CN101537604A - 软木精磨砂布 - Google Patents
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Abstract
软木精磨砂布,它涉及一种金属打磨抛光用的砂布,具体涉及一种精磨砂布。本发明是采用以下工艺步骤:1.放卷;2.浸渍;3.涂层;4.压光定型;5.卷绕;6.开卷宗打印商标;7.涂底胶;8.振动重力软木颗粒植砂;9.预干燥;10.涂覆胶及磨料;11.主干燥;12.收卷;13.放卷;14.涂覆胶;15.主干燥;16.固化;17.柔曲;18.分卷;19.入库。本发明具备耐水,打磨抛光性能好及防堵塞能力强等特点,特别在保持表面光洁度一致等方面比较突出,可适合需要冷却水进行的高速打磨。
Description
技术领域:
本发明涉及一种金属打磨抛光用的砂布,具体涉及一种精磨砂布。
背景技术:
目前国内高品级磨削材料用量面广量大,每年用量在2亿平方米左右,国内涂料磨具产品档次较低。特别在耐磨性,耐水性方面性能较差。缺少适用高速成磨削产品,特别是在耐水性能方面,国内所使用的耐水产品还停留在60年代水平基础上,具体表现为:(1)耐水性能,在水中浸泡后砂布整体发软,磨削效率低。(2)采用的醇酸树酯粘结的强度低,在使用中磨料容易脱落,耐磨性差。(3)所用的胶粘剂脆性大,砂布容易老化,放置二个月左右出现龟裂现象,严重影响使用性能。
发明内容:
本发明的目的是提供,它能够提供寿命长、耐水、打磨抛光性能及防堵塞能力好的精磨砂布,可根据需要用冷却水进行的高速磨削。为了解决背景技术所存在的问题,本发明是采用以下工艺步骤:1、放卷;2、浸渍;3、涂层;4、压光定型;5、卷绕;6、开卷宗打印商标;7、涂底胶;8、振动重力软木颗粒植砂;9、预干燥;10、涂复胶及磨料;11、主干燥;12、收卷;13、放卷;14、涂复胶;15、主干燥;16、固化;17、柔曲;18、分卷;19、入库。本发明中将软木颗粒粉碎成磨料形状,经处理后用粘剂将软木颗粒涂附在基体上,再把磨料混合在复胶中,将其涂附在软木颗粒的空隙中去,从而制成的一种由弹性的高速精磨砂布。本发明具备耐水,打磨抛光性能好及防堵塞能力强等特点,特别在保持表面光洁度一致等方面比较突出,可适合需要冷却水进行的高速打磨。本发明的使用寿命为普通砂布的14-15倍以上,能有效防止使用普通砂布磨削时工件表面发黑、表面光洁度不均匀的缺点。
具体实施方式:
本具体实施方式采用以下工艺步骤:1、放卷;2、浸渍;3、涂层;4、压光定型;5、卷绕;6、开卷宗打印商标;7、涂底胶;8、振动重力软木颗粒植砂;9、预干燥;10、涂复胶及磨料;11、主干燥;12、收卷;13、放卷;14、涂复胶;15、主干燥;16、固化;17、柔曲;18、分卷;19、入库。本发明中将软木颗粒粉碎成磨料形状,经处理后用粘剂将软木颗粒涂附在基体上,再把磨料混合在复胶中,将其涂附在软木颗粒的空隙中去,从而制成的一种由弹性的高速精磨砂布。本发明具备耐水,打磨抛光性能好及防堵塞能力强等特点,特别在保持表面光洁度一致等方面比较突出,可适合需要冷却水进行的高速打磨。本发明的使用寿命为普通砂布的14-15倍以上,能有效防止使用普通砂布磨削时工件表面发黑、表面光洁度不均匀的缺点。
Claims (1)
1、软木精磨砂布,其特征在于它采用以下工艺步骤:1、放卷;2、浸渍;3、涂层;4、压光定型;5、卷绕;6、开卷宗打印商标;7、涂底胶;8、振动重力软木颗粒植砂;9、预干燥;10、涂复胶及磨料;11、主干燥;12、收卷;13、放卷;14、涂复胶;15、主干燥;16、固化;17、柔曲;18、分卷;19、入库。
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Cited By (2)
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CN107932676A (zh) * | 2017-11-02 | 2018-04-20 | 袁锦鸿 | 一种木质材料抛光颗粒的制作方法 |
CN110900475A (zh) * | 2019-12-12 | 2020-03-24 | 江苏锋芒复合材料科技集团有限公司 | 一种柔韧性涂层砂布 |
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2008
- 2008-03-21 CN CN200810024403A patent/CN101537604A/zh active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN107932676A (zh) * | 2017-11-02 | 2018-04-20 | 袁锦鸿 | 一种木质材料抛光颗粒的制作方法 |
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CN110900475A (zh) * | 2019-12-12 | 2020-03-24 | 江苏锋芒复合材料科技集团有限公司 | 一种柔韧性涂层砂布 |
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Legal Events
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C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Open date: 20090923 |