17   0.39％   5.18   0.0288   0.0172
  0.8   0.088   7.63   7.68   -0.66％   7.655   0.0630   0.025
  0.8   0.136   10.13   10.15   -0.20％   10.14   0.110   0.026
  0.7   0.011   1.14   1.13   0.88％   1.135   0.0024   0.0086
  0.7   0.014   1.66   1.64   1.20％   1.65   0.005   0.0090
  0.7   0.017   2.16   2.17   -0.46％   2.165   0.0086   0.0084
  0.7   0.023   2.69   2.65   1.49％   2.67   0.0131   0.0099
  0.7   0.027   3.17   3.18   -0.32％   3.175   0.0185   0.0085
  0.7   0.034   3.69   3.67   0.54％   3.68   0.0248   0.0092
  0.7   0.04   4.2   4.18   0.48％   4.19   0.0322   0.0078
  0.7   0.048   4.69   4.68   0.21％   4.685   0.0402   0.0078
  0.7   0.057   5.17   5.18   -0.19％   5.175   0.0491   0.0079
  0.6   0.036   2.74   2.61   4.74％   2.675   0.0243   0.0117
  0.6   0.045   3.24   3.11   4.01％   3.175   0.0342   0.0108
  0.6   0.061   3.75   3.61   3.73％   3.68   0.046   0.0150
  0.6   0.111   5.30   5.06   4.53％   5.18   0.0911   0.0199
  0.6   0.186   7.41   7.16   3.37％   7.285   0.169   0.0170
  0.6   0.193   7.52   7.27   3.32％   7.395   0.173   0.020
  0.6   0.201   7.79   7.52   3.47％   7.655   0.183   0.018
  0.6   0.210   7.99   7.72   3.38％   7.855   0.19   0.020
  0.6   0.224   8.33   8.03   3.60％   8.18   0.202   0.022
  0.6   0.238   8.74   8.43   3.55％   8.585   0.217   0.021
  0.6   0.258   9.28   8.95   3.56％   9.115   0.237   0.021
  0.6   0.304   10.44   10.06   3.64％   10.25   0.279   0.025
  0.5   0.011   0.61   0.63   -3.28％   0.62   0.0037   0.0073
  0.5   0.017   1.12   1.15   -2.68％   1.135   0.0125   0.0045
  0.5   0.028   1.64   1.66   -1.22％   1.65   0.0264   0.0016
  0.5   0.043   2.16   2.17   -0.46％   2.165   0.0454   -0.0024
  0.5   0.062   2.67   2.68   -0.37％   2.675   0.0694   -0.0074
  0.5   0.088   3.18   3.17   0.31％   3.175   0.0977   -0.0097
  0.5   0.111   3.71   3.66   1.35％   3.685   0.130   -0.019
  0.5   0.134   4.20   4.18   0.48％   4.19   0.161   -0.027
  0.5   0.162   4.70   4.67   0.64％   4.685   0.192   -0.03
  0.5   0.189   5.19   5.16   0.58％   5.175   0.215   -0.026
