CN101629128B - 一种高压二次电路保洁剂及其制备方法 - Google Patents
一种高压二次电路保洁剂及其制备方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN101629128B CN101629128B CN2008100436443A CN200810043644A CN101629128B CN 101629128 B CN101629128 B CN 101629128B CN 2008100436443 A CN2008100436443 A CN 2008100436443A CN 200810043644 A CN200810043644 A CN 200810043644A CN 101629128 B CN101629128 B CN 101629128B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- cleaning agent
- percent
- voltage circuit
- secondary high
- paraffin hydrocarbons
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000012459 cleaning agent Substances 0.000 title claims abstract description 22
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title description 7
- -1 polyoxyethylene Polymers 0.000 claims description 19
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- JVSWJIKNEAIKJW-UHFFFAOYSA-N 2-Methylheptane Chemical compound CCCCCC(C)C JVSWJIKNEAIKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- RNMDNPCBIKJCQP-UHFFFAOYSA-N 5-nonyl-7-oxabicyclo[4.1.0]hepta-1,3,5-trien-2-ol Chemical compound C(CCCCCCCC)C1=C2C(=C(C=C1)O)O2 RNMDNPCBIKJCQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 claims description 9
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol Natural products OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 8
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 claims description 8
- 239000012188 paraffin wax Substances 0.000 claims description 8
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 7
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 229920002545 silicone oil Polymers 0.000 claims description 7
- QWHNJUXXYKPLQM-UHFFFAOYSA-N dimethyl cyclopentane Natural products CC1(C)CCCC1 QWHNJUXXYKPLQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- AFABGHUZZDYHJO-UHFFFAOYSA-N 2-Methylpentane Chemical group CCCC(C)C AFABGHUZZDYHJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 claims description 4
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 claims description 4
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 4
- UAEPNZWRGJTJPN-UHFFFAOYSA-N methylcyclohexane Chemical compound CC1CCCCC1 UAEPNZWRGJTJPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- SEEOMASXHIJCDV-UHFFFAOYSA-N 3-methyloctane Chemical compound CCCCCC(C)CC SEEOMASXHIJCDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- NHTMVDHEPJAVLT-UHFFFAOYSA-N Isooctane Chemical compound CC(C)CC(C)(C)C NHTMVDHEPJAVLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- FLTJDUOFAQWHDF-UHFFFAOYSA-N trimethyl pentane Natural products CCCCC(C)(C)C FLTJDUOFAQWHDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- GYNNXHKOJHMOHS-UHFFFAOYSA-N methyl-cycloheptane Natural products CC1CCCCCC1 GYNNXHKOJHMOHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000000428 dust Substances 0.000 abstract description 6
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 abstract description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 5
