CN101645403A - 制造平板显示装置的方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种制造平板显示装置的方法。为了减小当玻璃密封材料经激光被熔化以结合母玻璃时施加到母玻璃的应力变化，所述制造平板显示装置的方法包括：在第一基底和第二基底之间设置多个发射单元，其中，第一基底面对第二基底，每一发射单元形成单元显示装置；在第一基底和第二基底之间设置多个墙壁，其中，每一墙壁分别围绕一个发射单元；将激光束照射到墙壁上，其中，将激光束同时照射到沿第一方向排列成一行的多个第一墙壁部分；沿第二方向扫描激光束，以照射所述多个墙壁的其它墙壁部分，其中第二方向不同于第一方向；切割第一基底和第二基底以获得各个显示装置。

Description

制造平板显示装置的方法
本申请要求于2008年8月7日提交到韩国知识产权局的第2008-77552号韩国专利申请的优先权，该申请公开于此以资参考。
技术领域
本发明的各方面涉及一种制造平板显示装置的方法，更具体地讲，涉及一种制造以玻璃密封材料密封的平板显示装置的方法。
背景技术
通常，诸如有机发光显示装置或薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD)的平板显示装置可被制造为具有薄而有弹性的结构。由于这些有用的性质，对平板显示装置的研究正在积极进行。
通常，有机发光显示装置可能会由于湿气而劣化。因此，需要一种密封结构来防止湿气渗入。
传统上，作为密封件的金属壳体或玻璃基底被形成为具有凹槽的帽形结构。然后，用干燥剂粉体填充这些凹槽，以吸收湿气。或者，可利用双面胶带使干燥剂薄膜附着到这些凹槽，以吸收湿气。然后，包括发光装置的密封件和基底彼此结合并用紫外(UV)硬化有机密封剂或热硬化有机密封剂密封。
用于使密封件与基底结合的有机密封剂易受压力的影响。此外，有机密封剂的抗湿气特性随着时间快速减弱，且密封效果减弱。
由于这些和/或其它问题，近来已经使用玻璃密封材料代替有机密封剂，以获得极好的抗压特性和密封特性。使用激光束来使玻璃密封材料熔化。
第2007/0128967号美国专利申请公开了一种使用玻璃密封材料并利用激光束使玻璃密封材料熔化的密封方法。
在所公开的方法中，多个发射装置被置于一对彼此面对的母玻璃(motherglass)之间。然后，每一发射装置被玻璃密封材料所形成的闭环结构完全围绕，然后，激光束照射到闭环结构上以使玻璃密封材料熔化。
由于激光束沿着围绕每一发射装置的闭环结构照射玻璃密封材料，所以激光束经过的照射轨迹会具有与围绕每一发射装置的闭环结构的形状相同的形状。因此，激光束形成数量与发射装置的数量相同的闭环结构。
在这一方法中，由于激光束照射期间所产生的热应力，母玻璃的切割表面可能有缺陷。
当玻璃密封材料被激光束熔化以使母玻璃结合时，在玻璃密封材料熔化和冷却时重复温度的升高和降低的循环。结果是，各种热冲击被施加到母玻璃上，从而在母玻璃中出现不均匀的应力。由于不均匀的应力，会难以精确切割母玻璃，并且母玻璃的切割侧会有突起。此外，母玻璃与发射装置的部件对应的部分会膨胀，并形成可见的牛顿环结构。
此外，每当激光束照射到相邻的发射装置上时，母玻璃中会出现更多的应力变化。
发明内容
本发明的各方面提供一种制造平板显示装置的方法，其中，当玻璃密封材料被熔化以结合母玻璃时施加到母玻璃的应力变化被最小化。
根据本发明的实施例，提供一种制造平板显示装置的方法，该方法包括：在第一基底和第二基底之间设置多个发射单元，其中，第一基底面对第二基底，每一发射单元形成单元显示装置；在第一基底和第二基底之间设置多个墙壁，其中，每一墙壁分别围绕一个发射单元；将激光束同时照射到沿第一方向排列在一行中的多个第一墙壁部分；沿第二方向扫描激光束以照射所述多个墙壁的其它墙壁部分，其中第二方向不同于第一方向；切割第一基底和第二基底以获得各个显示装置。
根据本发明的一方面，第一方向可垂直于第二方向。
根据本发明的一方面，每一个围绕发射单元的墙壁包括沿第一方向延伸的第一墙壁部分和沿第二方向的第二墙壁部分，其中，激光束同时照射到沿第一方向排列在一行中的第一墙壁部分中的每一个上，并且同时照射到第二墙壁部分的至少一部分上。
根据本发明的一方面，激光束通过掩模并到达墙壁，其中，所述掩模包括：透光区域，激光束通过该透光区域；挡光区域，遮挡激光束，围绕透光区域，包括多个遮挡部分，所述多个遮挡部分相分离并且沿激光束通过的方向布置。
根据本发明的一方面，在所述多个遮挡部分之间可设置介电层。
根据本发明的一方面，所述掩模可包括：透明玻璃，具有第一表面和第二表面，其中第一表面面向第二表面，挡光区域可包括形成在透明玻璃的第一表面上的第一遮挡部分和形成在透明玻璃的第二表面上的第二遮挡部分。
根据本发明的一方面，第一遮挡部分和第二遮挡部分可具有不同的图案。
根据本发明的一方面，透光区域和墙壁可具有相同的图案。
根据本发明的一方面，透光区域和墙壁可具有不同的图案。
根据本发明的一方面，透光区域可具有暴露每一墙壁的围绕部分的图案。
根据本发明的一方面，挡光区域可包括反射激光束的光反射层。
根据本发明的一方面，挡光区域可包括吸收激光束的光吸收层。
根据本发明的一方面，可通过多个激光发射二极管来发射激光束，所述多个激光发射二极管彼此连接并排列成一行，并且同时发射光。
根据本发明的一方面，所述激光束是矩形线激光束，其中，该线激光束的长边具有与沿第一方向排列的多个第一墙壁部分的宽度对应的长度。
