CN101542369B - 液晶显示面板、液晶显示组件、液晶显示装置、电视接收机 - Google Patents

Abstract

本发明提供液晶显示面板、液晶显示组件、液晶显示装置、电视接收机、彩色滤光片基板的制造方法。在包括有源矩阵基板(3)、液晶材料(40)和彩色滤光片基板(30)的液晶显示面板(1x)中，在有源矩阵基板(3)与彩色滤光片基板(30)间设置有间隔物(33)，在彩色滤光片基板(30)，用于限制间隔物的移动的台阶部(7)，以包围间隔物(33)的方式形成。由此，能够有效地限制间隔物在液晶显示面板中的移动，能够提高单元间隙的均匀性。

Description

液晶显示面板、液晶显示组件、液晶显示装置、电视接收机

技术领域

本发明涉及具有间隔物的液晶显示面板。 

背景技术

在液晶显示面板中，在玻璃基板上形成有薄膜晶体管(TFT：ThinFilm Transistor)等开关元件的有源矩阵基板与形成有红、蓝、绿的着色层(彩色滤光片层)的彩色滤光片基板之间设置有间隔物，在由此得到的两基板的间隙处配置液晶材料。此处，在专利文献1中，公开了在有源矩阵基板上或彩色滤光片基板上使用喷墨方式配置球状的间隔物的方法。 

但是，特别是在大型液晶显示面板中，由于伴随组装、搬送的振动或冲击，面板容易弯曲，间隔物容易移动。如果这样间隔物移动，则在液晶材料的厚度(单元间隙)中产生不均，导致显示品质的下降。关于这一点，在专利文献2中，公开了通过在各基板上形成多个垄状的壁(堆堤)，限制间隔物的移动，从而提高单元间隙的均匀性的方法。此外，在专利文献3中，公开了通过在形成于有源矩阵基板或彩色滤光片基板的槽中设置间隔物而限制间隔物的移动，提高单元间隙的均匀性的方法。 

专利文献1：日本国公开特许公报“日本特开2005-10412号公报(公开日：2005年1月13日)” 

专利文献2：日本国公开特许公报“日本特开2005-258137号公报(公开日：2005年9月22日)” 

专利文献3：日本国公开特许公报“日本特开2004-145102号公报(公开日：2004年5月20日)” 

发明内容

但是，在专利文献2中公开的结构为平行地设置垄状的壁，因此间隔物与壁平行地(沿着垄延伸的方向)移动，间隔物的配置密度产生偏差，有可能产生单元间隙不均。同样的，在专利文献3中公开的结构中，配置在槽内的间隙物与槽平行地移动，间隔物的配置密度产生偏差，有可能产生单元间隙不均。 

本发明是鉴于上述课题提出的，其目的在于在液晶显示面板中更有效地抑制间隔物的移动，提高其单元间隙的均匀性。 

本发明的液晶显示面板包括：具有晶体管、像素电极和信号线的第一基板；液晶材料；和具有相对电极和遮光层的第二基板，其特征在于：在上述第一和第二基板间设置有间隔物，在上述第一和第二基板的至少一个中，以包围该间隔物的方式形成有用于限制间隔物的移动的台阶部。 

根据上述结构，间隔物的移动通过包围该间隔物的台阶部被限制，因此即使间隔物由于面板的振动或对面板的冲击而移动，其移动量也被抑制得非常小。由此，能够提高单元间隙的均匀性。在面板容易由于振动、冲击而弯曲(即，间隔物容易移动)的大型液晶显示面板中，在使用具有曲面的间隔物(例如球状间隔物)的情况下，该效果尤为显著。 

在本液晶显示面板中，优选上述台阶部与信号线重叠。由此，即使为了设置台阶部而使遮光层的一部分变薄或除去，也难以产生漏光。 

在本液晶显示面板中，也可以在第二基板形成上述台阶部。在该情况下，上述台阶部通过第二基板表面的凹陷而形成，该凹陷能够采用通过将上述遮光层局部地挖通或使其变薄而形成的结构，此外，上述台阶部通过第二基板表面的凹陷而形成，该凹陷能够采用将形成在遮光层的上层的绝缘膜局部地挖通或使其变薄而形成的结构。这样，因为台阶部的高位部与邻接区域为大致相同的高度，所以与台阶部的高位部比邻接区域更高的情况相比较，凹陷下的成膜(例如取向膜的形成)变得容易。另外，在该情况下，为了抑制漏光，优选以与各种信号线重叠的方式形成上述台阶部。 

在本液晶显示面板中，可以上述第二基板具备着色层，上述台阶部的至少一部分由着色层的端部与遮光层重叠而形成。这样，能够在 形成着色层和遮光层时形成台阶部，因此能够缩短制造工序。 

在本液晶显示面板中，上述遮光层可以是黑矩阵。此外，上述遮光层也能够使用涂敷法形成。 

在本液晶显示面板中，也可以在第一基板形成上述台阶部。在该情况下，上述台阶部通过第一基板表面的凹陷而形成，该凹陷能够采用通过将形成于第一基板的绝缘膜局部地挖通或使其变薄而形成的结构。上述绝缘膜可以是栅极绝缘膜，也可以是形成在栅极绝缘膜的上层的层间绝缘膜。这样，台阶部的高位部与邻接区域为大致相同的高度，因此，与台阶部的高位部比邻接区域更高的情况相比较，在凹陷下的成膜(例如取向膜的形成)变得容易。 

在栅极绝缘膜中形成挖通或薄膜部分的结构，特别适合栅极绝缘膜形成得较厚的情况。通过将栅极绝缘膜形成得较厚，扫描信号线和数据信号线的交叉部的台阶变小，数据信号线超越扫描信号线的台阶减小，因此，信号线交叉部的数据信号线的断线难以发生。在该情况下，作为栅极绝缘膜的材料，能够利用例如由旋涂玻璃(SOG：spin-on-glass)材料构成的SOG膜。即，可以局部地挖通SOG膜，或者除去至规定深度而使其成为薄膜部分。此外，也可以是栅极绝缘膜由第一栅极绝缘层和第二栅极绝缘层构成的方式(例如，以SOG膜形成第一栅极绝缘层，由氮化硅SiNx形成第二栅极绝缘层的方式)。在该情况下，也可以通过蚀刻除去第一栅极绝缘层而形成上述台阶部。关于这一点，考虑到晶体管的特性，则优选蚀刻除去第一栅极绝缘层。另外，一般在栅极绝缘膜使用SiNx膜的情况下，栅极电极(扫描信号线)附近的锥度部的致密性降低(膜质降低)，由于静电容易产生SiNx的破坏，但如果如上所述在由SiNx膜构成的第二栅极绝缘层之下设置有由SOG构成的第一栅极绝缘膜，则在上述锥度部也能够确保膜厚，能够防止SiNx膜的破坏。 

在本液晶显示面板中，上述绝缘膜也能够使用涂敷法形成。涂敷法相比于CVD法、溅射法的制膜更容易进行厚膜化，因此能够可靠地设置足够深的凹陷。 

另外，作为通过涂敷法能够形成的膜，能够举出包括有机物的膜，例如由旋涂玻璃(SOG)材料构成的SOG膜、由丙烯酸树脂、环氧树 脂、聚酰亚胺树脂、聚氨脂树脂、酚醛树脂、和聚硅氧烷树脂构成的树脂膜。另外，感光性丙烯酸树脂、感光性酚醛树脂等，通过使上述树脂膜具有感光性，能够利用光刻(曝光、显影)形成。通常，在设置在有源矩阵基板上的配线等的图案化中使用感光性酚醛树脂，因此，不需要另外准备制造系统(光刻装置)，此外，因此也能够共用显影液。作为显影液，例如能够使用TMAH(氢氧化四甲基铵)。 