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical group [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 abstract description 4
- 239000002245 particle Substances 0.000 abstract description 4
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 abstract description 3
- CYNYIHKIEHGYOZ-UHFFFAOYSA-N 1-bromopropane Chemical compound CCCBr CYNYIHKIEHGYOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- IGFHQQFPSIBGKE-UHFFFAOYSA-N Nonylphenol Natural products CCCCCCCCCC1=CC=C(O)C=C1 IGFHQQFPSIBGKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 abstract 1
- SNQQPOLDUKLAAF-UHFFFAOYSA-N nonylphenol Chemical compound CCCCCCCCCC1=CC=CC=C1O SNQQPOLDUKLAAF-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- ZPIRTVJRHUMMOI-UHFFFAOYSA-N octoxybenzene Chemical compound CCCCCCCCOC1=CC=CC=C1 ZPIRTVJRHUMMOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 abstract 1
- 229940051841 polyoxyethylene ether Drugs 0.000 abstract 1
- 229920000056 polyoxyethylene ether Polymers 0.000 abstract 1
- 238000010410 dusting Methods 0.000 description 3
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 238000010891 electric arc Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 238000003912 environmental pollution Methods 0.000 description 2
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 2
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 239000003610 charcoal Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000007667 floating Methods 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000010295 mobile communication Methods 0.000 description 1
- 230000000505 pernicious effect Effects 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000002689 soil Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Detergent Compositions (AREA)
Abstract
本发明提供一种高压二次电路保洁剂，包含以下质量百分比的组成成分：聚乙二醇辛基苯醚1～20％，壬基酚聚氧乙烯醚1～20％，正溴丙烷1～3％，C2Cl3H3 10～20％，C3HCl2F5 5～60％。本发明还提供该高压二次电路保洁剂的制备方法，包括以下步骤：将上述各组分按比例装入密闭容器，在温度为20～30℃，常压下反应1小时。本保洁剂无环境污染，腐蚀性低，物理分解能力强，使用安全可靠，可迅速、彻底清除各种精密设备电路表面及深层的尘土、油污、碳渍、盐分、潮气、金属尘埃及各种带电粒子，有效消除“软性故障”，保证设备的最佳工作状态，降低维护成本。
Description
技术领域
本发明涉及一种保洁剂，具体地说，本发明涉及一种高压二次电路保洁剂。
背景技术
由于程控交换机、移动通讯设备、微波通讯设备、无线寻呼设备、电脑系统、自动化控制设备、影视设备、广电设备、遥控、遥感、遥测设备、高精密仪器、家用电器等设备在运行过程中，时刻受到污秽及静电的侵害，形成电路(板)漏电，电化学腐蚀，静电放电引起的元器件击穿会造成元器件介质硬击穿、烧毁或永久性失效，软击穿则会造成器件性能劣化或参数指标下降。
电力设备事故的根本原因是由于绝缘子、母排、端子、开关、互感器、刀闸、接触器、继电器、触头等表面沉积了污秽物质，使绝缘性降低，泄露电流增大，造成短路、电弧、散热不良及闪络事故。由于污闪跳闸后的重合成功率很低，绝缘子的污闪容易大面积发展，造成长时间的恶性停电事故，危害极大。
传统的电子电力设备维护技术方法有：
1、事后抢修，即更换硬件；
2、停机工作后采用皮老虎、吹风机吹走表面浮尘，用刷子刷土，或用挥发性、易燃溶剂(如酒精、汽油、四氯化碳)进行擦洗。
但是，使用这些方法对于深层及细小罅隙的灰尘、油污、碳渍等有害物质很难清洗干净，且危害性大，并且受到时间和空间的限制。
与传统方法相比，采用精密电路的带电清洗维护技术，可以迅速、彻底清除各种精密设备电路表面及深层的灰尘、油污、炭渍、盐份、潮气、金属尘埃及各种带电粒子，有效消除“软性故障”，避免造成设备电路短路、电弧、散热不良，影响信号的准确性和稳定性，保证设备最佳工作状态和稳定运行，防止重大恶性事故发生。
但是，现在市场上使用的带电清洗剂通常均偏酸性或碱性，挥发快，其动态绝缘值偏低，易造成闪络。
因此，本发明的目的在于提供一种中性、去污力强、腐蚀性低的高压二次电路保洁剂。
发明内容
本发明提供一种高压二次电路保洁剂，包含以下质量百分比的组成成分：聚乙二醇辛基苯醚1～20％，壬基酚聚氧乙烯醚1～20％，CFCl2CH3 10～20％，正溴丙烷1～3％，C4F9OCH3 20～40％，硅油0.5～2％。
所述聚乙二醇辛基苯醚含量优选1～5％，所述壬基酚聚氧乙烯醚含量优选5～10％。