此外，图4的(a)、(b)、(c)以及(d)是将上述表3的各运算值图表化的图，(a)表示分流误差与流量MFM1的关系，(b)表示分流误差与孔部件上游侧压力P2的关系，(c)表示孔部件上游侧压力P2与计算压力的关系，(d)表示孔部件上游侧压力P2与流量的相对分流误差(％)的关系。
如从表4以及图4(a)、(b)、(c)以及(d)所知的那样，分流误差(图4的(a))在大约5％以下，此外，偏差(MFM1-MFM2/MFC1)也在3％以下。从而判定，基于孔部件OR1、OR2的分流能够在实用上不产生任何问题地使用，且判定能够以非常简单的分流装置进行混合气体G的向各水分生成用反应炉WG1、WG2的分流供给。
[实施例1]
图5是使用两台水分生成用反应炉WG1、WG2向在常压(760Torr)下使用的腔CH供给17SLM的水分气体W时的系统图，此外，表5表示假定在图5的系统图中在孔部件OR1、OR2的上/下游间临界条件成立而从流量Q及截面积S运算的孔部件上游侧压力。
另外，式(1)表示流量Q的运算式，
[数1]
Q = SP H T H · C ′ · ( F . F . ) . . . . . . ( 1 )
其中，Q是流量，S是孔部件截面积，TH是温度，PH是上游压力，C是常数187021，C′是从实际流量换算的修正值(C×0.82)。
[表5]
Figure G2007800526316D00102
[实施例2]
在与上述图5相同的系统图中，分别运算使对应于17SLM的水分生成的H2和O2的混合气体G流通时的质量流量计MFC的上游侧(管上游侧)和下游侧(孔部件OR1、OR2的上游侧)的压力P1、P2，式(2)以及式(3)表示其运算式。
[数2]
Q＝C(P1-P2)……(2)
[数3]
C = π 8 η a 4 l ( P 1 + P 2 2 ) . . . . . . ( 3 )
其中，在(2)及(3)式中，Q是流量，P1是上游压力，P2是下游压力，a是孔部件半径，η是粘性系数，此外，配管压力损失的计算(H2/O2)时，因为混合气体G的粘性系数不能计算，所以如表6所示通过H2时和O2时的两方进行计算(H2的粘性系数η是0.88×10-5Pa·sec，O2的粘性系数ξ是1.75×10-5Pa·sec)。
[表6]
Figure G2007800526316D00111
[实施例3]
图6是根据本发明实施两台的水分生成用反应炉WG1、WG2的并列运转的系统图，在图6中RG1～RG4是压力调节器，V1～V4是阀，FA1、FA2是冷却风扇，HTC1、HTC2、HTC3、HTC4是温度控制器，HTM1、HTM2是温度监视器，水分生成用反应炉WG1、WG2的出口侧向大气开放。
另外，上述温度控制器HTC1及HTC4将水分生成用反应炉WG1、WG2的温度保持为350℃，在必要时进行冷却风扇FA1、FA2的运转控制。此外，HTC2及HTC3用于将配管路的温度分别保持为140℃。进而，孔部件OR1、OR2使用口径0.7mmφ的孔部件，此外，水分生成用反应炉WG1、WG2使用外径180mmφ的5SLM型反应炉。
在图6的系统图中，令混合气体G(H2＝6～10SLM、O2＝7SLM)从气体混合器M通过两孔部件OR1、OR2向两水分生成用反应炉WG1、WG2流动，分别测定水分生成时的温度变化、未反应H2浓度、O2及H2气体的供给压力PH、P0。另外，水分生成量在每一台的水分生成用反应炉中为6SLM～10SLM间。
表7表示上述图6中的水分生成试验的结果，此外，图7是表示试验结果的概要的线图。
[表7]
H2 O2 H2O   HTC1-R1温度Max   HTM1-R1温度Max   HTC4-R2温度Max   HTM2-R2温度Max   未反应H2浓度Max PH PO
  (SLM)   (SLM)   (SLM)   (℃)   (℃)   (℃)   (℃)   (Vol％)   (MPaG)   (MPaG)
  6   7   6   357   362   358   347   0.08   0.091   0.089
  7   7   6   350   350   351   357   0.08   0.094   0.093
  8   7   6   353   353   353   360   0.08   0.099   0.097
  9   7   6   366   364   360   364   0.08   0.102   0.100
  10   7   6   359   366   366   367   0.08   0.105   0.103
如从图7以及表7可知的那样，判定借助分流向各水分反应炉WG1、WG2流入均等量的混合气体G，两水分反应炉借助大致同等的水分生成反应产生同等的温度上升。此外，判定未反应H2的浓度稳定在低值。
[产业上的利用可能性]
本发明不仅应用于半导体制造设备及化学品制作设备，还能够应用于食品产业及医药品产业等中的高纯度水供给设备等。