另外，在本说明书和权利要求中，“丙烯酸树脂”是指包括丙烯酸或与丙烯酸类似的化合物的树脂，上述其它的树脂也同样是指包括类似的化合物的树脂。 

在本液晶显示面板中，如上所述，能够采用栅极绝缘膜由多个栅极绝缘层构成，该栅极绝缘层的至少一个被局部地挖通的结构。 

在本液晶显示面板中，能够采用上述层间绝缘膜由多个层间绝缘层构成，该层间绝缘层的至少一个被局部地挖通的结构。 

在本液晶显示面板中，能够采用上述台阶部通过将晶体管和像素电极电连接的接触孔而形成的结构。这样，在接触孔形成时也能够形成上述台阶部，因此能够缩短制造工序。 

在本液晶显示面板中，能够采用上述信号线是扫描信号线、数据信号线、保持电容配线的任一种的结构。 

在本液晶显示面板中，可以在被上述台阶部包围的区域设置有多个间隔物。 

在本液晶显示面板中，上述台阶部可以设置于第一和第二基板双方。这样，能够更可靠地限制间隔物的移动。 

在本液晶显示面板中，上述间隔物优选通过喷墨方式设置。这样，能够在被台阶部包围的部分高精度地配置间隔物。 

在本液晶显示面板中，被上述台阶部包围的区域的面积优选根据配置在该区域中的间隔物的个数和各间隔物的大小而设定。另外，在上述间隔物使用喷墨装置配置的情况下，优选上述面积也根据喷墨装置的击中精度设定。 

在本液晶显示面板中，第一基板是有源矩阵基板，第二基板是彩色滤光片基板。 

本液晶显示组件的特征在于包括上述液晶显示面板。 

本液晶显示装置的特征在于包括上述液晶显示组件。 

本电视接收机的特征在于包括：上述液晶显示装置、和接收电视播放的调谐部。 

本发明的彩色滤光片基板的制造方法是在液晶显示面板中夹着间隔物与有源矩阵基板相对的彩色滤光片基板的制造方法，其特征在于，包括：在透明基板上隔开间隔形成多个着色层的工序；在各着色层上和着色层间形成负型的黑色感光性树脂膜的工序；使用具有包围位于上述着色层间的薄膜部形成区域的图案的掩模，从上述黑色感光性树脂膜的表面开始进行曝光的工序；以上述着色层作为掩模，从黑色感光性树脂膜的背面开始进行曝光的工序；和通过显影，除去着色层上的黑色感光性树脂膜，并且将上述薄膜部形成区域的黑色感光性树脂膜从其表面除去至规定深度的工序。 

根据上述制造方法，能够形成在其表面具有用于限制间隔物的移动的台阶部的彩色滤光片基板。其中，该台阶部由设置于黑色感光性树脂膜的薄膜部形成。 

如上所述，根据本液晶显示面板，间隔物的移动被包围该间隔物的台阶部限制，因此，即使间隔物由于面板的振动或对面板的冲击而移动，其移动量也能够被限制得非常小。由此，能够提高单元间隙的均匀性。该效果在面板容易由于振动、冲击而弯曲(即，间隔物容易移动)的大型液晶显示面板中特别显著。 

附图说明

图1是表示实施方式1的液晶显示面板的结构的平面图。 

图2是表示实施方式1的液晶显示面板的结构的截面图。 

图3是表示实施方式1的液晶显示面板的另一结构的截面图。 

图4是表示实施方式1的液晶显示面板的另一结构的截面图。 

图5是表示实施方式2的液晶显示面板的结构的平面图。 

图6是表示实施方式2的液晶显示面板的结构的截面图。 

图7是表示实施方式2的液晶显示面板的另一结构的截面图。 

图8是表示实施方式2的液晶显示面板的另一结构的截面图。 

图9是表示实施方式2的液晶显示面板的另一结构的截面图。 

图10是表示实施方式2的液晶显示面板的另一结构的截面图。 

图11是表示实施方式3的液晶显示面板的结构的平面图。 

图12是表示实施方式3的液晶显示面板的结构的截面图。 

图13是表示实施方式3的液晶显示面板的另一结构的截面图。 

图14是表示实施方式3的液晶显示面板的另一结构的截面图。 

图15是表示实施方式4的液晶显示面板的结构的平面图。 

图16是表示实施方式4的液晶显示面板的结构的截面图。 

图17是表示图16所示的液晶显示面板的一部分结构的截面图。 

图18是表示实施方式5的液晶显示面板的结构的平面图。 

图19是表示实施方式5的液晶显示面板的结构的截面图。 

图20是表示本液晶显示面板的制造工序的一部分的工序图。 

图21是表示本液晶显示组件的结构的示意图。 

图22是表示本液晶显示装置的结构的示意图。 

图23是说明本液晶显示装置的功能的框图。 

图24是说明本电视接收机的功能的框图。 

图25是表示本电视接收机的结构的分解立体图。 

图26是表示实施方式3的液晶显示面板的另一结构的截面图。 

图27是表示实施方式3的液晶显示面板的另一结构的截面图。 

符号说明 

1x、1y、1z、10a～10e 液晶显示面板 

130a～130c、140、150 液晶显示面板 

3 有源矩阵基板 

7 27 台阶部 

9、19 取向膜 

13 黑矩阵 

14 着色层 

15 数据信号线 

16 扫描信号线 

17 像素电极 

18 保持电容配线 

21 第一栅极绝缘层 

22 第二栅极绝缘层 

23 栅极绝缘膜 

25 第一层间绝缘层 

26 第二层间绝缘层 

30 彩色滤光片基板 

33 间隔物 

40 液晶材料 

55 66 台座 

57 突起部 

58 (黑矩阵和着色层的)重合部 

77 88 凹陷 

100 液晶显示组件 

110 液晶显示装置 

601 电视接收机 

具体实施方式

以下基于图1～图27说明本发明的实施方式的例子。 

[实施方式1] 

图1是表示本实施方式的液晶显示面板的一部分的平面图，图2是图1的线向视截面图。如图1所示，在本实施方式的液晶显示面板中，在各扫描信号线16上，用于设置间隔物33的凹陷77隔开间隔形成有多个。 

如图2所示，液晶显示面板1x包括：有源矩阵基板3、彩色滤光片基板30、设置在两基板间的间隔物33、和被封入由两基板(3、30)和设置在面板外周部的密封件(未图示)包围的部分的液晶材料40。 

在有源矩阵基板3中，如图1和图2所示，设置有沿图中左右方向延伸的扫描信号线16、沿图中上下方向延伸的数据信号线15、沿图中左右方向延伸的保持电容配线18，在扫描信号线16和数据信号线15的交叉部附近设置有晶体管(TFT，未图示)。此处，虽然没有图示，但晶体管，其源极电极与数据信号线15连接，其栅极电极与扫描信号线16连接，其漏极电极通过漏极引出电极(未图示)等与像素电极17 连接。此外，保持电容配线18与上述漏极引出电极或像素电极隔着栅极绝缘膜等相对，由此形成保持电容。另外，作为上述各配线(数据信号线15、扫描信号线16、保持电容配线18)使用遮光性的金属膜。 

另一方面，如图1、2所示，在彩色滤光片基板30，矩阵状地形成有由遮光膜构成的黑矩阵13(遮光层)，在被黑矩阵13包围的区域，形成有具有红(R)、绿(G)、蓝(B)中任一色的着色层14(彩色滤光片)。黑矩阵13以与有源矩阵基板3的数据信号线15和扫描信号线16重合的方式形成，着色层14以与有源矩阵基板3的像素电极重合的方式形成。 