根据本发明另一实施例，提供一种制造平板显示装置的方法，该方法包括：提供第一基底、第二基底、设置在第一基底或第二基底上的多个发射单元以及激光密封材料的多个墙壁，其中，第一基底面向第二基底，每一发射单元形成单元显示装置，每一发射单元被所述多个墙壁之一围绕，所述多个墙壁中的每一个包括沿第一方向延伸的第一墙壁部分和沿不同于第一方向的第二方向延伸的第二墙壁部分，所述多个发射单元被布置成提供沿第一方向排列在一行中的多个第一墙壁部分；提供激光照射器，该激光照射器包括沿第一方向延伸的多个激光发射器；沿第二方向扫描激光照射器，以使得沿第一方向排列在一行中的第一墙壁部分被同时照射，沿第二方向延伸的第二墙壁部分随着激光照射器扫描而被逐步照射，从而每一发射单元被密封以提供单元显示装置。
本发明另外的方面和/或优点将通过下面的描述部分地被阐述，并且部分地将通过描述变得明显，或者可通过本发明的实践而了解。
附图说明
通过下面结合附图对实施例的描述，本发明的这些和/或其他方面和优点将变得明显并更容易理解，附图中：
图1是根据本发明实施例的制造平板显示装置的过程中使用的基底和激光照射器的俯视图；
图2是示出沿图1的线II-II截取的图1的基底的剖视图、掩模的剖视图和激光照射器的剖视图的示图；
图3是设置在图1中示出的基底上的发射单元的剖视图；
图4是图1中示出的激光照射器的仰视图；
图5是根据本发明实施例的图2中示出的掩模的俯视图；
图6是根据本发明另一实施例的图2中示出的掩模的俯视图；
图7是根据本发明实施例的用激光束执行的扫描处理的示意图；
图8是根据本发明另一实施例的用激光束执行的扫描处理的示意图；
图9是根据本发明实施例的激光束所通过的掩模的剖视图；
图10是根据本发明另一实施例的掩模的剖视图，其中激光束以倾斜角度入射；
图11是根据本发明另一实施例的掩模的剖视图；
图12是根据本发明实施例的使用制造平板显示装置的方法制造的平板显示装置中所使用的基底的另一示例的俯视图。
具体实施方式
现在将详细说明本发明的当前实施例，其示例示出于附图中，在附图中，相同的标号始终表示相同的部件。下面，参照附图描述实施例以解释本发明。
应该理解的是，当一个层在此被称作“形成在”或“设置在”第二层“上”时，第一层可以直接形成在或直接设置在第二层上，或者在第一层和第二层之间可存在中间层。此外，如这里所使用的，术语“形成在......上”以与“位于......上”或“设置在......上”相同的含义使用，而不意味着被限制为关于任何特定制造工艺。
以下，将参照附图详细描述本发明的实施例。
图1是根据本发明实施例的制造平板显示装置的方法中所使用的基底和激光照射器的俯视图，图2包括沿图1的线II-II截取的剖视图、掩模的剖视图和激光照射器的剖视图。
参照图1和图2，第一基底1面向第二基底2。第一基底1具有形成在其上的多个发射单元3。第一基底1和第二基底2是形成多个单元装置的母玻璃。
第一基底1和第二基底2中的每一个可以是透明基底。或者，第一基底1和第二基底2中的任何一个可以是不透明基底，同时第一基底1和第二基底2中的另一个是透明基底。
每一发射单元3可包括多个发射装置。例如，每一发射单元3可以是包括多个有机发射装置的有机发射单元。
图3是示出发射单元3中可包括的有机发射装置的示例，具体地讲，有源驱动的有机发光装置(OLED)的剖视图。
参照图3，在第一基底1上设置绝缘层11。绝缘层11可以是用于防止杂质离子扩散并且/或者防止湿气或外部气体渗入，并且用于使所得结构的表面平坦化的隔层。
由半导体材料形成的薄膜晶体管(TFT)的有源层12设置在绝缘层11上，栅极绝缘层13覆盖有源层12。有源层12可由无机半导体(如非晶硅或多晶硅)或有机半导体形成。有源层12包括源区12b、漏区12c以及形成在源区12b和漏区12c之间的沟道区12a。
栅电极14设置在栅极绝缘层13上，层间绝缘层15覆盖栅电极14。源电极16a和漏电极16b设置在层间绝缘层15上，平坦化层17和像素限定层18依次形成在所得结构上。
栅极绝缘层13、层间绝缘层15、平坦化层17和像素限定层18可由绝缘材料形成。栅极绝缘层13、层间绝缘层15、平坦化层17和像素限定层18中的每一个可形成为单层，或者可包括多层。此外，栅极绝缘层13、层间绝缘层15、平坦化层17和像素限定层18中的每一个可由有机材料、无机材料或有机/无机复合物形成。
TFT的堆叠结构不限于上述结构，TFT可具有其它堆叠结构。
作为OLED的电极的像素电极31设置在平坦化层17上，像素限定层18设置在像素电极31上。像素限定层18具有暴露像素电极31的开口。OLED的有机发射层32形成在像素电极31上。
OLED根据电流发射红光、绿光或蓝光，并显示预定图像信息。OLED包括通过接触孔与TFT的漏电极16b接触的像素电极31、覆盖所有像素的相对电极33以及设置在像素电极31和相对电极33之间的有机发射层32。有机发射层32发射光。
像素电极31通过有机发射层32与相对电极33绝缘。像素电极31和相对电极33将具有不同极性的电压施加到有机发射层32，以使得有机发射层32发光。
有机发射层32可以是小分子有机层或聚合物有机层。当有机发射层32是小分子有机层时，有机发射层32可包括空穴注入层(HIL)、空穴传输层(HTL)、发射层(EML)、电子传输层(ETL)和电子注入层(EIL)，其中每一层可以是单层，或者可具有多层。可用的小分子有机材料的例子包括：铜酞菁(CuPc)、NPB(N，N′-di naphthalene-1-yl-N，N′-diphenyl-benzidine)和三-8-羟基喹啉铝(tris-8-hydroxyquinoline aluminum(Alq3))。小分子有机层可通过真空沉积而形成。HIL、HTL、ETL和EIL是红像素、绿像素和蓝像素的公共层。因此，与图3中所示的结构不同，这些公共层可形成为以与相对电极33相同的方式覆盖发射单元3的所有像素。
像素电极31可用作阳极，相对电极33可用作阴极。或者，像素电极31可用作阴极，相对电极33可用作阳极。