Claims (8)

1.一种水分生成用反应炉的并列运转方法，其特征为，在多个水分生成用反应炉的各混合气体入口侧配设孔部件且将各孔部件的入口侧向混合气体供给管并列状地连接，通过各孔部件向各水分生成用反应炉分流供给氢和氧的混合气体。
2.一种水分生成用反应炉的并列运转方法，其特征为，在多个水分生成用反应炉的各混合气体入口侧配设孔部件且将各孔部件的入口侧向混合气体供给管并列状地连接，通过各孔部件向各水分生成用反应炉分流供给氢和氧的混合气体，此外，并列地连接各水分生成用反应炉的水分气体出口侧，通过水分供给管向水分使用装置供给在各水分生成用反应炉中生成的水分。
3.如权利要求2所述的水分生成用反应炉的并列运转方法，其特征为，令水分使用装置为在接近于大气压的压力下使用的工艺腔。
4.如权利要求2所述的水分生成用反应炉的并列运转方法，其特征为，令水分使用装置为在1～700Torr的压力下使用的工艺腔，并且在自各水分生成用反应炉的生成水分的水分供给管中设置减压用孔部件。
5.如权利要求1或2所述的水分生成用反应炉的并列运转方法，其特征为，令并列地连接的水分生成用反应炉为两台，且令配置在各水分生成用反应炉的混合气体入口侧的孔部件为相同口径的孔部件，从混合气体供给管向各水分生成用反应炉供给大致等量的混合气体。
6.如权利要求5所述的水分生成用反应炉的并列运转方法，其特征为，令各水分生成用反应炉的额定水分生成量为5SLM～10SLM，且令配设在混合气体入口侧的孔部件的口径为0.8～0.6mmφ。
7.如权利要求6所述的水分生成用反应炉的并列运转方法，其特征为，令水分生成用反应炉的内压为200Torr以上的压力值。
8.如权利要求1或2所述的水分生成用反应炉的并列运转方法，其特征为，令水分生成用反应炉为如下构成的水分生成用反应炉：将入口侧炉主体部件和出口侧炉主体部件组装成对置状而形成有内部空间，并且在入口侧炉主体部件上设置混合气体入口，另外在出口侧炉主体部件上设置水分气体出口，进而在出口侧炉主体部件的内壁面上设置铂涂层被膜，并且在内部空间内设置反射器，在上述内部空间内在非燃烧状态下借助铂涂层被膜的催化剂作用使混合气体中的氢气和氧气发生反应而生成水分。
CN200780052631A 2007-04-17 2007-04-17 水分生成用反应炉的并列运转方法 Pending CN101652318A (zh)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PCT/JP2007/000419 WO2008136042A1 (ja) 2007-04-17 2007-04-17 水分発生用反応炉の並列運転方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN101652318A true CN101652318A (zh) 2010-02-17

Family

ID=39943167

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN200780052631A Pending CN101652318A (zh) 2007-04-17 2007-04-17 水分生成用反应炉的并列运转方法

Country Status (7)

Country Link
US (1) US8469046B2 (zh)
JP (1) JP5315235B2 (zh)
KR (1) KR101120962B1 (zh)
CN (1) CN101652318A (zh)
IL (1) IL201327A0 (zh)
TW (1) TWI430952B (zh)
WO (1) WO2008136042A1 (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103090187A (zh) * 2011-10-27 2013-05-08 河南省电力勘测设计院 一种安全高效无人值守的电厂高压供氢系统及其实施方法

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9454158B2 (en) 2013-03-15 2016-09-27 Bhushan Somani Real time diagnostics for flow controller systems and methods
US10983538B2 (en) 2017-02-27 2021-04-20 Flow Devices And Systems Inc. Systems and methods for flow sensor back pressure adjustment for mass flow controller
US10344237B2 (en) * 2017-04-13 2019-07-09 Welker, Inc. System and method for odorizing natural gas