以下更详细地说明本液晶显示面板1x的结构。 

如图2所示，有源矩阵基板3包括透明基板31、扫描信号线16、保持电容配线18、由栅极绝缘膜、TFT(未图示)、和层间绝缘膜构成的绝缘膜35、像素电极17、和取向膜9。此处，在透明基板31上形成扫描信号线16和保持电容配线18，在这些配线(16、18)上形成栅极绝缘膜。在栅极绝缘膜上，形成构成晶体管的沟道的半导体层(未图示)、数据信号线15(参照图1)、晶体管的各电极(未图示)、漏极引出电极(未图示)等，在这些配线和电极上形成层间绝缘膜。在层间绝缘膜上形成像素电极17，进而，以覆盖像素电极17的方式形成取向膜9。取向膜9用于使液晶分子取向，与液晶材料40接触。另外，在绝缘膜35登上扫描信号线16等的部分所产生的台阶等，在附图上被忽略。 

此外，如图2所示，彩色滤光片基板30包括透明基板32、黑矩阵13、着色层14(R、G、B)、透明的相对电极(共用电极)28、和取向膜19。此处，在透明基板32上形成黑矩阵13和着色层14，以覆盖它们(13、14)的方式形成相对电极28。此外，在相对电极28上形成取向膜19。另外，R、G、B的各着色层14以与各像素区域对应的方式规则配置，在各着色层14的间隙处形成有黑矩阵13。 

此处，如图1和图2所示，在黑矩阵13形成有位于扫描信号线16上的长方形形状的挖通部41x。遮光膜在挖通部41x被除去。由此，通过形成在黑矩阵13的上层的相对电极28和取向膜19，在彩色滤光片基板30的表面形成长方形形状的凹陷77。台阶部7通过凹陷77形成， 在该凹陷77处配置间隔物33。 

根据本液晶显示面板1x，配置在凹陷77中的间隔物33通过台阶部7被限制其移动，因此，即使间隔物33由于面板的振动或对面板的冲击而移动，其移动量也被抑制得非常小。由此，能够提高单元间隙的均匀性。该效果在面板容易由于振动、冲击而弯曲(即，间隔物容易移动)的大型液晶显示面板中特别显著。 

此外，因为在液晶显示面板1x中台阶部7的高位部与邻接区域为大致相同的高度，所以与台阶部的高位部高于邻接区域的情况相比较，还具有容易在凹陷下形成取向膜的效果。 

另外，因为作为扫描信号线16使用遮光性的金属，所以即使如上所述挖通(除去)黑矩阵13的一部分也几乎不会由于漏光影响显示品质。 

在图2中，黑矩阵13的一部分被挖通，但并不限定于该结构。如图3所示的液晶显示面板1y所示，也能够使黑矩阵13的一部分为薄膜部。即，如图3所示，黑矩阵13具有位于扫描信号线16上的长方形形状的薄膜部41y。在薄膜部41y，遮光膜的厚度小于周围。由此，通过形成在黑矩阵13的上层的相对电极28和取向膜19，在彩色滤光片基板30的表面形成长方形形状的凹陷77。台阶部7通过凹陷77形成，间隔物33被配置在该凹陷77中。有源矩阵基板3的结构与图2同样。 

以下，说明有源矩阵基板的制造方法的一个例子。 

首先，在透明绝缘性基板上通过溅射法等方法进行钛、铬、铝、钼、钽、钨、铜等金属或这些金属的合金的成膜。然后，通过光蚀刻法等使该金属膜或合金膜图案化形成为需要的形状，从而形成具有0.5μm左右的膜厚的保持电容配线和扫描信号线(各TFT的栅极电极)。 

接着，通过等离子体CVD(化学气相生长法)等连续地进行膜厚0.4μm左右的栅极绝缘膜、膜厚0.2μm左右的半导体层(高电阻半导体层和低电阻半导体层)的成膜，之后通过光蚀刻法等形成图案。 

接着，形成膜厚0.3μm左右的数据信号线、源极电极、漏极电极、和漏极引出电极。这些能够全部通过同一工序形成。具体地说，通过溅射法等方法进行钛、铬、铝、钼、钽、钨、铜等金属或这些金属的 合金的成膜，通过光蚀刻法等使该金属膜或合金膜图案化形成为需要的形状。 

然后，相对于非晶硅膜等高电阻半导体层(i层)、n+非晶硅膜等低电阻半导体层(n+层)，以数据信号线、源极电极、漏极电极、和漏极引出电极的图案为掩模，通过干蚀刻进行沟道蚀刻。通过该工艺，i层的膜厚最佳化，形成TFT。此处，未被数据信号线、源极电极、漏极电极和漏极引出电极覆盖的半导体层被蚀刻除去，对于TFT的能力是必须的i层膜厚被保留。 

接着，形成保护TFT的沟道(覆盖沟道)的层间绝缘膜。在本实施方式中，使用等离子体CVD法等，形成膜厚0.3μm左右的氮化硅、氧化硅等无机绝缘膜。 

进一步，基于接触孔的位置蚀刻层间绝缘膜形成孔。此处，例如，通过光刻法(曝光和显影)对感光性抗蚀剂进行图案化，进行蚀刻。 

接着，在层间绝缘膜上，通过溅射法等方法进行膜厚0.1μm左右的ITO、IZO、氧化锌、氧化锡等具有透明性的导电膜的成膜，通过光蚀刻法等方法将其图案化形成为需要的形状。 

然后，通过喷墨法等涂敷取向膜。由此形成有源矩阵基板。 

接着，使用图1～图3和图20、图21说明彩色滤光片基板的制造方法的一个例子。 

首先，形成与三原色(红、绿、蓝)对应的第一～第三着色层。 

即，通过旋涂法等在透明基板32上涂敷分散有红色颜料的负型的丙烯酸感光性树脂，之后进行干燥，进而使用光掩模进行曝光和显影，形成第一着色层14(红)。之后，以同样的工序形成第二着色层14(绿)和第三着色层14(蓝)(参照图20(a))。 

接着，如下所述形成由遮光膜构成的黑矩阵。 

在如图2所示在黑矩阵的一部分形成挖通部的情况下进行图20所示的工序。即，将分散有碳的微粒子的负型的丙烯酸黑色感光性树脂膜13x通过旋涂法等以覆盖着色层的方式涂敷(参照国20(b))，之后进行干燥，使用光掩模从表面开始进行曝光(参照图20(c))。此时使用的光掩模FM具有使与形成各着色层14的像素区域相当的位置和与位于各着色层14的间隙区域的挖通部(长方形形状)相当的位置不被 曝光的图案，从而上述两个位置由于没有曝光而不会固化，其它部分(例如挖通部的周围)通过曝光而固化。之后，通过进行显影，除去处于大致未固化的状态的部分。其中，大致未固化状态包括从通过显影能够实质地除去的程度的固化状态到完全的未固化状态。结果，在与形成各着色层14的像素区域相当的位置，黑色感光性树脂膜被除去，在与位于各着色层14的间隙区域的挖通部相当的位置，黑色感光性树脂膜也被除去，在与挖通部的周围相当的位置，黑色感光性树脂膜13x原样保留，得到图案化为期望的形状的黑矩阵13(参照图20(d))。 