在底部发射型有机发光显示装置，即在第一基底1那一侧形成图像的显示装置的情况下，像素电极31可以是透明电极，相对电极33可以是反射电极。像素电极31可以由具有高功函数的材料，如ITO、IZO、ZnO或In2O3形成，相对电极33可由具有低功函数的金属，如Ag、Mg、Al、Pt、Pd、Au、Ni、Nd、Ir、Cr、Li或Ca形成。
在顶部发射型有机发光显示装置，即在相对电极33那一侧形成图像的显示装置的情况下，像素电极31可以是反射电极，相对电极33可以是透明电极。像素电极31可包括由金属(如Ag、Mg、Al、Pt、Pd、Au、Ni、Nd、Ir、Cr、Li、Ca或其混合物)以及具有高功函数的材料(如ITO、IZO、ZnO或In2O3)形成的反射层。相对电极33可通过这样的方式形成：沉积具有低功函数的金属(如Ag、Mg、Al、Pt、Pd、Au、Ni、Nd、Ir、Cr、Li、Ca或其混合物)并在其上沉积透明导电材料(如ITO、IZO、ZnO或In2O3)，以形成辅助电极层或汇流电极线。
在于两个方向上形成图像的发射型有机发光显示装置中，像素电极31和相对电极33可以是透明电极。
像素电极31和相对电极33还可由其它材料形成。例如，像素电极31和相对电极33可由导电有机材料或包含例如Ag、Mg或Cu的导电颗粒的导电浆料形成。可以利用喷墨印刷方法涂敷导电浆料，然后可在导电浆料上执行烧结工艺以形成电极。
钝化层34设置在相对电极33上，以覆盖发射单元3。钝化层34可由无机材料、有机材料或有机/无机复合物形成。
应理解的是，有机发射装置的结构不限于上面的描述，可使用其它结构。
如图1所示，在每一发射单元3附近设置焊盘单元4。焊盘单元4将相应的发射单元3连接到外部装置(未示出)，如集成电路(IC)或其它电路装置。
沿第一方向X排列的发射单元3-焊盘单元4对的数量可为m，沿第二方向Y排列的发射单元3-焊盘单元4对的数量可为n。一个发射单元3和一个焊盘单元4形成一个单位(cell)。在如图1所示的单位中，发射单元3设置在焊盘单元4附近，并且发射单元3和焊盘单元4沿第二方向Y彼此对齐。然而，发射单元3设置在焊盘单元4附近并且发射单元3和焊盘单元4沿第一方向X彼此对齐也是可以的。还可以使焊盘4围绕发射单元3。应该理解的是，包括发射单元3和焊盘单元4的单位的结构不限于上面的描述，可使用其它结构。
在形成平板显示装置的过程中，以闭环结构(即，围墙结构)的形状将浆料状态的玻璃密封材料涂敷到面向第一基底1的第二基底2的表面，使得每一发射单元3被玻璃密封材料围绕，然后玻璃密封材料被预烧结以形成墙壁5。或者，墙壁5可形成在面向第二基底2的第一基底1的表面上。在每一单位中，墙壁5包括两个第一墙壁51和两个第二墙壁52。可利用分送器(dispenser)将浆料状态的玻璃密封材料顺序施加到每一单位，或者可通过丝网印刷将浆料状态的玻璃密封材料同时施加到所有单位。
浆料状态的玻璃密封材料可包括玻璃料。玻璃料可包括吸收激光束的工作波长的吸收材料，如铁、铜、钒或钕。此外，考虑到第一基底1和/或第二基底2的热膨胀系数，玻璃料还可包括填充材料。玻璃密封材料还可包括任何其它已知的玻璃料。
然后，设置有墙壁5的第二基底和第一基底1被适当地布置，激光照射器7将激光束照射到每一单位的墙壁5，以使玻璃密封材料熔化。然后，熔化的玻璃密封材料被冷却，从而使第一基底与第二基底2结合。可将预定的压力施加到第一基底1和第二基底2，以使得第一基底1和第二基底2与墙壁5充分接触。
如图2所示，激光束照射到第一基底1。然而，激光束的照射方向不限于此。作为替代方式，激光束可照射到第二基底2。作为另一个替代方式，激光束可同时照射到第一基底1和第二基底2。
根据本发明的多个方面，如图1所示，激光束可照射到围绕沿第一方向X排列的一行中的发射单元3的第一组墙壁51。然后，如图1所示，激光照射器7可移动，以沿扫描方向S(即，第二方向Y)扫描其它墙壁52。
即，激光照射器7将激光束同时照射到图1的沿第一方向X排列的一行发射单元3的第一组墙壁51，然后在沿第二方向Y移动的同时将激光束照射到这一行发射单元3的其它墙壁52。然后，当激光照射器7完全扫描这一行发射单元3时，激光照射器7将激光束同时照射到图1的沿第一方向X排列的发射单元3的第二组墙壁51。然后，随着激光照射器7继续在S方向上扫描，对第二及后续行的发射单元3重复这一过程。
由于激光束同时照射到沿第一方向X排列在一行中的发射单元3的墙壁51，然后沿第二方向Y扫描以照射其它墙壁52，所以热应力可均匀施加到作为母玻璃的第一基底1和第二基底2。
因此，第一基底1和第二基底的与沿第一方向X排列在一行中的发射单元3对应的部分受到相同强度的热应力的影响。此外，由于整个一行的发射单元3被同时照射，而非依次单独地照射每一个发射单元3，所以第一基底1和第二基底2暴露于热应力n次，而非m×n次。因此，第一基底1和第二基底2较少暴露于当激光束照射到相邻单位时所产生的额外热应力。
在第一基底1和第二基底2上沿第一方向X排列在一行中的墙壁51可同时暴露于图4所示的激光照射器7所照射的激光束。可通过将布置成一行的多个激光发射二极管72连接，然后使激光发射二极管72在基底71上排列来形成激光照射器7。
每一激光发射二极管72可发射具有400nm至1200nm的波长的激光束，并具有线-条结构(line-bar structure)。由于激光发射二极管72彼此连接并且布置成一行，所以激光照射器7可发射具有均匀强度的激光束。对此，从激光发射二极管72发射的激光束所形成的束点可重叠，从而可获得均匀的线激光束。对于所有激光束，线激光束的均匀性可在±5％内，但不限于此。
激光照射器7还可包括聚焦激光束并发射均匀线光束的光学系统(未示出)。该光学系统可包括准直透镜、均匀化透镜和投影透镜。当通过该光学系统对激光束聚焦时，与仅使用激光二极管时相比，可获得高效率。
即，激光束可被聚焦以形成具有几百μm至2mm束宽的线激光束。
