CN101546617A - 带电粒子线照射装置 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种能够用摆动法和扫描法这两种方法照射带电粒子线的带电粒子线照射装置。带电粒子线照射装置(1)具有用来将带电粒子线(R)扫描的扫描电磁铁(3a/3b)、用摆动法照射带电粒子线(R)的摆动照射机构(5)、用扫描法照射带电粒子线(R)的扫描照射机构(6)、控制摆动照射机构(5)和扫描照射机构(6)的控制装置(7)。带电粒子线照射装置(1)利用控制装置(7)使摆动照射机构(5)或扫描照射机构(6)中的某一个动作，同时使另一个成为退避状态以便不妨碍带电粒子线(R)的照射。由此，能够一方不影响另一方地分别实现摆动法照射和扫描法照射。

Description

带电粒子线照射装置
技术领域
本发明涉及将带电粒子线照射到被照射物上的带电粒子线照射装置。
背景技术
作为现有技术的带电粒子线照射装置，我们知道具有用于扫描带电粒子线的扫描电磁铁和用摆动法照射带电粒子线的摆动照射机构的装置(参照例如专利文献1)。这种用摆动法进行照射带电粒子线的照射装置用扫描电磁铁沿圆形轨迹扫描带电粒子线并使带电粒子线扩散，沿被照射物的形状整形扩散后的带电粒子线并进行照射。
并且，作为现有技术的带电粒子线照射装置，我们知道具有用于扫描带电粒子线的扫描电磁铁和用扫描法照射带电粒子线的扫描照射机构的装置(参照例如专利文献2)。这种用扫描法进行照射带电粒子线的照射装置用扫描电磁铁将带电粒子线在被照射物上扫描并进行照射。
上述各种带电粒子线照射装置为在功能上分别为独立的装置，只能用摆动法照射或扫描法照射中的一个。因此，上述带电粒子装置存在照射自由度低这样的问题。
[专利文献1]日本特开平11-28252号公报
[专利文献2]日本特开2006-34701号公报
发明内容
因此，本发明的目的就是要提供一种能够用摆动法和扫描法这两种方法照射带电粒子线的带电粒子线照射装置。
为了解决上述问题，本发明的带电粒子线照射装置，将带电粒子线照射到被照射物上，其特征在于，具有：将带电粒子线扫描的扫描电磁铁；用摆动法照射带电粒子线的摆动照射机构；用扫描法照射带电粒子线的扫描照射机构；以及控制摆动照射机构和扫描照射机构的控制机构；控制机构使摆动照射机构或扫描照射机构中的任一个动作，并且使任意另一个成为退避状态以便不妨碍带电粒子线的照射。
该带电粒子线照射装置用控制机构使摆动照射机构或扫描照射机构中的任一个动作，同时使任意另一个变成退避状态以便不妨碍带电粒子线的照射。即，例如在用摆动法照射带电粒子线(以下称为“摆动照射”)的情况下，带电粒子线在扫描电磁铁的作用下沿圆形轨迹被扫描、扩散。并且，用控制机构使摆动照射机构动作，例如带电粒子线被沿被照射物的形状整形，同时用控制机构使扫描照射机构变成退避状态。另一方面，用扫描法照射带电粒子线(以下称为“扫描照射”)时，带电粒子线在扫描电磁铁的作用下被扫描在被照射物上。此时，用控制机构使扫描照射机构动作，例如使带电粒子线聚束，同时用控制机构使摆动照射机构变成退避状态。因此，如果采用本发明，能够一方不影响另一方地分别实现用摆动法进行的照射和用扫描法进行的照射，能够用摆动法和扫描法这两种方法照射带电粒子线。
并且，最好是具有安装摆动照射机构和扫描照射机构的框体；摆动照射机构具有沿被照射物的形状整形带电粒子线的带电粒子线整形组件；扫描照射机构具有调整带电粒子线的到达深度的到达深度调整组件；带电粒子线整形组件和到达深度调整组件能够互相替换地安装到框体上。此时，在照射带电粒子线时，通过互相替换安装带电粒子线整形组件和到达深度调整组件，能够实现摆动照射和扫描照射这两种照射。而且，由于带电粒子线整形组件和到达深度调整组件能够互相替换安装，因此不用一直将它们安装到带电粒子线照射装置上，能够使带电粒子线照射装置小型化。