此外，在如图3所示在黑矩阵的一部分形成薄膜部的情况下，进行图21所示的工序。即，形成第一着色层14(红)、第二着色层14(绿)和第三着色层14(蓝)(参照图21(a))，将分散有碳的微粒子的负型的丙烯酸黑色感光性树脂膜13x通过旋涂法等以覆盖着色层的方式涂敷(参照国21(b))，之后进行干燥，使用光掩模FM从表面开始进行曝光(参照图21(c))。此时使用的光掩模FM具有使与形成各着色层14的像素区域相当的位置和与位于各着色层14的间隙区域的薄膜部(长方形形状)相当的位置不被曝光的图案，从而上述两个位置由于没有曝光而不会固化，其它部分(例如薄膜部的周围)通过曝光而固化。接着，以着色层14作为掩模，将黑色感光性树脂膜13x从透明基板32的背面开始曝光(背面曝光)(参照图21(d))。由此，位于各着色层14的间隙区域的部分，其背面附近固化。之后，通过进行显影，除去处于大致未固化的状态的部分。结果，在与形成各着色层14的像素区域相当的位置，黑色感光性树脂膜被除去，在与位于各着色层的间隙区域的薄膜部相当的位置，黑色感光性树脂膜残留得较薄，在与薄膜部的周围相当的位置，黑色感光性树脂膜原样(厚)保留，得到图案化为期望的形状的黑矩阵13(参照图21(e))。 

另外，通过调整背面曝光时的曝光量，能够调整薄膜部的黑色感光性树脂的膜厚。 

在如上所述形成着色层14和黑矩阵13之后，通过溅射形成由ITO等透明电极28构成的相对电极(参照图20(e)、图21(f))，如果在其上通过喷墨法等涂敷取向膜，则相对电极和取向膜沿着黑矩阵的挖通部或薄膜部，由此，完成彩色滤光片基板，在其表面具有长方形形 状的凹陷77。 

另外，着色层的各颜色不限于三原色(红、绿、蓝)，也可以形成青色、品红色、黄色等的着色层。 

进一步，在本实施方式中，使黑矩阵的膜厚为，薄膜部1.0μm左右，其它部分2.0μm左右，使着色层的膜厚为1.8μm左右，使在黑矩阵设置有挖通部的情况下的凹陷77的深度为2.0μm左右，使在黑矩阵设置有薄膜部的情况下的凹陷77的深度为1.0μm左右。此外，凹陷77的形状为大约60μm的正方形。 

另外，虽然通过在黑矩阵形成挖通部而设置凹陷的方法可提高间隔物的移动限制效果，但是由于与形成液晶显示面板的单元间隙的间隔物直径的关系，凹陷深度为间隔物直径的约15％以上即足够。此处，认为如果在黑矩阵形成挖通部，由于设置在有源矩阵基板上的信号配线的材料等的影响，反射光会使显示品质下降。从而，在这样的情况下，考虑与上述间隔物直径的关系，通过在黑矩阵设置薄膜部能够抑制反射光。此外，关于凹陷的面积，也优选是不仅考虑配置在各凹陷中的间隔物的个数和各间隔物的大小，还考虑喷墨装置的击中精度(例如±20μm左右)的面积。即，优选根据喷墨涂敷装置所具有的击中精度适当变更凹陷的面积。 

此外，本液晶显示面板能够采用图4所示的结构。即，液晶显示面板1z所具有的彩色滤光片基板30包括透明基板32、黑矩阵13、着色层14(R、G、B)、覆盖膜34、透明的相对电极28、和取向膜19。此处，在透明基板32上形成黑矩阵13和着色层14，在它们的上层形成覆盖膜34。在覆盖膜34上形成相对电极28，进而以覆盖相对电极28的方式形成取向膜19。 

覆盖膜34是为了平坦化的目的和容易进行相对电极的图案化而设置的，例如，使用感光性丙烯酸树脂。 

此处，如图4所示，在覆盖膜34上，形成与黑矩阵13和扫描信号线16重合的长方形形状的挖通部41z。由此，通过形成在覆盖膜34的上层的相对电极28和取向膜19，在彩色滤光片基板30的表面形成长方形形状的凹陷77。利用凹陷77形成台阶部7，在该凹陷77中配置有间隔物33。有源矩阵基板3的结构与图2同样。另外，覆盖膜34 的挖通部41z通过光刻法等形成在与黑矩阵13或遮光性的金属配线(扫描信号线16、保持电容配线18)重合的位置即可。 

在上述各方式中表示了将位于扫描信号线16上的黑矩阵13的一部分挖通而成的结构，但在以例如与黑矩阵重合的方式配置保持电容配线的情况下，也可以挖通位于该保持电容配线上的黑矩阵的一部分，由此在彩色滤光片基板表面形成凹陷。 

此外，也能够挖通位于数据信号线上的黑矩阵的一部分，由此在彩色滤光片基板表面形成凹陷。但是，因为扫描信号线、保持电容配线与数据信号线相比配线宽度较宽，所以挖通位于扫描信号线上或保持电容配线上的黑矩阵的一部分，由此在彩色滤光片基板表面形成凹陷更为容易。 

即，在凹陷超出数据信号线的情况下，如果是利用扫描信号线、保持电容配线的宽度也能够控制为不超出，而且，在与凹陷相匹配加大配线宽度的情况下，对开口率的影响也可较小。另外，扫描信号线的宽度与数据信号线相比较宽是指考虑每一根的情况，在扫描信号线和数据信号线交叉的位置形成的寄生电容部的数量是扫描信号线比数据信号线多，此外配线长度也是扫描信号线较大，因此，为了抑制信号延迟，需要降低电阻(使配线宽度变大)。此外，保持电容配线为了确保必要的保持电容，存在为了获得与像素电极或漏极引出电极重合的面积而使配线宽度较宽的情况。 

[实施方式2] 

图5是表示本实施方式的液晶显示面板的一部分的平面图，图6是图5的线向视截面图。如图5所示，在本实施方式的液晶显示面板中，在各扫描信号线16上，用于设置间隔物33的凹陷88隔开间隔形成有多个。其他结构与图1同样。 

如图6所示，液晶显示面板10a包括：有源矩阵基板3、彩色滤光片基板30、设置在两基板间的间隔物33、和被封入在由两基板(3、30)和设置在面板外周部的密封件(未图示)所包围的部分的液晶材料40。 

有源矩阵基板3包括透明基板31、扫描信号线16、保持电容配线18、栅极绝缘膜23、TFT(未图示)、第一层间绝缘层25、第二层间绝 缘层26、像素电极17和取向膜9。此处，在透明基板31上形成扫描信号线16和保持电容配线18，在这些配线(16、18)上形成栅极绝缘膜23。在栅极绝缘膜23上，形成构成晶体管的沟道的半导体层(未图示)、数据信号线(未图示)、晶体管的各电极(未图示)、漏极引出电极(未图示)等，在这些配线和电极上形成第一层间绝缘层25和第二层间绝缘层26。此外，在第二层间绝缘层26上的与像素区域对应的位置形成由ITO构成的像素电极17，进而，以覆盖像素电极17的方式形成取向膜9。另外，在栅极绝缘膜23登上扫描信号线16等的部分所产生的台阶等，在附图上被忽略。 

此外，彩色滤光片基板30包括透明基板32、黑矩阵13、着色层14(R、G、B)、透明的相对电极(共用电极)28、和取向膜19。此处，在透明基板32上形成黑矩阵13和着色层14，以覆盖它们(13、14)的方式形成相对电极28。此外，在相对电极28上形成取向膜19。另外，R、G、B的各着色层14以与各像素区域对应的方式规则配置，在各着色层14的间隙处形成有黑矩阵13。 