该线激光束可具有矩形截面。矩形截面的长边的长度可与沿第一方向X排列在一行中的墙壁51中最左侧的墙壁和最右侧的墙壁之间的距离对应。
矩形截面的长边可具有平顶形状能量分布，矩形截面的短边可具有高斯形状或平顶形状能量分布。
如图1和图4所示，激光照射器7可沿第一方向X延伸一定距离，以使得最左侧的激光发射二极管72与最右侧的激光发射二极管72之间的距离与第一基底1沿第一方向X的宽度以及第二基底2沿第一方向X的宽度对应。如图1所示，最左侧和最右侧的发射单元3沿X方向与第一基底1和第二基底2的边缘分离开预定距离，因此作为替代方式，激光照射器7沿第一方向X的宽度可与最左侧单位的最左端与最右侧单位的最右端之间的距离对应，其中该最左侧单位和最右侧单位排列在同一行中。
然而，如上所述，当激光照射器7包括分离的光学系统时，该光学系统可使线激光束发散或聚焦。因此，激光照射器7沿第一方向X的长度可小于第一基底1和第二基底2沿第一方向X的宽度。
如图4所示连接成一行的预定数量的激光发射二极管72被定义为单元，这些单元被适当地组合以扫描更大的基底或更小的基底。因此，可对应于母玻璃的大小来控制单元的数量，从而激光束可同时照射到母玻璃上沿预定方向排列的被选装置。此外，即使从激光照射器7发射的激光束的X方向上的线激光束的宽度短于母玻璃在X方向上的宽度，也可通过沿第二方向Y执行若干次扫描处理来完全扫描母玻璃。因此，激光照射器7也可较小。
如图2所示，掩模6可设置在激光照射器7和第一基底1之间，以使得激光束通过掩模6并到达墙壁5。
掩模6包括具有透光区域64和挡光区域65的透光透明玻璃61。掩模6可布置为使得激光束仅照射到墙壁5上，并且使得发射单元3免受激光束的影响。
如图5所示，透光区域64和挡光区域65被图案化为与结合的第一基底1和第二基底2的单位对应。具体地讲，挡光区域65可被图案化为使得激光束不照射到第一基底1的边缘和发射单元3。因此，如图2所示，透光区域64具有与相邻单位之间的墙壁5对应的开口图案，因此透光区域64具有足够大的宽度以使得激光束充分照射到墙壁5。
然而，透光区域64的图案不限于上面描述的图案结构。对此，如图6所示，透光区域64可具有与墙壁本身的图案对应的图案。
透光区域64的最小宽度可大于墙壁5的最大宽度。这是因为：在激光束的束剖面(beam profile)中，激光束的强度在中心处最大，随着远离中心强度降低很多。因此，可适当调节透光区域64的宽度以便于用具有均匀强度的激光束来扫描墙壁5。
当激光照射器7通过如图1所示的掩模6照射激光束，并且如图7所示，线激光束L在X方向上的长度足够大以使得排列在一行中的所有单位可被同时扫描时，仅需要一个扫描处理S来将激光束照射到排列在一行中的所有单位。
另一方面，如图8所示，如果线激光束L在X方向上的长度使得排列在一行中的所有单位不被同时扫描，例如，如果线激光束L的长度使得仅排列在一行中的单位的一半被同时扫描，则在第一区域中执行第一扫描处理S1，然后在位于第一区域附近的第二区域中执行第二扫描处理S2，从而用激光束完成所有单位的扫描。
根据本发明的多个方面，掩模6的挡光区域65可包括至少两个遮挡部分。例如第一遮挡部分62和第二遮挡部分63。第一遮挡部分62和第二遮挡部分63可以在激光束通过掩模6的方向上彼此分离。因此，当沿第一方向X延伸的线激光束被照射时，发射单元3可免受倾斜激光束的影响。
即，根据本发明的多个方面，激光束同时照射到沿第一方向X排列在一行中的单位上。因此，单位可能被暴露于从相邻单位正上方的激光发射二极管72发射的倾斜激光束。根据本发明的多个方面，挡光区域65的第一遮挡部分62和第二遮挡部分63依次布置在激光束通过的方向上，以遮挡相邻单位的倾斜激光束。
具体地讲，如图9所示，由于第一遮挡部分62形成在透光透明玻璃61的一个表面上，第二遮挡部分63形成在透光透明玻璃61的相对表面上，所以第一遮挡部分62阻挡以倾斜角度入射到挡光区域65上的激光束，第二遮挡部分63阻挡通过第一遮挡部分62的激光束或者以倾斜角度入射到透光区域64上的激光束。因此，激光束仅照射到墙壁5上，而不损坏发射单元3。即，根据图9的实施例，90°角的激光束入射在第一基底1和第二基底2上，不同于90°的角度的激光束被第一遮挡部分62和第二遮挡部分63阻挡。
或者，掩模6可配置为允许与90°不同的角度的激光束入射在第一基底1和第二基底2上。如图10所示，激光束可以以相对于法线的入射角θ入射在第一基底1和第二基底2上。在这种情况下，可以保护激光照射器免受从该激光照射器照射然后向着该激光照射器反射回的激光束的冲击。例如，入射角θ可以是30°或更小。
如图10所示，第一遮挡部分62和第二遮挡部分63可被布置为不同的图案，以使得以角度θ入射在掩模6上并且在通过掩模6的透光透明玻璃61时被折射的激光束入射到第一基底1和第二基底2上。
由于第一遮挡部分62和第二遮挡部分63具有不同的图案，所以由第一遮挡部分62限定的第一透光区域64a和第一挡光区域65a的图案位置不同于由第二遮挡部分63限定的第二透光区域64b和第二挡光区域65b的图案位置。可根据用于形成透光透明玻璃61的材料和激光束的入射角θ来确定这种图案位置的变化。
作为另一个替代方式，第一遮挡部分62和第二遮挡部分63中的至少一个可包括多个遮挡部分。例如，如图11所示，第一遮挡部分62可包括多个第一遮挡部分62a和62b，第二遮挡部分63可包括多个第二遮挡部分63a和63b，在第一遮挡部分62a和62b之间以及/或者在第二遮挡部分63a和63b之间可插入介电层66。尽管图11示出形成在整个掩模6中的介电层66，但是本发明不限于此。因此，介电层66可仅形成在第一遮挡部分62a和62b之间以及/或者第二遮挡部分63a和63b之间。
可考虑激光束的入射角θ、束剖面、波长或者折射角来设计这些遮挡部分的层间结构。