此时，最好具有当带电粒子线整形组件被安装到框体上时变成打开或关闭的第1开关和当到达深度调整组件被安装到框体上时变成打开或关闭的第2开关中的至少一个；控制机构根据第1和第2开关的状态控制扫描电磁铁。此时，能够用第1和第2开关识别安装到框体上的组件，能够防止互相切换摆动照射和扫描照射时的误操作和误动作(所谓“联锁”)。
并且，最好是摆动照射机构具有形成了形状可以改变的开口部、使带电粒子线通过该开口部来整形带电粒子线的平面形状的准直器；控制机构在使扫描照射机构动作时使准直器向照射方向的上游侧移动，并且使准直器的开口部扩大。由此，扫描照射时能够确保较宽的照射域，能够使准直器较佳地变成退避状态。
并且，最好是摆动照射机构具有调整带电粒子线的照射剂量分布的过滤器；在过滤器上形成有使带电粒子线原样通过的通过部；控制机构在使扫描照射机构动作时使过滤器移动，以便带电粒子线通过通过部。此时，在扫描照射时通过移动过滤器使带电粒子线通过通过部，能够使过滤器变成退避状态。
并且，摆动照射机构具有配置在扫描电磁铁的下游一侧、使带电粒子线扩散的散射体；带电粒子线通过的路径中比散射体靠上游的一侧被密封成真空。扫描照射中由于使带电粒子线聚束来进行照射，因此希望将带电粒子线的路径密封成真空。这是因为如果使带电粒子线的路径为真空的话，则能够抑制带电粒子线扩散的缘故。此外，摆动照射由于使带电粒子线扩散来进行照射，因此如上所述摆动照射机构有时具有散射体。在此，由于该散射体的大小(厚度)等结构上的原因通常难以配置在真空中，因此一般配置在大气环境下。因此，本发明在扫描电磁铁的下游一侧配置散射体，将比该散射体靠上游一侧的带电粒子线的路径密封成真空。由此，在摆动照射时能够用散射体使带电粒子线扩散，并且在扫描照射时能够抑制带电粒子线的扩散。
发明的效果：如果采用本发明，能够用摆动法和扫描法这两种方法照射带电粒子线。
附图说明
图1为本发明一个实施形态的带电粒子线照射装置的透视图。
图2为图1的带电粒子线照射装置摆动照射时的大致结构图。
图3为图1的带电粒子线照射装置扫描照射时的大致结构图。
图4为脊形过滤器的沿图2的IV-IV线的剖面图。
附图标记
1.带电粒子线照射装置；3a、3b.扫描电磁铁；5.摆动(Wobbler)照射机构；6.扫描照射机构；7.控制装置(控制单元)；8.框体；14.被照射物；21.散射体；22.脊形过滤器(过滤器)；22c.空白部(通过部)；24.MLC(准直器)；24c.开口部；25.猪嘴状(スノ一ト)支架(带电粒子线整形组件)；25a.限位开关(第1开关)；32.定位雷达(ファインデグレ一ダ)支架(到达深度调整组件)；32a.限位开关(第2开关)；R.带电粒子线
具体实施方式
下面参照附图详细地说明本发明的优选实施形态。另外，在以下的说明中，在相同或相当的要素上添加相同的附图标记，并省略重复的说明。
图1为本发明的一个实施形态的带电粒子线照射装置的透视图。如图1所示，带电粒子线照射装置1安装在围绕治疗台11而设置的旋转机架(Gantry)12上，通过该旋转机架12能够围绕治疗台11旋转。
图2为图1的带电粒子线照射装置进行摆动照射时的大致结构图，图3为图1的带电粒子线照射装置进行扫描照射时的大致结构图。如图2、3所示，带电粒子线照射装置1为使用摆动法和扫描法这两种照射方法向患者13体内的肿瘤(被照射体)14照射带电粒子线R的装置。带电粒子线R为将带有电荷的粒子加速到高速的粒子，可以列举例如质子束、重粒子(重离子)束等。另外，摆动法也称为宽束(broad beam)法。
如图2、3所示，带电粒子线照射装置1具有回旋加速器2、扫描电磁铁3a、3b、监控器4a、4b、摆动照射机构5、扫描照射机构6和控制装置7。
回旋加速器2为产生带电粒子线R的产生源。该回旋加速器2与控制装置7连接，供给的电流被控制。扫描电磁铁3a、3b根据控制装置7提供的电流使磁场产生变化，将通过的带电粒子线R扫描。扫描电磁铁3a将带电粒子线R沿X方向扫描，扫描电磁铁3b将带电粒子线R沿Y方向扫描。这些扫描电磁铁3a、3b依次被配置在带电粒子线R的照射轴(以下简称为“照射轴”)上回旋加速器2的下游一侧。