此处，如图6所示，在第二层间绝缘层26上形成与黑矩阵13和扫描信号线16重合的长方形形状的薄膜部42a。在薄膜部42a，第二层间绝缘层26的膜厚比周围小。由此，通过形成在第二层间绝缘层26的上层的取向膜9，在有源矩阵基板3的表面形成长方形形状的凹陷88。台阶部27通过凹陷88形成，在该凹陷88处配置间隔物33。 

根据本液晶显示面板10a，配置在凹陷88中的间隔物33通过台阶部27被限制其移动，因此，即使间隔物33由于面板的振动或对面板的冲击而移动，其移动量也被抑制得非常小。由此，能够提高单元间隙的均匀性。该效果在面板容易由于振动、冲击而弯曲(即，间隔物容易移动)的大型液晶显示面板中特别显著。 

此外，因为在液晶显示面板10a中台阶部27的高位部与邻接区域为大致相同的高度，所以与台阶部的高位部高于邻接区域的情况相比较，还具有容易形成凹陷88的取向膜的效果。 

另外，作为栅极绝缘膜23使用SiNx(氮化硅)，作为第一层间绝缘层25使用膜厚约0.3μm的SiNx(氮化硅)，作为第二层间绝缘层26使用膜厚约2.0μm的丙烯酸树脂。 

此处，第二层间绝缘层26的薄膜部42a例如能够通过使用正型的感光性丙烯酸树脂的光刻法容易地形成。即，使用具有与薄膜部形成位置相当的半色调区域(调整曝光用UV光的透过量的区域)、与薄膜部以外的厚膜部形成位置相当的阻断区域(不透过曝光用的UV光的区域)、和与接触孔形成位置相当的透过区域(透过曝光用的UV光的区域)的曝光掩模，进行曝光处理，并通过之后的显影，能够在第二层间绝缘层26同时形成薄膜部和厚膜部以及接触孔。另外，上述接触孔用于连接与TFT(薄膜晶体管)的漏极电极连接的漏极引出电极和像素电极17。 

进一步，通过将以上述方式形成的第二层间绝缘层26作为掩模，对第一层间绝缘层25进行选择比高的蚀刻(例如，使用混合有氢氟酸HF和氟化铵NH₄F的10∶1的缓冲氢氟酸BHF等的湿蚀刻)，能够在薄膜部41残留第二层间绝缘层的同时，除去接触孔位置的第一层间绝缘层25。 

在图6中，在第二层间绝缘层26形成薄膜部，由此在有源矩阵基板设置凹陷，但是并不限定于该结构。如图7所示的液晶显示面板10b所示，也能够在第二层间绝缘层26形成挖通部。即，如图7所示，在第二层间绝缘层26形成与黑矩阵13和扫描信号线16重合的长方形形状等的挖通部42b。由此，通过形成在第二层间绝缘层26的上层的取向膜9，在有源矩阵基板3的表面形成长方形形状的凹陷88。通过凹陷88形成台阶部27，在该凹陷88中配置间隔物33。另外，彩色滤光片基板30的结构与图6同样。 

在该情况下，通过将以上述方式形成有薄膜部的第二层间绝缘层26作为掩模，对第一层间绝缘层25进行选择比较低的蚀刻(例如使用CF₄和O₂的混合气体的干蚀刻)，能够在除去薄膜部的第二层间绝缘层(形成挖通部42b)的同时除去接触孔位置的第一层间绝缘层25。另外，能够通过适当选择各气体的混合比等的等离子体条件调整选择比。 

本实施方式的液晶显示面板能够采用图8所示的结构。即，在液晶显示面板10c所具有的有源矩阵基板3中，在栅极绝缘膜23以及第一层间绝缘层25和第二层间绝缘层26分别形成与黑矩阵13和扫描信号线16重合的长方形形状等的挖通部42c。由此，通过取向膜9，在 有源矩阵基板3的表面形成长方形形状的凹陷88。通过凹陷88形成台阶部27，在该凹陷88中配置间隔物33。另外，彩色滤光片基板30的结构与图6同样。 

在该情况下，通过光刻法在第二层间绝缘层预先形成挖通部42c和成为接触孔的一部分的孔，之后，以第二层间绝缘层作为掩模，通过干蚀刻、湿蚀刻等方法，能够在第一层间绝缘层25和栅极绝缘膜23形成挖通部42c，并同时除去接触孔形成位置的第一层间绝缘层。 

本实施方式的液晶显示面板能够采用图9的结构。在图9的液晶显示面板10d所具有的有源矩阵基板3中，栅极绝缘膜成为第一栅极绝缘层21和第二栅极绝缘层22的多层构造，在第二栅极绝缘膜22以及第一层间绝缘层25和第二层间绝缘层26分别形成与黑矩阵13和扫描信号线16重合的长方形形状等的挖通部42d。由此，通过取向膜9，在有源矩阵基板3的表面形成长方形形状的凹陷88。通过凹陷88形成台阶部27，在该凹陷88中配置间隔物33。另外，彩色滤光片基板30的结构与图6同样。 

在上述图8的结构中，将第一和第二层间绝缘层25、26以及栅极绝缘膜23全部挖通，因此，虽然凹陷的深度能够较大，但是扫描信号线16会在取向膜下露出。在该情况下，混入于液晶的导电性异物附着在凹陷上，可能导致扫描信号线16和相对电极28短路。关于这一点，在图9的结构中，在取向膜下残留第一栅极绝缘层21，因此即使存在上述的导电性异物，扫描信号线16也可利用第一栅极绝缘层21与上述导电性异物绝缘。 

另外，第一栅极绝缘层21只要是绝缘性的材料即可，但优选是包含有机物的材料、旋涂玻璃(SOG)材料。SOG材料是指通过旋涂法等涂敷法能够形成玻璃膜(石英膜)的材料。 

在SOG材料中，更优选例如包含有机成分的旋涂玻璃材料(所谓的有机SOG材料)。作为有机SOG材料，特别能够适用以Si-O-C键为骨架的SOG材料、以Si-C键为骨架的SOG材料。有机SOG材料的介电常数较低，能够容易地形成厚膜。即，如果使用有机SOG材料，则能够使第一栅极绝缘层的介电常数低，容易地将第一栅极绝缘层形成得较厚，并且能够进行平坦化。在本实施方式中，使第一栅极绝缘 层21的厚度为1.5μm～2.0μm左右。另外，作为包含有机物的材料，在上述SOG材料之外，还有丙稀酸树脂、环氧树脂、聚酰亚胺树脂、聚氨酯树脂、聚硅氧烷树脂等。 

另外，作为具有上述Si-O-C键的SOG材料，例如能够举出在日本特开2001-98224号公报、日本特开平6-240455号公报中公开的材料，在IDW’03预稿集第617页公开的道康宁东丽(Dow corningToray)硅株式会社制造的DD1100。此外，作为以Si-C键为骨架的SOG材料，例如能够举出日本特开平10-102003号公报公开的材料。 

此外，作为第一栅极绝缘层能够使用包含石英填料的有机SOG材料。在该情况下，优选采用在由有机SOG材料形成的基材中分散有石英填料的结构。这样，即使基板大型化，也能够不产生裂纹地形成第一栅极绝缘层。另外，石英填料的粒径例如是10nm～30nm，其混入比率为20体积％～80体积％。作为包含石英填料的有机SOG材料，例如能够使用催化剂化学社制LNT-025。 

本实施方式的液晶显示面板能够采用图10的结构。在图10的液晶显示面板10e所具有的有源矩阵基板3中，栅极绝缘膜成为第一栅极绝缘层21和第二栅极绝缘层22的多层构造，在第一栅极绝缘层21，形成有与黑矩阵13和扫描信号线16重合的长方形形状等的挖通部42e。由此，通过第二栅极绝缘层22、第一层间绝缘层25、和取向膜9，在有源矩阵基板3的表面形成长方形形状的凹陷88。通过凹陷88形成台阶部27，在该凹陷88中配置间隔物33。另外，彩色滤光片基板30的结构与图6同样。 