第一遮挡部分62和第二遮挡部分63中的每一个可包括光反射层或光吸收层。如果第一遮挡部分62和第二遮挡部分63包括光反射层，则第一遮挡部分62和第二遮挡部分63可防止激光束照射到发射单元3，并且还可防止由激光束引起的掩模6的温度的升高。如果第一遮挡部分62和第二遮挡部分63包括光吸收层，则可防止由激光束引起的执行该制造方法的室中的温度的增加。
如图1和图7所示，通过掩模6，激光束同时照射到沿第一方向X排列在一行中的第一墙壁51上，然后继续照射到沿第一方向X排列在一行中的第二墙壁52上，其中第一墙壁51垂直于第二墙壁52。即，与激光束沿着墙壁5的闭环结构照射每一个单位时的情况不同，在根据本发明多个方面的方法中，对于每一单位，激光束同时照射到介于第二墙壁52之间的彼此面对的第一墙壁51中的一个上，依次照射到第二墙壁52上，然后同时照射到另一第一墙壁51上。即，在每一单位中，第一墙壁51中的每一个沿着其整个长度被同时(而非依次)照射、熔化和硬化，从而提高粘合力。
尽管在先前描述的实施例中，激光束同时照射到沿第一方向X排列在一行中的单位上，然后沿第二方向Y执行扫描，但是本发明不限于此。如图12所示，激光束可同时照射到沿第二方向Y排列在一行中的单位上，然后可沿第一方向X执行扫描。
已经参照有机发光显示装置描述了本发明的实施例。然而，本发明的多个方面还可应用于其它平板显示装置，如液晶显示装置或无机电致发光显示装置。
在以如上所述的方式使墙壁硬化之后，第一基底和第二基底被切割并被分为多个显示装置。
根据本发明的多个方面，作为母玻璃的第一基底和第二基底具有更均匀的热应力，并且较少暴露于当激光束照射到相邻单位时引起的额外热应力。结果，可防止诸如切割缺陷或牛顿环缺陷的装置缺陷。
由于激光发射二极管被连接并沿第一方向排列，可获得具有均匀强度的线激光束。此外，可对应于不同母玻璃的大小容易地改变线激光束的大小。
掩模的挡光区域可包括彼此分离并在激光束通过的方向上布置的至少两个遮挡部分。因此，当用沿第一方向延伸的线激光束照射基底时，发射单元可免受倾斜激光束的影响。
当挡光区域包括第一遮挡部分和第二遮挡部分，并且第一遮挡部分和第二遮挡部分包括光反射层时，发射单元可免受激光束的影响，并且还可防止由激光束引起的掩模的温度的增加。
当第一遮挡部分和第二遮挡部分包括光吸收层时，可防止由激光束引起的执行该制造方法的室中的温度的增加。
对于每一单位，沿第一方向排列的第一墙壁同时熔化和硬化，从而提高了粘合力。
尽管已经显示和描述了本发明的几个实施例，但是本领域技术人员应该理解，在不脱离本发明的远离和精神的情况下，可对该实施例进行改变，本发明的范围由权利要求及其等同物限定。

Claims (26)

1、一种制造平板显示装置的方法，该方法包括：
在第一基底和第二基底之间设置多个发射单元，其中，第一基底面对第二基底，每一发射单元形成单元显示装置；
在第一基底和第二基底之间设置多个墙壁，其中，每一墙壁分别围绕一个发射单元；
将激光束同时照射到沿第一方向排列成一行的多个第一墙壁部分；
沿第二方向扫描激光束以照射所述多个墙壁的其它墙壁部分，其中第二方向不同于第一方向；
切割第一基底和第二基底以获得各个单元显示装置。
2、根据权利要求1所述的方法，其中，第一方向垂直于第二方向。
3、根据权利要求1所述的方法，其中，每一个围绕发射单元的墙壁包括沿第一方向延伸的第一墙壁部分和沿第二方向的第二墙壁部分，其中，激光束同时照射到沿第一方向排列在一行中的第一墙壁部分中的每一个上，并且同时照射到第二墙壁部分的至少一部分上。
4、根据权利要求1所述的方法，其中，激光束通过掩模并到达墙壁，其中，所述掩模包括：
透光区域，激光束通过该透光区域；
挡光区域，遮挡激光束，围绕透光区域，包括多个遮挡部分，所述多个遮挡部分相分离并且沿激光束通过的方向布置。
5、根据权利要求4所述的方法，其中，在所述多个遮挡部分之间设置介电层。
6、根据权利要求4所述的方法，其中，所述掩模包括：透明玻璃，具有第一表面和第二表面，其中在透明玻璃的相对侧上，挡光区域包括形成在透明玻璃的第一表面上的第一遮挡部分和形成在透明玻璃的第二表面上的第二遮挡部分。
7、根据权利要求4所述的方法，其中，所述掩模包括透明玻璃，该透明玻璃在透明玻璃的相对侧上具有第一表面和第二表面，其中，挡光区域包括形成在透明玻璃的第一表面上的第一遮挡部分和形成在透明玻璃的第二表面上的第二遮挡部分，并且第一遮挡部分和第二遮挡部分中的至少一个包括通过介电层分离的多个遮挡部分层。
8、根据权利要求4所述的方法，其中，所述掩模包括透明玻璃，该透明玻璃在透明玻璃的相对侧上具有第一表面和第二表面，其中，挡光区域包括形成在透明玻璃的第一表面上的第一遮挡部分和形成在透明玻璃的第二表面上的第二遮挡部分，并且第一遮挡部分和第二遮挡部分中的每一个包括通过介电层分离的多个遮挡部分层。
9、根据权利要求6所述的方法，其中，第一遮挡部分和第二遮挡部分具有不同的图案。
10、根据权利要求4所述的方法，其中，透光区域和墙壁具有相同的图案。
11、根据权利要求4所述的方法，其中，透光区域和墙壁具有不同的图案。
12、根据权利要求4所述的方法，其中，透光区域具有暴露每一墙壁的围绕部分的图案。
13、根据权利要求4所述的方法，其中，挡光区域包括反射激光束的光反射层。
14、根据权利要求4所述的方法，其中，挡光区域包括吸收激光束的光吸收层。
15、根据权利要求1所述的方法，其中，通过多个激光发射二极管来发射激光束，所述多个激光发射二极管彼此连接并排列成一行，并且同时发射光。
16、根据权利要求1所述的方法，其中，所述激光束是矩形线激光束，其中，该线激光束的长边具有与沿第一方向排列的多个第一墙壁部分的宽度对应的长度。
17、一种制造平板显示装置的方法，该方法包括：
