CN101538758A - 一种提花布及其制造工艺 - Google Patents

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沈汉镛
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Abstract

本发明涉及一种提花布及其制造工艺,其由超细旦锦纶单孔丝与棉纱包覆氨纶纱线交织而成,锦纶、棉纱及氨纶分别占提花布总重量的21%、71%和8%。提花布的制造工艺包括牵经、穿综和上机织造步骤,其中,牵经时,确保每一根经纱的张力均匀和保证经纱的平整度,牵经工艺参数为温度10~20℃,湿度≥60%,倾斜角度≤60°,所分层数≤7层,卷绕速度280~320米/分钟,卷绕长度≤5000米,织造在多臂龙头机上进行。本发明提花布具有闪光及波纹状的提花效果,布面带弹力,外观美妙,手感、垂感俱佳。

Description

一种提花布及其制造工艺
技术领域
本发明涉及一种提花布及其制造工艺。
背景技术
用经线、纬线错综地在织物上织出的图案称之为提花。提花是浮线组织,在花纹的地方形成浮线,其它地方正常成圈以形成花纹。提花组织可分为大提花和小提花,大提花是花状花纹,小提花是条状或格子等简单的几何花纹。现有技术中,提花布的经线和纬线均为棉纱,布面平板,缺乏鲜明突出的立体感,而且易皱。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是提供一种提花布,其有闪光及波纹状的提花效果,布面带弹力,外观美妙,手感、垂感俱佳。
本发明还要提供一种上述提花布的制造工艺。
为解决以上技术问题,本发明采取的一种技术方案是:
一种提花布,其由超细旦锦纶单孔丝与棉纱包覆氨纶纱线交织而成,其中,超细旦锦纶单孔丝作为经纱,棉纱包覆氨纶纱线作为纬纱,锦纶、棉纱及氨纶分别占提花布总重量的21%、71%和8%。
本发明的另一种技术方案是:
一种上述提花布的制造工艺,包括牵经、穿综和上机织造步骤,特别是,牵经时,确保每一根经纱的张力均匀和保证经纱的平整度,牵经工艺参数如下:
温度10~20℃,湿度≥60%,倾斜角度≤60°,所分层数≤7层,卷绕速度280~320米/分钟,卷绕长度≤5000米,
所述的织造在多臂龙头机上进行,织造参数为:转速小于等于450转/分钟,落布米数100~200米,经向密度310根/英寸,纬向密度127牙。
由于采取以上技术方案,本发明与现有技术相比具有如下技术效果:
超细旦锦纶单孔丝属于超细的纤维,此类纱线织出的面料不仅光泽鲜明,而且平整度好、手感好;棉纱包覆氨纶是一种常用的纱线,其既保持了棉纱的特性又增加了纱线的弹力。由超细旦锦纶单孔丝与棉纱包覆氨纶相交织构成的提花布具有闪光及波纹状的提花效果,布面带弹力,外观美妙,手感、垂感俱佳。
具体实施方式
下面结合实施例对本发明进行详细的说明,但并不限于此实施例。
一种提花布,其由超细旦锦纶单孔丝与棉纱包覆氨纶纱线交织而成,锦纶、棉纱及氨纶分别占提花布总重量的21%、71%和8%。
原料经过牵经、穿综、上机织造、染色和后整理制得所述的面料。其中:
牵经:牵经时每一根经纱的张力必须均匀,否则上机制成面料后,会导致布面有经流的出现。要保证牵经时经纱的平整度,否则平整度不够,也会导致坯布布面产生经流;牵经时倾斜角度也要控制准确,否则稍有不准确,就会使经纱上翘,影响坯布布面情况;条宽度要准确,否则会产生经纱重叠或经纱之间空隙太大等问题。经过了大量的实验,确定牵经时的主要的工艺参数如下:温度10~20℃,湿度≥60%,倾斜角度≤60°,所分层数≤7层,卷绕速度280~320米/分钟,卷绕长度≤5000米。
织造:织造是决定面料质量的关键组成部分。织造上出现任何问题,会直接反映到布面上。所以,在织造时控制好各个参数非常重要。上机织造时,角度、张力、主喷、副喷等各项技术参数都需要试验、调整后,才可以正常进行织造。通过大量试验,确定如下参数:转速小于等于450转/分钟,落布米数100~200米,经向密度310根/英寸,纬向密度127根/英寸。
后整理:主要为轧皱处理,轧成风格特别的竖皱。
由超细旦锦纶单孔丝与棉纱包覆氨纶相交织构成的提花布具有闪光及波纹状的提花效果,布面带弹力,外观美妙,手感、垂感俱佳。

Claims (2)

1、一种提花布,其特征在于:其由超细旦锦纶单孔丝与棉纱包覆氨纶纱线交织而成,其中,超细旦锦纶单孔丝作为经纱,棉纱包覆氨纶纱线作为纬纱,锦纶、棉纱及氨纶分别占提花布总重量的21%、71%和8%。
2、一种权利要求1所述的提花布的制造工艺,包括牵经、穿综和上机织造步骤,其特征在于:牵经时,确保每一根经纱的张力均匀和保证经纱的平整度,牵经工艺参数如下:
温度10~20℃,湿度≥60%,倾斜角度≤60°,所分层数≤7层,卷绕速度280~320米/分钟,卷绕长度≤5000米,
所述的织造在多臂龙头机上进行,织造参数为:转速小于等于450转/分钟,落布米数100~200米,经向密度310根/英寸,纬向密度127根/英寸。
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C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

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