虽然作为第一栅极绝缘层21使用SOG材料，但如上所述，也可以使用包含有机物的材料、丙稀酸树脂材料、环氧树脂、聚酰亚氨树脂、聚氨脂树脂、聚氧硅烷树脂等。 

此处，使用旋涂法，以覆盖保持电容配线18和扫描信号线16的方式涂敷SOG材料等，形成作为第一栅极绝缘层的平坦化膜。之后，在第一栅极绝缘层上涂敷光致抗蚀剂，使用光掩模进行曝光，进而实施显影。接着，进行干蚀刻。由此，在第一栅极绝缘层形成挖通部42e。其中，干蚀刻使用例如四氟化氢(CF₄)和氧(O₂)的混合气体即可。 

[实施方式3] 

图11是表示本实施方式的液晶显示面板的一部分的平面图，图12是图11的线向视截面图。如图11所示，在本实施方式的液晶显示面板中，在各扫描信号线16上，用于设置间隔物33的空间99隔开间隔形成有多个。其他结构与图1同样。 

如图12所示，液晶显示面板130a包括：有源矩阵基板3、彩色滤光片基板30、设置在两基板间的间隔物33、和被封入在由两基板(3、30)和设置在面板外周部的密封件(未图示)所包围的部分的液晶材料40。 

有源矩阵基板3包括透明基板31、扫描信号线16、保持电容配线18、栅极绝缘膜23、TFT(未图示)、第一层间绝缘层25、第二层间绝缘层26、像素电极17和取向膜9。此处，在透明基板31上形成扫描信号线16和保持电容配线18，在这些配线(16、18)上形成栅极绝缘膜23。在栅极绝缘膜23上，形成构成晶体管的沟道的半导体层(未图示)、数据信号线(未图示)、晶体管的各电极(未图示)、漏极引出电极(未图示)等，在这些配线和电极上形成第一层间绝缘层25和第二层间绝缘层26。此外，在第二层间绝缘层26上的与像素区域对应的位置形成由ITO构成的像素电极17，进而，以覆盖像素电极17的方式形成取向膜9。另外，在栅极绝缘膜23登上扫描信号线16等的部分所产生的台阶等，在附图上被忽略。 

此外，彩色滤光片基板30包括透明基板32、黑矩阵13、着色层14(R、G、B)、透明的相对电极(共用电极)28、和取向膜19。此处，在透明基板32上形成黑矩阵13和着色层14，以覆盖它们(13、14)的方式形成相对电极28。此外，在相对电极28上形成取向膜19。另外，R、G、B的各着色层14以与各像素区域对应的方式规则配置，在各着色层14的间隙处形成有黑矩阵13。 

此处，如图12所示，在有源矩阵基板3的第二层间绝缘层26上形成与黑矩阵13和扫描信号线16重合的长方形形状的挖通部53a。由此，通过形成在第二层间绝缘层26的上层的取向膜9，在有源矩阵基板3的表面形成长方形形状的凹陷88。另外，台阶部27通过凹陷88形成。另一方面，在彩色滤光片基板30的黑矩阵13上形成与扫描信号线16重合的长方形形状的挖通部43a。由此，通过形成在黑矩阵13 的上层的取向膜19，在彩色滤光片基板30的表面形成长方形形状的凹陷77。另外，台阶部7通过凹陷77形成。此处，凹陷77和凹陷88以凹部相对的方式组合，构成间隔物配置用的空间(图11所示的空间99)，在该空间配置间隔物33。 

根据本液晶显示面板130a，间隔物33配置在由凹陷77和凹陷88构成的空间中，其移动通过台阶部7和台阶部8被限制，因此，即使间隔物33由于面板的振动或对面板的冲击而移动，其移动量也被抑制得非常小。由此，能够提高单元间隙的均匀性。该效果在面板容易由于振动、冲击而弯曲(即，间隔物容易移动)的大型液晶显示面板中特别显著。 

此外，因为在液晶显示面板130a中台阶部7的高位部与邻接区域为大致相同的高度，所以与台阶部的高位部高于邻接区域的情况相比较，还具有容易形成凹陷77的取向膜的效果。同样的，台阶部27的高位部与邻接区域为大致相同的高度，所以也具有容易形成凹陷88的取向膜的效果。 

此外，本实施方式的液晶显示面板能够采用图13所示的结构。即，液晶显示面板130b所具有的彩色滤光片基板30包括透明基板32、黑矩阵13、着色层14(R、G、B)、相对电极(共用电极)28、突起部56、和取向膜19。此处，在透明基板32上形成黑矩阵13和着色层14，以覆盖它们(13、14)的方式形成相对电极28，在该相对电极上的一部分上形成成为长方形的边缘形状的突起部56，进而以覆盖相对电极28和突起部56的方式形成取向膜19。由此，通过在突起部56的上层形成的取向膜19，在彩色滤光片基板30的表面形成台阶部7和被其包围的长方形形状的台座55。另外，有源矩阵基板3的结构与图12同样。此处，台阶部7、台座55和凹陷88组合构成间隔物33配置用的空间(图11所示的空间99)，在该空间中配置间隔物33。另外，突起部56例如能够与在彩色滤光片基板上形成的取向限制用肋同时形成。 

此外，本实施方式的液晶显示面板能够采用图14的结构。即，本液晶显示面板130c所具有的有源矩阵基板3包括透明基板31、扫描信号线16、保持电容配线18、栅极绝缘膜23、TFT(未图示)、第一层间绝缘层25、突起部66、第二层间绝缘层26、像素电极17、和取向 膜9。此处，在透明基板31上形成扫描信号线16和保持电容配线18，在这些配线(16、18)上形成栅极绝缘膜23。在栅极绝缘膜23上，形成构成晶体管的沟道的半导体层(未图示)、数据信号线(未图示)、晶体管的各电极(未图示)、漏极引出电极(未图示)等，并且形成成为长方形的边缘形状的突起部57。突起部57由与构成晶体管的沟道的半导体层在同层形成的半导体部57a和与构成数据信号线的导电体层在同层形成的导电体部57b构成。而且，以覆盖突起部57、上述电极、数据信号线等的方式形成第一层间绝缘层25，在其上层形成第二层间绝缘层26。此外，在第二层间绝缘层26上的与像素区域对应的位置形成由ITO构成的像素电极17，进一步，以覆盖像素电极17的方式形成取向膜9。另外，在栅极绝缘膜23登上扫描信号线16等的部分产生的台阶等，在附图上被忽略。 

由此，通过形成在突起部56的上层的第一和第二层间绝缘层25、26和取向膜9，在有源矩阵基板3的表面，形成成为长方形的边缘形状的台阶部27和被该台阶部27包围的台座66。另外，彩色滤光片基板30的结构与图12同样。此处，台阶部27、台座66和凹陷77组合构成间隔物33配置用的空间(图11所示的空间99)，间隔物33配置在该空间。 

另外，也可以组合图12所示的彩色滤光片基板30和图10所示的有源矩阵基板3，构成图26所示的液晶显示面板，此外，也可以组合图13所示的彩色滤光片基板30和图10所示的有源矩阵基板3，构成图27所示的液晶显示面板。 

[实施方式4] 

图15是表示本实施方式的液晶显示面板的一部分的平面图，图16是图15的线向视截面图。如图15所示，在本实施方式的液晶显示面板中，在各扫描信号线16上，用于设置间隔物33的台阶部7和台座55隔开间隔形成有多个。 