所述保洁剂还包括选自以下组分的一种或多种：低级烷烃、具有碳原子数为1～4的烷基取代基的低级烷烃、低级醇类、低级烯烃。
所述低级烷烃包括庚烷0～1％、己烷0～1％、辛烷0～1％。
所述具有碳原子数为1～4的烷基取代基的低级烷烃包括甲基戊烷0～1％、甲基己烷0～1％、二甲基己烷0～1％、甲基庚烷0～1％、甲基环己烷0～1％、乙基戊烷0～1％、二甲基环戊烷0～1％、四甲基丁烷0～1％、甲基乙基己烷0～1％、三甲基戊烷0～1％。
所述低级醇类包括乙醇0～1％。
所述低级烯烃包括乙烯0～1％。
所述保洁剂的PH值为6.8～7.2。
本发明还提供所述高压二次电路保洁剂的制备方法，包括以下步骤：将上述各组分按比例装入密闭容器，在温度为20～30℃，常压下反应1小时。
本发明的有益效果为：
本保洁剂无环境污染，腐蚀性低，物理分解能力强，使用安全可靠，可迅速、彻底清除各种精密设备电路表面及深层的尘土、油污、碳渍、盐分、潮气、金属尘埃及各种带电粒子，有效消除“软性故障”，保证设备的最佳工作状态，降低维护成本，已被成功用于洁神JS-169B高压电路二次设备保洁剂中。
具体实施方式
以下用实施例对本发明作更详细的描述。这些实施例仅仅是对本发明最佳实施方式的描述，并不对本发明的范围有任何限制。
实施例1：
聚乙二醇辛基苯醚1kg，壬基酚聚氧乙烯醚1kg，CFCl2CH3 10kg，正溴丙烷1kg，C4F9OCH3 20kg，硅油0.5kg。
将上述原料装入密闭容器，在温度25℃，常压下反应1小时，制得精密电路保洁剂。
实施例2：
聚乙二醇辛基苯醚20kg，壬基酚聚氧乙烯醚20kg，CFCl2CH3 20kg，正溴丙烷3kg，C4F9OCH3 40kg，硅油2kg。
制备方法同实施例1。
实施例3：
聚乙二醇辛基苯醚18kg，壬基酚聚氧乙烯醚18kg，CFCl2CH3 15kg，正溴丙烷2kg，C4F9OCH3 30kg，硅油1kg，甲基戊烷0.5kg，甲基戊烷0.5kg，乙醇0.5kg，乙基戊烷0.5kg、庚烷0.5kg。
制备方法同实施例1。
实施例4：
聚乙二醇辛基苯醚15kg，壬基酚聚氧乙烯醚15kg，CFCl2CH3 18kg，正溴丙烷2kg，C4F9OCH3 35kg，硅油1.5kg，甲基己烷0.5kg，己烷0.5kg，甲基庚烷1kg，二甲基环戊烷0.5kg，甲基乙基己烷0.5kg，三甲基戊烷1kg。
制备方法同实施例1。
实施例5：
聚乙二醇辛基苯醚12kg，壬基酚聚氧乙烯醚17kg，CFCl2CH3 12kg，正溴丙烷3kg，C4F9OCH3 16kg，硅油2kg，二甲基己烷1kg，甲基戊烷0.5kg、乙烯1kg、四甲基丁烷0.5kg，辛烷1kg。
制备方法同实施例1。
本保洁剂无环境污染，腐蚀性低，物理分解能力强，使用安全可靠，可迅速、彻底清除各种精密设备电路表面及深层的尘土、油污、碳渍、盐分、潮气、金属尘埃及各种带电粒子，有效消除“软性故障”，保证设备的最佳工作状态，降低维护成本，已被成功用于洁神JS-169B高压电路二次设备保洁剂中。
Claims (3)
1.一种保洁剂，其特征在于，按以下质量百分比的组成成分为：聚乙二醇辛基苯醚1～20％，壬基酚聚氧乙烯醚1～20％，CFCl2CH3 10～20％，正溴丙烷1～3％，C4F9OCH320～40％，硅油0.5～2％；
选自以下组分的一种或多种：低级烷烃、具有碳原子数为1～4的烷基取代基的低级烷烃、低级醇类、低级烯烃；
所述低级烷烃为庚烷0～1％、己烷0～1％、辛烷0～1％；
所述具有碳原子数为1～4的烷基取代基的低级烷烃为甲基戊烷0～1％、甲基己烷0～1％、二甲基己烷0～1％、甲基庚烷0～1％、甲基环己烷0～1％、乙基戊烷0～1％、二甲基环戊烷0～1％、四甲基丁烷0～1％、甲基乙基己烷0～1％、三甲基戊烷0～1％；
所述低级醇类为乙醇0～1％；
所述低级烯烃为乙烯0～1％。
2.如权利要求1所述的保洁剂，其特征在于，所述聚乙二醇辛基苯醚含量为1～5％，所述壬基酚聚氧乙烯醚含量为5～10％。
3.如权利要求1所述的保洁剂，其特征在于，所述保洁剂的pH值为6.8～7.2。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN2008100436443A CN101629128B (zh) | 2008-07-18 | 2008-07-18 | 一种高压二次电路保洁剂及其制备方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN2008100436443A CN101629128B (zh) | 2008-07-18 | 2008-07-18 | 一种高压二次电路保洁剂及其制备方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN101629128A CN101629128A (zh) | 2010-01-20 |
| CN101629128B true CN101629128B (zh) | 2011-08-17 |
Family
ID=41574409
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN2008100436443A Active CN101629128B (zh) | 2008-07-18 | 2008-07-18 | 一种高压二次电路保洁剂及其制备方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN101629128B (zh) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105419962A (zh) * | 2015-12-12 | 2016-03-23 | 昆明理工大电力工程技术有限公司 | 一种高压防污闪清洗剂 |
| CN113004987A (zh) * | 2021-02-05 | 2021-06-22 | 广东莱雅新化工科技有限公司 | 一种不燃环保型清洗剂及其制备方法和应用 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0473538A1 (de) * | 1990-08-30 | 1992-03-04 | Kali-Chemie Aktiengesellschaft | Fluorchlorkohlenwasserstoff-freie Reinigungszusammensetzungen |
| CN1417314A (zh) * | 2001-11-02 | 2003-05-14 | 广州南沙经济技术开发区高奇环保技术有限公司 | 精密电子设备带电清洁剂 |
| CN1884465A (zh) * | 2006-06-01 | 2006-12-27 | 深圳华晟科技有限公司 | 精密电子仪器在线清洗剂及其生产方法 |