监控器4a监视带电粒子线R的线束位置，监控器4b监视带电粒子线R的照射剂量的绝对值和带电粒子线R的照射剂量的分布。各监控器4a、4b将监视到的监视信息输出给控制装置7。监控器4a配置在照射轴上回旋加速器2的下游一侧、扫描电磁铁3a的上游一侧。监控器4b配置在照射轴上扫描电磁铁3b的下游一侧。
摆动照射机构5为用摆动法照射带电粒子线的单元，安装保持在框体8上。该摆动照射机构5具有散射体21、脊形(ridge)过滤器22、定位雷达(ファインデグレ一ダ)23及多叶准直器24。
散射体21使通过的带电粒子线沿与照射轴正交的方向扩散，扩散成宽幅的粒子束。该散射体21呈板状，用例如数毫米厚的铅形成。散射体21配置在照射轴上扫描电磁铁3b的下游一侧、监控器4b的上游侧。并且，扫描照射时，散射体21在控制装置7的控制下从照射轴离开地移动，变成带电粒子线R不能通过的状态(参照图3)。即，在扫描照射时，散射体21变成不妨碍带电粒子线R照射的状态即退避状态。
脊形过滤器22为调整带电粒子线R的照射剂量分布的器件。具体为，脊形过滤器22赋予带电粒子线R放大的布拉格峰(SOBP)，使之与患者13体内的肿瘤14(照射方向的长度)相对应。
图4为脊形过滤器的沿图2的IV-IV线的剖视图。如图4所示，脊形过滤器22通过在载物台22a上呈矩阵状地设置多个过滤单元22b而构成。这些过滤单元22b通过将厚度呈阶梯状变化的金属棒排列成帘子状构成，用不同形状的金属棒形成不同的SOBP。在该载物台22a上设置有不给带电粒子线R赋予SOBP让带电粒子线R原样通过的开口即空白部(通过部)22c。并且，脊形过滤器22在控制装置7的控制下移动，选择性地改变让带电粒子线R通过的过滤单元22b。由此能够调整带电粒子线R中的SOBP的峰值宽度和位置。
下面回到图2、3，该脊形过滤器22配置在照射轴上散射体21的下游一侧、监控器4b的上游一侧。并且，在扫描照射时，脊形过滤器22在控制装置7的控制下移动，将带电粒子线R通过空白部(通过部)22c地配置(参照图3)。即，脊形过滤器22在扫描照射时处于退避状态。
定位雷达23改变通过的带电粒子线R的能量损失，调整带电粒子线R到达患者13体内的深度。具体为，定位雷达23具有多个彼此层叠的块体23a，通过调节它们的重叠方式改变带电粒子线R通过的厚度。由此，带电粒子线R损失与通过的块体23a的厚度相对应的能量，改变到达的深度。
该定位雷达23配置在照射轴上脊形过滤器22与监控器4b之间。并且，在扫描照射时，定位雷达23在控制装置7的控制下使各块体23a离开照射轴地移动，变成带电粒子线R不通过块体23a的状态(参照图3)。即，定位雷达23在扫描照射时处于退避状态。
多叶准直器(Multi Leaf Collimator，以下称为“MLC”)24为整形带电粒子线R在与照射方向垂直的平面方向上的形状(平面形状)的器件，具有包括多个梳齿的射线阻挡部24a、24b。射线阻挡部24a、24b互相对接地配置，在这些射线阻挡部24a、24b之间形成开口部24c。该MLC24使带电粒子线R通过开口部24c，通过这样将带电粒子线R切取成与开口部24c的形状相对应的轮廓。
并且，MLC24通过使射线阻挡部24a、24b沿与照射轴正交的方向进退而使开口部24c的位置和形状能够改变。而且，MLC24能够在由线性引导装置28沿照射方向的引导下沿照射方向移动。
该MLC24配置在照射轴上监控器4b的下游一侧。并且，在扫描照射时，MLC24在控制装置7的控制下使开口部24c扩大并且向照射方向的上游一侧移动(参照图3)。这里的MLC24在扫描照射时使开口部24c扩大到最大开口面积，并且移动到上游一侧的极限移动位置。即，MLC24在扫描照射时处于退避状态。