如图16所示，液晶显示面板140包括：有源矩阵基板3、彩色滤光片基板30、设置在两基板间的间隔物33、和被封入在由两基板(3、30)和设置在面板外周部的密封件(未图示)所包围的部分的液晶材料40。 

有源矩阵基板3包括透明基板31、扫描信号线16、保持电容配线18、包括栅极绝缘膜和层间绝缘膜的绝缘膜35、TFT(未图示)、像素电极17、和取向膜9。此处，在透明基板31上形成扫描信号线16和保持电容配线18，在这些配线(16、18)上形成栅极绝缘膜。在栅极绝缘膜上，形成构成晶体管的沟道的半导体层(未图示)、数据信号线(未图示)、晶体管的各电极(未图示)、漏极引出电极(未图示)等，在这些配线和电极上形成层间绝缘膜。此外，在该层间绝缘膜上的与像素区域对应的位置形成由ITO构成的像素电极17，进而，以覆盖像素电极17的方式形成取向膜9。另外，在绝缘膜35登上扫描信号线16等的部分所产生的台阶等，在附图上被忽略。 

此外，彩色滤光片基板30包括透明基板32、黑矩阵13、着色层14(R、G、B)、透明的相对电极(共用电极)28、和取向膜19。此处，在透明基板32上形成黑矩阵13和着色层14，以覆盖它们(13、14)的方式形成相对电极28。此外，在相对电极28上形成取向膜19。另外，R、G、B的各着色层14以与各像素区域对应的方式规则配置，在各着色层14的间隙处形成有黑矩阵13。 

此处，如图16所示，着色层14的端部登上黑矩阵13，如图16、图17所示，黑矩阵13和着色层14的重合部分58以包围扫描信号线16下(或扫描信号线16上)的平坦部分54(仅黑矩阵13的区域)的方式形成。由此，通过相对电极28和取向膜19，在彩色滤光片基板30的表面形成台阶部7和被该台阶部7包围的台座55，间隔物33配置在该台座55。另外，如图15、图17所示，在本液晶显示面板中，设置有从平坦部分54向四方(图中上下左右方向)延伸的非重叠部58h，由此，槽75从台座55向四方(图中上下左右方向)延伸地被形成，其深度与台阶部7的台阶大致相等。设置非重叠部58h和由其形成的槽75，是为了容易在台座55下形成取向膜。 

根据本液晶显示面板140，间隔物33配置在台座55中，间隔物33的移动通过台阶部7被限制，即使间隔物33由于面板的振动或对面板的冲击而移动，其移动量也被抑制得非常小。由此，能够提高单元间隙的均匀性。该效果在面板容易由于振动、冲击而弯曲(即，间隔物容易移动)的大型液晶显示面板中特别显著。 

[实施方式5] 

图18是表示本实施方式的液晶显示面板的一部分的平面图，图19是图18的线向视截面图。如图18所示，在本实施方式的液晶显示面板中，在各保持电容配线18上，用于设置间隔物33的台阶部27和凹陷88隔开间隔形成有多个。 

如图19所示，液晶显示面板150包括：有源矩阵基板3、彩色滤光片基板30、设置在两基板间的间隔物33、和被封入在由两基板(3、30)和设置在面板外周部的密封件(未图示)所包围的部分的液晶材料40。 

有源矩阵基板3包括透明基板31、扫描信号线16、保持电容配线18、栅极绝缘膜23、TFT(未图示)、层间绝缘膜51、像素电极17、和取向膜19。此处，在透明基板31上形成扫描信号线16和保持电容配线18，在这些配线(16、18)上形成栅极绝缘膜23。在栅极绝缘膜23上，形成构成晶体管的沟道的半导体层(未图示)、数据信号线(未图示)、晶体管的各电极(未图示)、漏极引出电极29，在这些配线和电极上形成层间绝缘膜51。此外，在该层间绝缘膜51上的与像素区域对应的位置形成由ITO构成的像素电极17，进而，以覆盖像素电极17的方式形成取向膜9。另外，在栅极绝缘膜23登上扫描信号线16等的部分所产生的台阶等，在附图上被忽略。 

此外，彩色滤光片基板30包括透明基板32、黑矩阵13、着色层14(R、G、B)、透明的相对电极28、和取向膜19。此处，在透明基板32上形成黑矩阵13和着色层14，以覆盖它们(13、14)的方式形成相对电极28。此外，在相对电极28上形成取向膜19。另外，R、G、B的各着色层14以与各像素区域对应的方式规则配置，在各着色层14的间隙处形成有黑矩阵13。 

此处，如图19所示，在层间绝缘膜51形成有成为接触孔的一部分的长方形形状的挖通部73，从而，像素电极17与漏极引出电极29连接，并且在有源矩阵基板3的表面形成长方形形状的凹陷88。台阶部27通过凹陷部88形成，间隔物33配置在该凹陷88。 

根据本液晶显示面板150，配置在凹陷88中的间隔物33通过台阶部27被限制其移动，因此，即使间隔物33由于面板的振动或对面板 的冲击而移动，其移动量也被抑制得非常小。由此，能够提高单元间隙的均匀性。该效果在面板容易由于振动、冲击而弯曲(即，间隔物容易移动)的大型液晶显示面板中特别显著。 

此外，因为利用连接像素电极17和漏极引出电极29的接触孔形成凹陷88，所以还具有能够省去以另外的工序形成凹陷88的工时的效果。 

而且，因为在液晶显示面板150中台阶部27的高位部与邻接区域为大致相同的高度，所以与台阶部的高位部高于邻接区域的情况相比较，还具有容易在凹陷88下形成取向膜的效果。 

此处，说明由上述彩色滤光片基板和有源矩阵基板制造液晶显示面板的方法。 

首先，在形成在彩色滤光片基板表面的凹陷中，通过以下的喷墨法设置间隔物。通过喷墨法将间隔物配置在规定位置的方法记载在日本国公开专利公报“日本特开昭57-58124”等中。 

即，从喷墨涂敷装置发射含有间隔物的异丙醇等液滴，击中凹陷。此处，间隔物是表面涂层有粘合剂的由合成树脂构成的球状的颗粒(直径约3μm)。之后，当墨(液滴)干燥时，间隔物通过其表面的粘合剂被固定在凹陷中。其中，粘合剂优选是热固化型的，在该情况下，在贴合两基板之前加热涂敷有间隔物的基板，使间隔物固接在基板上。 

关于液晶的封入方法，例如能够由真空注入法等方法进行：使热固化型密封树脂在基板周边设置一部分用于液晶注入的注入口，在真空下将注入口浸于液晶，通过开放大气注入液晶，之后由UV固化树脂等密封注入口。此外，也可以使用以下所述的液晶滴下贴合法。 

即，在有源矩阵基板侧的周围涂敷UV固化型密封树脂，在彩色滤光片基板上通过滴下法将最佳的液晶量规则地滴下至密封件的内侧部分。该滴下量根据单元间隙值和单元内应该填充液晶的容积值而决定。 

进而，为了贴合如上所述已进行密封描绘和液晶滴下的彩色滤光片基板和有源矩阵基板，将贴合装置内的气氛减压至1Pa，在该减压条件下进行基板的贴合，之后使气氛回到大气压。 

接着，对得到期望的单元间隙的构造体，通过UV固化装置进行 UV照射，进行密封树脂的临时固化。进而，为了进行密封树脂的最终固化，进行烘烤。在该时刻，液晶在密封树脂的内侧遍布，达到液晶填充在单元内的状态。通过在烘烤完成后分割构造体，完成液晶显示面板。 