提供第一基底、第二基底、在第一基底或第二基底上设置的多个发射单元以及激光密封材料的多个墙壁，其中，第一基底面向第二基底，每一发射单元形成单元显示装置，每一发射单元被所述多个墙壁之一围绕，所述多个墙壁中的每一个包括沿第一方向延伸的第一墙壁部分和沿不同于第一方向的第二方向延伸的第二墙壁部分，所述多个发射单元被布置成提供沿第一方向排列成一行的多个第一墙壁部分；
提供激光照射器，该激光照射器包括沿第一方向延伸的多个激光发射器；
沿第二方向扫描激光照射器，以使得沿第一方向排列在一行中的第一墙壁部分被同时照射，沿第二方向延伸的第二墙壁部分随着激光照射器扫描而被逐步照射，从而每一发射单元被密封以提供单元显示装置。
18、根据权利要求17所述的方法，所述方法还包括：切割第一基底和第二基底，以分离单元显示装置。
19、根据权利要求17所述的方法，所述方法还包括：提供掩模，该掩模允许来自激光照射器的激光束照射到所述多个墙壁并且阻止来自激光照射器的激光束照射到发射单元。
20、根据权利要求19所述的方法，其中，所述掩模包括遮挡部分，所述遮挡部分在来自激光照射器的激光束通过的方向上彼此分离，所述遮挡部分被布置成使得以与90°不同的预定角度入射在掩模上的激光束照射到所述多个墙壁。
21、根据权利要求19所述的方法，其中，所述掩模包括遮挡部分，所述遮挡部分在来自激光照射器的激光束通过的方向上彼此分离，所述遮挡部分被布置成使得以与90°不同的预定角度入射在掩模上的激光束被所述掩模阻挡。
22、根据权利要求17所述的方法，其中，所述激光照射器的宽度使得沿第一方向排列在一行中的整个一行第一墙壁部分被同时照射。
23、根据权利要求22所述的方法，其中，在第二方向上仅执行激光照射器的一次扫描。
24、根据权利要求17所述的方法，其中，激光照射器的宽度小于沿第一方向排列在一行中的整个一行第一墙壁部分的宽度，所述方法包括：在第二方向上进行激光照射器的第一次扫描以照射包含第一墙壁部分和第二墙壁部分的第一区域，然后在第二方向上进行第二次扫描以照射包含第一墙壁部分和第二墙壁部分的第二区域。
25、根据权利要求17所述的方法，其中，激光照射器用被引导向第一基底或第二基底的激光束来照射第一墙壁部分或第二墙壁部分。
26、根据权利要求25所述的方法，其中，激光照射器用被引导向第一基底和第二基底的激光束来照射第一墙壁部分或第二墙壁部分。
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Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105226204A (zh) * 2014-05-30 2016-01-06 上海微电子装备有限公司 一种激光封装设备及封装方法
WO2016015514A1 (zh) * 2014-07-29 2016-02-04 上海微电子装备有限公司 激光密封玻璃封装体封装系统和封装方法
WO2016101514A1 (zh) * 2014-12-25 2016-06-30 京东方科技集团股份有限公司 激光切割方法、显示基板和显示装置
CN106163726A (zh) * 2014-03-31 2016-11-23 三菱重工业株式会社 加工装置和加工方法
CN106803545A (zh) * 2015-11-26 2017-06-06 三星显示有限公司 显示装置及其制造方法
CN107135601A (zh) * 2016-02-26 2017-09-05 英飞凌科技股份有限公司 多重基底
CN110581158A (zh) * 2013-07-23 2019-12-17 三星显示有限公司 有机发光显示设备及其制造方法
US10678098B2 (en) 2015-04-15 2020-06-09 Samsung Display Co., Ltd. Impact resistant display apparatus
CN111697164A (zh) * 2019-03-13 2020-09-22 三星显示有限公司 显示设备和制造该显示设备的方法
CN111902237A (zh) * 2018-01-19 2020-11-06 Ncc纳诺责任有限公司 用于在热脆性基板上固化焊膏的方法

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101097341B1 (ko) * 2010-03-09 2011-12-23 삼성모바일디스플레이주식회사 유기 발광 표시 장치
KR101182233B1 (ko) * 2010-06-11 2012-09-12 삼성디스플레이 주식회사 유기 발광 표시 장치
JP2012169068A (ja) * 2011-02-10 2012-09-06 Canon Inc 気密容器及び画像表示装置の製造方法
JP2013101923A (ja) * 2011-10-21 2013-05-23 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 分散組成物の加熱方法、及びガラスパターンの形成方法
KR102058387B1 (ko) * 2011-11-28 2019-12-24 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 유리 패턴 및 그 형성 방법, 밀봉체 및 그 제작 방법, 및 발광 장치
KR102086545B1 (ko) 2012-07-19 2020-03-10 삼성디스플레이 주식회사 플렉서블 디스플레이 장치 및 그의 제조 방법