并且，摆动照射机构5还具有猪嘴状(snout)支架(带电粒子线整形组件)25。猪嘴状支架25为摆动照射时为每个患者13预先制作准备的器件。该猪嘴状支架25能够装卸地安装在照射方向上框体8的顶端8a，并且能够与后述的定位雷达支架32互相替换。猪嘴状支架25的内部包含填塞物(bolus)26和患者准直器27。
填塞物26配合肿瘤14最大深度部分的形状将带电粒子线R的最大到达深度部分的立体形状整形。该填塞物26的形状根据例如肿瘤14的轮廓线和由X射线CT数据求出的周边组织的电子密度而算出。填塞物26配置在照射轴上MLC24的下游一侧。患者准直器27为配合肿瘤14的平面形状最终整形带电粒子线R的平面形状的器件。该患者准直器27配置在照射轴上填塞物26的下游一侧，用于替代MLC24。
并且，猪嘴状支架25上设置有限位开关25a。当猪嘴状支架25被安装到框体8上时，限位开关25a通过进入框体8的安装孔8b中变成ON(打开)。并且，限位开关25a连接在控制装置7上，将开关信息输出给控制装置7。
扫描照射机构6为用来以扫描法照射带电粒子线的单元，与摆动照射机构5一样安装保持在框体8上。该扫描照射机构6具有聚束体31a、31b及定位雷达支架(到达深度调整组件)32。
聚束体31a、31b为收敛、聚束例如带电粒子线R的部件，这里使用电磁铁。聚束体31a配置在照射轴上回旋加速器2与监控器4a之间，聚束体31b配置在照射轴上监控器4a与扫描电磁铁3a之间。并且，在摆动照射时，这些聚束体31a、31b受控制装置7的控制不被提供电流而功能停止，将带电粒子线R不被聚束就让它通过。即，聚束体31a、31b在摆动照射时处于避退状态。
定位雷达支架32能够装卸地安装在照射方向上框体8的顶端8a。并且，与上述猪嘴状支架25可以互相替换。该定位雷达支架32的内部包含定位雷达33。
定位雷达33改变通过的带电粒子线R的能量损失，最终调整带电粒子线R到达患者13体内的最大深度。具体为，定位雷达33具有多个以预定的重叠方式互相层叠的块体33a，使带电粒子线R的能量与所通过的块体33a的厚度相对应损失，使带电粒子线R的最大到达深度与肿瘤14的最大深度部分的形状一致。另外，也还有使能量损失在回旋加速器2与聚束体31a的中间改变的方法，此时，不需要定位雷达33。
在该定位雷达支架32上设置有限位开关32a。当定位雷达支架32被安装到框体8上时，限位开关32a通过进入框体8的安装孔8b内变成ON(打开)。并且，限位开关32a连接在控制装置7上，将开关信息输出给控制装置7。
控制装置7由例如CPU、ROM及RAM等构成。该控制装置7根据监控器4a、4b输出的监视信息和限位开关25a、32a输出的开关信息来控制回旋加速器2、扫描电磁铁3a、3b、摆动照射机构5及扫描照射机构6(详细过程后面叙述)。
并且，带电粒子线照射装置1用管41覆盖、密封带电粒子线R通过路径中的比散射体21靠上游的一侧，该管41内为真空。这里用真空泵(未图示)将管41内真空吸引至例如10-3[Pa]。
下面说明用带电粒子线照射装置1对患者13的肿瘤14照射带电粒子线R时的情况。
在带电粒子线照射装置1进行摆动照射的情况下，如图2所示，首先将猪嘴状支架25安装到框体8的顶端8a上。并且利用控制装置7使摆动照射机构5动作。具体为，移动散射体21以便让带电粒子线R通过，移动脊形过滤器22以便让带电粒子线R通过过滤单元22b。而且，调节定位雷达23的块体23a使其厚度为预定厚度，使MLC24的射线阻挡部24a、24b进退，让开口部24c成预定的形状。与此同时，用控制装置7使聚束体31a、31b成退避状态。
接着，从回旋加速器2中产生带电粒子线R。产生的带电粒子线R在扫描电磁铁3a、3b的作用下沿圆形轨迹被扫描、扩散后，用脊形过滤器22、定位雷达23、MLC24、填塞物26和患者准直器27被整形及调整。由此，带电粒子线R具有沿肿瘤14的形状一样的照射域，被照射到肿瘤14上。
