CN101629126A - 一种精密电路保洁剂及其制备方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种精密电路保洁剂,包含以下质量百分比的组成成分:聚乙二醇辛基苯醚1~20%,壬基酚聚氧乙烯醚1~20%,C5H2F10 30~40%,C3HCl2F5 5~10%,硅油1~3%,C2Cl3H3 10~20%。本发明还提供该精密电路保洁剂的制备方法,包括以下步骤:将上述各组分按比例装入密闭容器,在温度为20~30℃,常压下反应1小时。本保洁剂无环境污染,腐蚀性低,物理分解能力强,使用安全可靠,可迅速、彻底清除各种精密设备电路表面及深层的尘土、油污、碳渍、盐分、潮气、金属尘埃及各种带电粒子,有效消除“软性故障”,保证设备的最佳工作状态,降低维护成本。

Description

一种精密电路保洁剂及其制备方法
技术领域
本发明涉及一种保洁剂,具体地说,本发明涉及一种精密电路保洁剂。
背景技术
由于程控交换机、移动通讯设备、微波通讯设备、无线寻呼设备、电脑系统、自动化控制设备、影视设备、广电设备、遥控、遥感、遥测设备、高精密仪器、家用电器等设备在运行过程中,时刻受到污秽及静电的侵害,形成电路(板)漏电,电化学腐蚀,静电放电引起的元器件击穿会造成元器件介质硬击穿、烧毁或永久性失效,软击穿则会造成器件性能劣化或参数指标下降。
电力设备事故的根本原因是由于绝缘子、母排、端子、开关、互感器、刀闸、接触器、继电器、触头等表面沉积了污秽物质,使绝缘性降低,泄露电流增大,造成短路、电弧、散热不良及闪络事故。由于污闪跳闸后的重合成功率很低,绝缘子的污闪容易大面积发展,造成长时间的恶性停电事故,危害极大。
传统的电子电力设备维护技术方法有:
1.事后抢修,即更换硬件;
2.停机工作后采用皮老虎、吹风机吹走表面浮尘,用刷子刷土,或用挥发性、易燃溶剂(如酒精、汽油、四氯化碳)进行擦洗。
但是,使用这些方法对于深层及细小罅隙的灰尘、油污、碳渍等有害物质很难清洗干净,且危害性大,并且受到时间和空间的限制。
与传统方法相比,采用精密电路的带电清洗维护技术,可以迅速、彻底清除各种精密设备电路表面及深层的灰尘、油污、炭渍、盐份、潮气、金属尘埃及各种带电粒子,有效消除“软性故障”,避免造成设备电路短路、电弧、散热不良,影响信号的准确性和稳定性,保证设备最佳工作状态和稳定运行,防止重大恶性事故发生。
但是,现在市场上使用的带电清洗剂通常均偏酸性或碱性,挥发快,其动态绝缘值偏低,易造成闪络。
因此,本发明的目的在于提供一种中性、去污力强、腐蚀性低的精密电路保洁剂。
发明内容
本发明提供一种精密电路保洁剂,包含以下质量百分比的组成成分:聚乙二醇辛基苯醚1~20%,壬基酚聚氧乙烯醚1~20%,C5H2F10 30~40%,C3HCl2F5 5~10%,硅油1~3%,C2Cl3H3 10~20%。
所述聚乙二醇辛基苯醚含量优选1~5%,所述壬基酚聚氧乙烯醚含量优选5~10%。
所述精密电路保洁剂还包括选自以下组分的一种或多种:低级烷烃、具有碳原子数为1~4的烷基取代基的低级烷烃、低级醇类、低级烯烃。
所述低级烷烃包括庚烷0~1%、己烷0~1%、辛烷0~1%。
所述具有碳原子数为1~4的烷基取代基的低级烷烃包括甲基戊烷0~1%、甲基己烷0~1%、二甲基己烷0~1%、甲基庚烷0~1%、甲基环己烷0~1%、乙基戊烷0~1%、二甲基环戊烷0~1%、四甲基丁烷0~1%、甲基乙基己烷0~1%、三甲基戊烷0~1%。
所述低级醇类包括乙醇0~1%。
所述低级烯烃包括乙烯0~1%。
所述精密电路保洁剂的PH值为6.8~7.2。
本发明还提供所述精密电路保洁剂的制备方法,包括以下步骤:将上述各组分按比例装入密闭容器,在温度为20~30℃,常压下反应1小时。
本发明的有益效果为:
本保洁剂无环境污染,腐蚀性低,物理分解能力强,使用安全可靠,可迅速、彻底清除各种精密设备电路表面及深层的尘土、油污、碳渍、盐分、潮气、金属尘埃及各种带电粒子,有效消除“软性故障”,保证设备的最佳工作状态,降低维护成本,已被成功用于洁神JS-168A精密电路保洁剂中。
具体实施方式
以下用实施例对本发明作更详细的描述。这些实施例仅仅是对本发明最佳实施方式的描述,并不对本发明的范围有任何限制。
实施例1:
聚乙二醇辛基苯醚1kg,壬基酚聚氧乙烯醚1kg,C5H2F10 30kg,C3HCl2F5 5kg,硅油1kg,C2Cl3H3 12kg。
将上述原料装入密闭容器,在温度25℃,常压下反应1小时,制得精密电路保洁剂。
实施例2:
聚乙二醇辛基苯醚18kg,壬基酚聚氧乙烯醚18kg,C5H2F10 35kg,C3HCl2F5 9kg,硅油3kg,C2Cl3H3 17kg。
制备方法同实施例1。
实施例3:
聚乙二醇辛基苯醚18kg,壬基酚聚氧乙烯醚18kg,C5H2F10 35kg,C3HCl2F5 9kg,硅油3kg,C2Cl3H3 17kg,甲基戊烷0.5kg,甲基戊烷0.5kg,乙醇0.5kg,乙基戊烷0.5kg、庚烷0.5kg。
制备方法同实施例1。
实施例4:
聚乙二醇辛基苯醚15kg,壬基酚聚氧乙烯醚15kg,C5H2F10 32kg,C3HCl2F5 6kg,硅油2kg,C2Cl3H3 15kg,甲基己烷0.5kg,己烷0.5kg,甲基庚烷1kg,二甲基环戊烷0.5kg,甲基乙基己烷0.5kg,三甲基戊烷1kg。
制备方法同实施例1。
实施例5:
聚乙二醇辛基苯醚12kg,壬基酚聚氧乙烯醚17kg,C5H2F10 36kg,C3HCl2F5 8kg,硅油2.5kg,C2Cl3H3 17kg,二甲基己烷1kg,甲基戊烷0.5kg、乙烯1kg、四甲基丁烷0.5kg,辛烷1kg。
制备方法同实施例1。
本保洁剂无环境污染,腐蚀性低,物理分解能力强,使用安全可靠,可迅速、彻底清除各种精密设备电路表面及深层的尘土、油污、碳渍、盐分、潮气、金属尘埃及各种带电粒子,有效消除“软性故障”,保证设备的最佳工作状态,降低维护成本,已被成功用于洁神JS-168A精密电路保洁剂中。