KR102026822B1 (ko) * 2012-07-23 2019-10-01 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치 셀 절단 장치 및 표시 장치 제조 방법
KR20140128080A (ko) 2013-04-26 2014-11-05 삼성디스플레이 주식회사 유기 발광 표시 장치 및 그 제조 방법
CN105555567A (zh) * 2013-09-18 2016-05-04 旭硝子株式会社 夹层玻璃及车用显示装置
CN105081626A (zh) * 2015-07-23 2015-11-25 晶科能源有限公司 一种太阳能电池焊接辅助装置及焊接方法
KR102585238B1 (ko) * 2017-12-28 2023-10-06 삼성디스플레이 주식회사 유기 발광 표시 장치 및 이의 제조 방법
JP7120833B2 (ja) * 2018-07-10 2022-08-17 Ｊｓｗアクティナシステム株式会社 レーザ処理装置

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60250345A (ja) * 1984-05-28 1985-12-11 Toshiba Corp 半導体装置のレ−ザマ−キング用マスク
US20070178387A1 (en) * 2004-03-09 2007-08-02 Hoya Corporation Mask fabrication supporting method, mask blank providing method, and mask blank dealing system
US20070195634A1 (en) * 2006-02-14 2007-08-23 Jong Woo Lee Flat panel display device and fabrication apparatus thereof and fabrication method thereof

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10333160A (ja) * 1996-11-28 1998-12-18 Lopco:Kk 紫外光硬化型樹脂用の紫外光照射装置および紫外光照射方法と紫外光照射装置を備えた基板貼り合わせ処理システム
US6636290B1 (en) * 1999-05-10 2003-10-21 International Business Machines Corporation Methods of forming liquid display panels and the like wherein using two-component epoxy sealant
TW511298B (en) * 1999-12-15 2002-11-21 Semiconductor Energy Lab EL display device
JP2002287156A (ja) * 2001-03-26 2002-10-03 Matsushita Electric Ind Co Ltd 液晶パネルの製造方法および製造装置
US7753751B2 (en) * 2004-09-29 2010-07-13 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Method of fabricating the display device
KR100637511B1 (ko) * 2005-04-19 2006-10-23 삼성에스디아이 주식회사 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법 및 레이저 헤드노광기
US7537504B2 (en) 2005-12-06 2009-05-26 Corning Incorporated Method of encapsulating a display element with frit wall and laser beam
KR100745347B1 (ko) * 2006-01-26 2007-08-02 삼성에스디아이 주식회사 유기 전계 발광 표시장치 제조 방법
KR100671639B1 (ko) * 2006-01-27 2007-01-19 삼성에스디아이 주식회사 유기 전계 발광 표시장치 및 그 제조 방법
KR100776472B1 (ko) * 2006-02-20 2007-11-16 삼성에스디아이 주식회사 레이저 조사 장치 및 이를 이용한 유기전계 발광표시장치의제조방법
JP4706570B2 (ja) * 2006-06-20 2011-06-22 セイコーエプソン株式会社 基板及びその分断方法、電気光学装置及びその製造方法、電子機器
KR100770104B1 (ko) * 2006-09-28 2007-10-24 삼성에스디아이 주식회사 유기 전계 발광 표시 장치 및 그 제조 방법과 이를 위한이송 장치
KR100824531B1 (ko) * 2006-11-10 2008-04-22 삼성에스디아이 주식회사 유기 전계 발광표시장치 및 그 제조방법
KR100838077B1 (ko) * 2007-01-12 2008-06-16 삼성에스디아이 주식회사 평판 표시장치의 제조방법
US7533636B2 (en) * 2007-04-30 2009-05-19 General Electric Company System, method, and computer readable media for controlling cooling in a diesel fueled power generation unit