这里，将猪嘴状支架25安装到框体8上时使限位开关25a变成ON，由控制装置7判断扫描照射机构6是否出于退避状态。当判定为是退避状态时，给扫描电磁铁3a、3b提供例如具有正弦波形的电流，像上述那样从回旋加速器2产生带电粒子线R；另一方面，当判定为不是退避状态时，不给扫描电磁铁3a、3b提供电流。
而且，当限位开关25a变成ON时，由控制装置7控制扫描电磁铁3a、3b。具体为，使提供给扫描电磁铁3a、3b的电流为摆动照射模式，像上述那样带电粒子线R沿圆形轨迹地扫描。
并且，在带电粒子线照射装置1进行扫描照射的情况下，如图3所示，首先将定位雷达支架32安装到框体8的顶端8a上。并且，用控制装置7使摆动照射机构5动作。具体为，将聚束体31a、31b变成动作状态(ON)，使通过的带电粒子线R聚束。与此同时，用控制装置7使摆动照射机构5变成退避状态。另外，如上所述，使能量损失在回旋加速器2与聚束体31a中间变化的方法中不需要安装定位雷达支架32。
接着，从回旋加速器2产生带电粒子线R。产生的带电粒子线R在扫描电磁铁3a、3b的作用下被扫描在肿瘤14上，并且通过脊形过滤器22的空白部22c，用定位雷达33调整带电粒子线R的最大到达深度。由此，带电粒子线R被扫描并照射在肿瘤14上。
这里，将定位雷达支架32安装到框体8上时将限位开关32a变成ON，由控制装置7判断摆动照射机构5是否出于退避状态。当判定为是退避状态时，给扫描电磁铁3a、3b提供例如具有矩形波或三角形波的波形的电流，像上述那样从回旋加速器2产生带电粒子线R。另一方面，当判定为不是退避状态时，不给扫描电磁铁3a、3b提供电流。
而且，当限位开关32a为ON时，由控制装置7控制扫描电磁铁3a、3b。具体为，使提供给扫描电磁铁3a、3b的电流为扫描照射模式，像上述那样带电粒子线R被扫描在肿瘤14上。
本实施形态的带电粒子线照射装置1在照射带电粒子线R时使摆动照射机构5或扫描照射机构6中的某一个动作，同时将另一个变成退避状态以不妨碍带电粒子线R的照射。因此，如果采用带电粒子线照射装置1，能够一方不影响另一方地分别实现摆动照射和扫描照射，能够用摆动法和扫描法这两种方法照射带电粒子线R。结果，能够提高带电粒子线照射装置1照射的自由度。而且，摆动照射和扫描照射分别能够兼用扫描电磁铁3a、3b，由此能够使这些各照射较佳地进行。
并且，如上所述，带电粒子线照射装置1采用使猪嘴状支架25和定位雷达支架32能够互相交替地安装到框体8上的结构。因此，在照射带电粒子线R时，通过互相交替安装猪嘴状支架25和定位雷达支架32能够实现摆动照射和扫描照射这两种照射。而且，由于采用这种猪嘴状支架25和定位雷达支架32能够互相交替安装的结构，因此不需要一直将它们安装在带电粒子线照射装置1上，因此能够将带电粒子线照射装置1小型化。
并且，如上所述，带电粒子线照射装置1在猪嘴状支架25上设置有限位开关25a，在定位雷达支架32上设置有限位开关32a。并且，控制装置7根据这些限位开关25a、32a的开关信息控制扫描电磁铁3a、3b。而且，控制装置7根据相关的开关信息判断摆动照射机构5和扫描照射机构6的退避状态。由此能够识别支架25、32中的哪一个被安装到了框体8上，能够防止互相切换摆动照射和扫描照射时的误操作和误动作(所谓“联锁”)。结果，能够抑制以不想要的照射方法照射带电粒子线R，能够提高带电粒子线照射装置1的安全性。
并且，如上所述，在扫描照射时，MLC24的开口部24c被扩大，并且该MLC24向照射方向的上游侧被移动。通过这样使MLC24变成退避状态，由此在扫描照射时能够确保比较宽的照射域。
并且，如上所述，在脊形过滤器22上形成有将带电粒子线R原样通过的空白部22c。由此，扫描照射时通过用控制装置7控制脊形过滤器22，使脊形过滤器22移动以将带电粒子线R通过空白部22c，能够使脊形过滤器22较佳地成为退避状态。