Claims (9)

1、一种精密电路保洁剂,其特征在于,包含以下质量百分比的组成成分:聚乙二醇辛基苯醚1~20%,壬基酚聚氧乙烯醚1~20%,C5H2F10 30~40%,C3HCl2F5 5~10%,硅油1~3%,C2Cl3H3 10~20%。
2、如权利要求1所述的精密电路保洁剂,其特征在于,所述聚乙二醇辛基苯醚含量为1~5%,所述壬基酚聚氧乙烯醚含量为5~10%。
3、如权利要求1所述的精密电路保洁剂,其特征在于,还包括选自以下组分的一种或多种:低级烷烃、具有碳原子数为1~4的烷基取代基的低级烷烃、低级醇类、低级烯烃。
4、如权利要求1所述的精密电路保洁剂,其特征在于,所述低级烷烃包括庚烷0~1%、己烷0~1%、辛烷0~1%。
5、如权利要求1所述的精密电路保洁剂,其特征在于,所述具有碳原子数为1~4的烷基取代基的低级烷烃包括甲基戊烷0~1%、甲基己烷0~1%、二甲基己烷0~1%、甲基庚烷0~1%、甲基环己烷0~1%、乙基戊烷0~1%、二甲基环戊烷0~1%、四甲基丁烷0~1%、甲基乙基己烷0~1%、三甲基戊烷0~1%。
6、如权利要求1所述的精密电路保洁剂,其特征在于,所述低级醇类包括乙醇0~1%。
7、如权利要求1所述的精密电路保洁剂,其特征在于,所述低级烯烃包括乙烯0~1%。
8、如权利要求1所述的精密电路保洁剂,其特征在于,所述保洁剂的PH值为6.8~7.2。
9、权利要求1所述精密电路保洁剂的制备方法,该保洁剂包含以下质量百分比的组成成分:聚丙烯酸钠1~20%,乙氧基化烷基硫酸钠1~20%,C5H2F10 30~40%,C3HCl2F55~10%,硅油1~3%,C2Cl3H3 10~20%,所述制备方法包括以下步骤:将上述各组分按比例装入密闭容器,在温度为20~30℃,常压下反应1小时,调节PH值为6.8~7.2。
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Date Code Title Description
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PB01 Publication
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EE01 Entry into force of recordation of patent licensing contract

Assignee: Shanghai Shenjie Environmental Protection Technology Development Co., Ltd.

Assignor: Zhang Siping

Contract record no.: 2010310000225

Denomination of invention: Precision circuit cleaning agent and preparation method thereof

License type: Exclusive License

Open date: 20100120

Record date: 20101220

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GR01 Patent grant
C41 Transfer of patent application or patent right or utility model
TR01 Transfer of patent right

Effective date of registration: 20160511

Address after: 201400 room 3, No. 2165, Lane 218, hope road, Shanghai, Fengxian District

Patentee after: SHANGHAI SHENJIE ENVIRONMENTAL PROTECTION TECHNOLOGY CO., LTD.

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Patentee before: Zhang Siping