JP2009104841A (ja) * 2007-10-22 2009-05-14 Toshiba Corp 封止装置、封止方法、電子デバイス、および電子デバイスの製造方法

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60250345A (ja) * 1984-05-28 1985-12-11 Toshiba Corp 半導体装置のレ−ザマ−キング用マスク
US20070178387A1 (en) * 2004-03-09 2007-08-02 Hoya Corporation Mask fabrication supporting method, mask blank providing method, and mask blank dealing system
US20070195634A1 (en) * 2006-02-14 2007-08-23 Jong Woo Lee Flat panel display device and fabrication apparatus thereof and fabrication method thereof

Cited By (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110581158B (zh) * 2013-07-23 2023-05-23 三星显示有限公司 有机发光显示设备及其制造方法
CN110581158A (zh) * 2013-07-23 2019-12-17 三星显示有限公司 有机发光显示设备及其制造方法
CN106163726A (zh) * 2014-03-31 2016-11-23 三菱重工业株式会社 加工装置和加工方法
CN106163726B (zh) * 2014-03-31 2019-10-11 三菱重工业株式会社 加工装置和加工方法
CN105226204A (zh) * 2014-05-30 2016-01-06 上海微电子装备有限公司 一种激光封装设备及封装方法
WO2016015514A1 (zh) * 2014-07-29 2016-02-04 上海微电子装备有限公司 激光密封玻璃封装体封装系统和封装方法
CN105336876A (zh) * 2014-07-29 2016-02-17 上海微电子装备有限公司 激光密封玻璃封装体封装系统和封装方法
CN105336876B (zh) * 2014-07-29 2017-08-29 上海微电子装备（集团）股份有限公司 激光密封玻璃封装体封装系统和封装方法
WO2016101514A1 (zh) * 2014-12-25 2016-06-30 京东方科技集团股份有限公司 激光切割方法、显示基板和显示装置
US10632569B2 (en) 2014-12-25 2020-04-28 Boe Technology Group Co., Ltd. Laser cutting method, display substrate and display device
US10678098B2 (en) 2015-04-15 2020-06-09 Samsung Display Co., Ltd. Impact resistant display apparatus
US11067856B2 (en) 2015-04-15 2021-07-20 Samsung Display Co., Ltd. Method of manufacturing impact resistant display apparatus
US10520774B2 (en) 2015-11-26 2019-12-31 Samsung Display Co., Ltd. Display apparatus and method of manufacturing the same
CN113363402A (zh) * 2015-11-26 2021-09-07 三星显示有限公司 显示装置
US11199746B2 (en) 2015-11-26 2021-12-14 Samsung Display Co., Ltd. Display apparatus and method of manufacturing the same
CN106803545A (zh) * 2015-11-26 2017-06-06 三星显示有限公司 显示装置及其制造方法
US11675234B2 (en) 2015-11-26 2023-06-13 Samsung Display Co., Ltd. Display apparatus and method of manufacturing the same
CN107135601B (zh) * 2016-02-26 2020-06-09 英飞凌科技股份有限公司 多重基底
CN107135601A (zh) * 2016-02-26 2017-09-05 英飞凌科技股份有限公司 多重基底
CN111902237A (zh) * 2018-01-19 2020-11-06 Ncc纳诺责任有限公司 用于在热脆性基板上固化焊膏的方法
CN111902237B (zh) * 2018-01-19 2022-04-26 Ncc纳诺责任有限公司 用于在热脆性基板上固化焊膏的方法
CN111697164A (zh) * 2019-03-13 2020-09-22 三星显示有限公司 显示设备和制造该显示设备的方法

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