-
2008
- 2008-07-18 CN CN2008100436443A patent/CN101629128B/zh active Active
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0473538A1 (de) * | 1990-08-30 | 1992-03-04 | Kali-Chemie Aktiengesellschaft | Fluorchlorkohlenwasserstoff-freie Reinigungszusammensetzungen |
| CN1417314A (zh) * | 2001-11-02 | 2003-05-14 | 广州南沙经济技术开发区高奇环保技术有限公司 | 精密电子设备带电清洁剂 |
| CN1884465A (zh) * | 2006-06-01 | 2006-12-27 | 深圳华晟科技有限公司 | 精密电子仪器在线清洗剂及其生产方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN101629128A (zh) | 2010-01-20 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN101629129B (zh) | 一种绝缘子专用清洁剂及其制备方法 | |
| CN102559410B (zh) | 一种高压绝缘子带电清洗剂 | |
| KR101996233B1 (ko) | 유전성 절연 매질 | |
| CA2976018C (en) | Gas-insulated medium- or high-voltage electrical apparatus including heptafluoroisobutyronitrile and tetrafluoromethane | |
| CN102580937B (zh) | 二次设备带电清洗的方法 | |
| CN106635510B (zh) | 一种环保型电力设备带电清洗剂及其制备方法 | |
| CN101629127B (zh) | 一种高压一次电路保洁剂及其制备方法 | |
| CN101629126B (zh) | 一种精密电路保洁剂及其制备方法 | |
| CN110358640B (zh) | 一种高铁绝缘子清洗防护剂 | |
| CN1884465B (zh) | 精密电子仪器在线清洗剂及其生产方法 | |
| CN101629128B (zh) | 一种高压二次电路保洁剂及其制备方法 | |
| CN201776251U (zh) | 用于带电清洗的激光清洗机 | |
| CN104377683A (zh) | 单相间歇性弧光接地过电压保护装置及保护方法 | |
| Naidu | Gas insulated substations | |
| Widger | Investigation into CF3I-CO2 gas mixtures for insulation of gas-insulated distribution equipment | |
| KR101877379B1 (ko) | 전력이 공급중인 전기 및 전자통신장비에 화재발생의 위험 없이 사용 가능한 세정제 조성물 및 이를 이용한 세정 장치 | |
| CN111004686A (zh) | 一种清洗剂 | |
| JP2018513855A (ja) | 電気活性部品を誘電的に絶縁するための化合物 | |
| CN102513284A (zh) | 一种绝缘子防污闪涂料的涂布方法 | |
| KR101610119B1 (ko) | 절연세정제 조성물을 이용한 전기 또는 통신수용설비의 세척방법 | |
| KR101956513B1 (ko) | 무정전 통전기기용 절연세척제 조성물 | |
| Menju et al. | Dielectric breakdown of high pressure SF6 in sphere and coaxial cylinder gaps | |
| CN100410358C (zh) | 一种用于电力电器设备的绝缘保护剂及其制造方法 | |
| CN108713230B (zh) | 用于使电作用零件介电绝缘的方法 | |
| EP3384508B1 (en) | Methods for dielectrically insulating electrical active parts |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| EE01 | Entry into force of recordation of patent licensing contract |
Assignee: Shanghai Shenjie Environmental Protection Technology Development Co., Ltd. Assignor: Zhang Siping Contract record no.: 2010310000224 Denomination of invention: Secondary high-voltage circuit cleaning agent and preparation method thereof License type: Exclusive License Open date: 20100120 Record date: 20101220 |
|
| C14 | Grant of patent or utility model | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| C41 | Transfer of patent application or patent right or utility model | ||
| TR01 | Transfer of patent right |
Effective date of registration: 20151230 Address after: 201400 room 3, No. 2165, Lane 218, hope road, Shanghai, Fengxian District Patentee after: SHANGHAI SHENJIE ENVIRONMENTAL PROTECTION TECHNOLOGY CO., LTD. Address before: 200030, room 2, No. 149, Lane 702, Dongan Road, Shanghai, Xuhui District Patentee before: Zhang Siping |