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1997028085A1 (fr) 1996-01-29 1997-08-07 Fujikin Incorporated Procede de production de vapeur d'eau, reacteur de production de vapeur d'eau, technique de regulation de la temperature de ce reacteur et procede de formation d'une couche catalytique recouverte de platine
EP2028577A2 (en) 1999-04-16 2009-02-25 Fujikin Incorporated Parallel bypass type fluid feeding device, and method and device for controlling fluid variable type pressure system flow rate used for the device
JP3639469B2 (ja) 1999-08-06 2005-04-20 忠弘 大見 放熱式水分発生用反応炉
CN100341775C (zh) 1999-08-06 2007-10-10 株式会社富士金 水分发生供给装置及水分发生用反应炉
JP4399326B2 (ja) 2004-07-20 2010-01-13 株式会社フジキン 水分発生用反応炉とこれを用いた水分発生供給装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103090187A (zh) * 2011-10-27 2013-05-08 河南省电力勘测设计院 一种安全高效无人值守的电厂高压供氢系统及其实施方法
CN103090187B (zh) * 2011-10-27 2014-12-10 河南省电力勘测设计院 一种安全高效无人值守的电厂高压供氢系统及其实施方法

Also Published As

Publication number Publication date
JPWO2008136042A1 (ja) 2010-07-29
JP5315235B2 (ja) 2013-10-16
KR101120962B1 (ko) 2012-03-05
TWI430952B (zh) 2014-03-21
IL201327A0 (en) 2010-05-31
US8469046B2 (en) 2013-06-25
TW200848369A (en) 2008-12-16
US20100143239A1 (en) 2010-06-10
KR20100005043A (ko) 2010-01-13
WO2008136042A1 (ja) 2008-11-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN101023199A (zh) 脉冲质量流量输送系统及方法
US4167915A (en) High-pressure, high-temperature gaseous chemical apparatus
JP2723439B2 (ja) 単一ウエーハ半導体処理装置用プログラム可能な多ゾーンガス注入器
KR100386217B1 (ko) 액체재료 기화방법 및 장치
US6631334B2 (en) Pressure-based mass flow controller system
US4268538A (en) High-pressure, high-temperature gaseous chemical method for silicon oxidation
CN103797563B (zh) 具备原料浓度检测结构的原料气化供给装置
EP2028577A2 (en) Parallel bypass type fluid feeding device, and method and device for controlling fluid variable type pressure system flow rate used for the device
CN101652318A (zh) 水分生成用反应炉的并列运转方法
CN103649367A (zh) 半导体制造装置的原料气体供给装置
EP0895806A3 (en) A process for conducting endothermic reactions
CN102870199A (zh) 利用孔比例传导控制降低分流错误的方法和设备
CN101962757A (zh) 在基材上形成薄膜的方法和设备
US20220145458A1 (en) Reaction gas supply system and control method thereof
Pattekar et al. A microreactor for in-situ hydrogen production by catalytic methanol reforming
CN107844133A (zh) 一种质量流量控制器
CN1784575B (zh) 热交换器以及执行化学处理的方法
EP0928631A2 (en) Apparatus for treating exhaust gases containing hydrogen
US7003215B2 (en) Vapor flow controller
JP2006502945A (ja) スプレーノズル
US20130312674A1 (en) Integrated system for vapor generation and thin film deposition
JPS5940055B2 (ja) 反応器内で制御された状態での化学反応を生ぜしめる方法、及び化学反応を生じさせるための装置
JPS633323B2 (zh)
CN114743900A (zh) 汽化系统以及半导体工艺设备
CN219186834U (zh) 一种计量泵撬装单元及设备

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C12 Rejection of a patent application after its publication
RJ01 Rejection of invention patent application after publication

Application publication date: 20100217