在本实施方式中，如以下所述，构成本液晶显示组件和液晶显示装置。 

即，在已洗净的液晶显示面板的两面贴附偏光板。另外，根据需要，也可以在偏光板上叠层光学补偿片等。接着，如图22(a)所示，连接驱动器(栅极驱动器102、源极驱动器101)。此处，作为一个例子，说明以TCP(TapeCareerPackage：卷带式封装)方式连接驱动器的情况。首先，将ACF(AnisotoropiConduktiveFilm：各向异性导电膜)临时压接在液晶显示面板的端子部。接着，将带有驱动器的TCP从载带上冲下，定位在面板端子电极上，进行加热、正式压接。之后，由ACF连接用于连结驱动器TCP彼此的电路基板103(PWB：PrintedWiring board：印刷线路板)和TCP的输入端子。由此，完成液晶显示组件100。 

之后，如图22(b)所示，在液晶显示组件的各驱动器(101、102)上通过电路基板103连接显示控制电路113，与照明装置(背光源组件)104一体化，从而成为液晶显示装置110。 

接着，说明将本液晶显示装置应用于电视接收机时的一个结构例。图23是表示电视接收机用的液晶显示装置110的结构的框图。液晶显示装置110包括液晶显示组件100、Y/C分离电路80、视频(video)色度电路81、A/D转换器82、液晶控制器83、背光源驱动电路85、背光源86、微机(微型计算机)87、和灰度等级电路98。 

上述液晶显示组件100包括在上述各实施方式表示的液晶显示面板以及用于驱动它的源极驱动器和栅极驱动器。 

在上述结构的液晶显示装置110中，首先，作为电视信号的复合彩色视频信号Scv从外部输入Y/C分离电路80，在此分离成亮度信号和色信号。这些亮度信号和色信号通过视频色度电路81变换为与光的三原色对应的模拟RGB信号，进一步，该模拟RGB信号通过A/D转换器82变换为数字RGB信号。该数字RGB信号被输入液晶控制器83。 此外，在Y/C分离电路80，从由外部输入的复合彩色视频信号Scv中取出水平和垂直同步信号，这些同步信号也通过微机87被输入液晶控制器83。 

来自液晶控制器83的数字RGB信号与基于上述同步信号的定时信号一同在规定的定时输入液晶显示组件100。此外，在灰度等级电路98中，生成彩色显示的三原色R、G、B各自的灰度等级电压，将它们的灰度等级电压也供给至液晶显示组件100。在液晶显示组件100中，基于这些RGB信号、定时信号和灰度等级电压，利用内部的源极驱动器、栅极驱动器等生成驱动用信号(数据信号、扫描信号等)，基于这些驱动用信号在内部的显示部显示彩色图像。另外，为了通过该液晶显示组件100显示图像，需要从液晶显示组件100的后方照射光，在该液晶显示装置110中，在微机87的控制下，背光源驱动电路85驱动背光源86，从而对本液晶显示面板的背面照射光。 

包括上述处理，系统整体的控制通过微机87进行。另外，作为从外部输入的视频信号(复合彩色视频信号)，不仅是基于电视播放的视频信号，通过摄像机摄取的视频信号、通过网络线路供给的视频信号等也能够使用，在该液晶显示装置110中，能够进行基于各种视频信号的图像显示。 

在液晶显示装置110中显示基于电视播放的图像的情况下，如图24所示，调谐部90与液晶显示装置110连接，由此构成本电视接收机601。该调谐部90从由天线(未图示)接收的接收信号波(高频信号)中抽出应该接收的频道的信号并变换为中频信号，通过对该中频信号进行检波，取出作为电视信号的复合彩色视频信号Sc。该复合彩色视频信号Scv如上所述被输入液晶显示装置110，通过液晶显示装置110显示基于该复合彩色视频信号Scv的图像。 

图25是表示本电视接收机的一个结构例的分解立体图。如图25所示，本电视接收机601，作为其结构要素，除了液晶显示装置110之外还具有第一框体801和第二框体806，构成为由第一框体801和第二框体806包围并夹持液晶显示装置110。在第一框体801上形成有透过由显示装置110显示的图像的开口部801a。此外，第二框体806覆盖显示装置110的背面侧，设置有用于操作该显示装置110的操作用电 路805，并且下方安装有支承用部件808。 

本发明并不限定于上述各实施方式，在权利要求所表示的范围内能够进行各种变更，适当组合在不同的实施方式中分别公开的技术方法而得到的实施方式也包括在本发明的技术范围中。 

产业上的可利用性 

本发明的液晶显示面板和液晶显示装置适用于例如液晶电视机。 

Claims (19)

1.一种液晶显示面板，其包括：具有晶体管、像素电极和信号线的第一基板；液晶材料；和具有相对电极和遮光层的第二基板，该液晶显示面板的特征在于：

在所述第一和第二基板间设置有间隔物，

在所述第一和第二基板的至少一个中，以包围该间隔物的方式形成有用于限制所述间隔物的移动的台阶部，

所述台阶部通过第一基板表面的凹陷而形成，该凹陷通过将形成于第一基板的栅极绝缘膜局部地挖通或使其局部变薄而形成。

2.如权利要求1所述的液晶显示面板，其特征在于：

所述栅极绝缘膜由多个栅极绝缘层构成，该栅极绝缘层的至少一个被局部地挖通。

3.如权利要求1所述的液晶显示面板，其特征在于：

所述栅极绝缘膜包括有机物。

4.如权利要求1所述的液晶显示面板，其特征在于：

所述栅极绝缘膜包括丙烯酸树脂、环氧树脂、聚酰亚胺树脂、聚氨脂树脂、酚醛树脂和聚硅氧烷树脂中的至少一个。

5.如权利要求1所述的液晶显示面板，其特征在于：

所述台阶部与信号线重叠。

6.如权利要求1所述的液晶显示面板，其特征在于：

所述遮光层构成黑矩阵。

7.如权利要求1所述的液晶显示面板，其特征在于：

所述遮光层能够使用涂敷法形成。

8.如权利要求1所述的液晶显示面板，其特征在于：

在所述栅极绝缘膜的上层形成有层间绝缘膜。

9.如权利要求8所述的液晶显示面板，其特征在于：

所述层间绝缘膜由多个层间绝缘层构成，该层间绝缘层的至少一个被局部地挖通。

10.如权利要求5所述的液晶显示面板，其特征在于：

所述信号线是扫描信号线、数据信号线、保持电容配线的任一种。

11.如权利要求1所述的液晶显示面板，其特征在于：

在被所述台阶部包围的部分设置有多个间隔物。

12.如权利要求1所述的液晶显示面板，其特征在于：

所述间隔物为球状。

13.如权利要求1所述的液晶显示面板，其特征在于：

所述间隔物通过喷墨方式配置。

14.如权利要求1所述的液晶显示面板，其特征在于：

被所述台阶部包围的区域的面积根据配置在该区域中的间隔物的个数和各间隔物的大小而设定。

15.如权利要求14所述的液晶显示面板，其特征在于：

所述间隔物使用喷墨装置配置，

所述面积也根据喷墨装置的击中精度设定。

16.如权利要求1所述的液晶显示面板，其特征在于：

第一基板是有源矩阵基板，第二基板是彩色滤光片基板。

17.一种液晶显示组件，其特征在于，包括：

权利要求1所述的液晶显示面板和驱动器。

18.一种液晶显示装置，其特征在于，包括：

权利要求17所述的液晶显示组件和照明装置。

19.一种电视接收机，其特征在于，包括：

权利要求18所述的液晶显示装置、和接收电视播放的调谐部。

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