但是，扫描照射中由于使带电粒子线R聚束来进行照射，因此希望将带电粒子线R的路径密封成真空。这是因为如果将带电粒子线R的路径为真空则能够抑制带电粒子线R扩散的缘故。此外，摆动照射中由于使带电粒子线R扩散来进行照射，因此摆动照射机构5具有散射体21。由于该散射体21在其厚度方向上具有体积，因大小等结构上的原因难以配置在真空中，因此一般配置在大气环境下。因此，带电粒子线照射装置1如上所述在扫描电磁铁3a、3b的下游一侧配置散射体21，将比该散射体21靠上游一侧的带电粒子线R的路径密封成真空。由此，摆动照射时能够用散射体21将带电粒子线R扩散，并且在扫描照射时能够抑制带电粒子线R的扩散。结果，在扫描照射时的扫描电磁铁3a、3b中能够将带电粒子线R在没有扩散的状态下扫描，能够将扫描照射高精度化。
另外，作为带电粒子线照射装置1的扫描方法可以列举使照射区域为点状地照射带电粒子线R的点扫描法、将带电粒子线R呈锯齿形地扫描并持续照射的光栅扫描法、以及将带电粒子线R平行地扫描并连续照射的线扫描法等。如果像本实施形态这样采用回旋加速器2的话，由于连续地产生带电粒子线R，因此优选光栅扫描法或线扫描法作为扫描方法。如果采用同步加速器，由于断续(脉冲)地产生带电粒子线R，因此优选点扫描法作为扫描方法。
虽然以上说明了本发明的优选实施形态，但本发明并不局限于上述实施形态。例如，虽然上述实施形态分别在支架25、32上设置了限位开关25a、32a，但也可以仅设置限位开关25a、32a中的一个。并且，虽然限位开关25a、32a在将支架25、32安装到框体8上使变成ON(打开)，但也可以在被安装上时变成OFF(关闭)。
并且，虽然上述实施形态在脊形过滤器22上设置有空白部22c作为通过部，但该通过部如果是实质上让带电粒子线R原样通过(穿过)的结构，也可以是过滤器等。

Claims (6)

1.一种带电粒子线照射装置，将带电粒子线照射到被照射物上，其特征在于，具有：
将上述带电粒子线扫描的扫描电磁铁；
用摆动法照射上述带电粒子线的摆动照射机构；
用扫描法照射上述带电粒子线的扫描照射机构；以及
控制上述摆动照射机构和上述扫描照射机构的控制机构；
上述控制机构使上述摆动照射机构或上述扫描照射机构中的任一个动作，并且使任意另一个成为退避状态以便不妨碍上述带电粒子线的照射。
2.如权利要求1所述的带电粒子线照射装置，其特征在于，具有安装上述摆动照射机构和上述扫描照射机构的框体；
上述摆动照射机构具有沿上述被照射物的形状整形上述带电粒子线的带电粒子线整形组件；
上述扫描照射机构具有调整上述带电粒子线的到达深度的到达深度调整组件；
上述带电粒子线整形组件和上述到达深度调整组件能够互相替换地安装到上述框体上。
3.如权利要求2所述的带电粒子线照射装置，其特征在于，具有当上述带电粒子线整形组件被安装到上述框体上时变成打开或关闭的第1开关和当上述到达深度调整组件被安装到上述框体上时变成打开或关闭的第2开关中的至少一个；
上述控制机构根据上述第1和第2开关的状态控制上述扫描电磁铁。
4.如权利要求1至3中的任一项所述的带电粒子线照射装置，其特征在于，上述摆动照射机构具有形成了形状可以改变的开口部、使上述带电粒子线通过该开口部来整形上述带电粒子线的平面形状的准直器；
上述控制机构在使上述扫描照射机构动作时使上述准直器向照射方向的上游侧移动，并且使上述准直器的上述开口部扩大。
5.如权利要求1至4中的任一项所述的带电粒子线照射装置，其特征在于，上述摆动照射机构具有调整上述带电粒子线的照射剂量分布的过滤器；
在上述过滤器上形成有使上述带电粒子线原样通过的通过部；
上述控制机构在使上述扫描照射机构动作时使上述过滤器移动，以便上述带电粒子线通过上述通过部。
6.如权利要求1至5中的任一项所述的带电粒子线照射装置，其特征在于，上述摆动照射机构具有配置在上述扫描电磁铁的下游一侧、使上述带电粒子线扩散的散射体；
上述带电粒子线通过的路径中比上述散射体靠上游的一侧被密封成真空。
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