CN101515512A - 一种制备CuW/Y2O3复相触头材料的方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种制备CuW/Y2O3复相触头材料的方法,该方法按以下步骤进行:按照质量比为1∶0.2%~1.0%称取钨粉和Y2O3粉,配制好后放入混料罐中;在混料罐中按钨粉、Y2O3粉总质量的5%~8%添加诱导铜粉,并且加入少量过程控制剂,加入非等径磨球进行混料;将混好的混合料倒入轴向压制的钢制模具内模压成钨压坯;将熔渗金属铜块与钨压坯叠置在一起,放入铺好石墨纸的石墨坩埚内,置于高温H2气氛烧结炉内,先后进行钨压坯骨架的烧结和熔渗即成。使用本发明方法制备的CuW/Y2O3复相触头材料,材料的耐烧蚀性能显著提高。
Description
技术领域
本发明属于材料制备技术领域,涉及一种制备CuW/Y2O3复相触头材料的方法。
背景技术
CuW合金应用于高压开关中的触头材料。随着高压开关向超特高电压、大容量方向发展,对CuW材料的性能提出了更高的要求,需要研制和开发新型的性能更为优异的CuW触头材料。
CuW合金触头在工作过程中,由于高压电弧的作用,触头表面发生加热、熔化、气化、流动、凝固等物理冶金过程,导致触头表面产生软化、喷溅、流动、裂纹等现象,因此,要求CuW触头材料除了具有良好的机械物理性能外,还应具有分散电弧的特性以减轻电弧的烧蚀性。
Y2O3陶瓷相具有比Cu、W较低的逸出功,因此在电击穿过程中可做为首先发射电子的部位,它在CuW组织中的弥散分布能起到分散电弧的作用;另一方面,在高温电弧作用下,由于铜相的熔化和挥发,材料强度则主要取决于钨骨架的高温强度,但钨高温强度随温度上升而显著下降,在1000℃时的强度只有室温强度的20%~40%,因此研制耐烧蚀性优良的CuW复相触头材料具有现实的需求。
发明内容
本发明的目的是提供一种制备CuW/Y2O3复相触头材料的方法,用该方法制备的含Y2O3的CuW复相触头材料在电击穿过程中,电弧在该材料表面得到有效分散,有效提高了CuW触头材料的耐烧蚀性。
本发明所采用的技术方案是,一种制备CuW/Y2O3复相触头材料的方法,该方法按以下步骤进行,
a、按照质量比为1∶0.2%~1.0%的比例称取钨粉和Y2O3粉,将所称的钨粉与Y2O3粉放入混料罐中;
b、按钨粉与Y2O3粉总质量的5%~8%称取诱导铜粉,将诱导铜粉添加到混料罐中;
c、在混料罐中加入工业酒精,使粉末有湿润感即可,按钨粉、Y2O3粉和诱导铜粉总质量的2~3倍加入非等径磨球进行混料,混料时间为5~7小时,得到混合料;
d、将步骤c混好的混合料倒入轴向压制的钢制模具内,在340±20MPa的压力下模压成钨压坯;
e、将熔渗金属铜块与步骤d得到的钨压坯叠置在一起,放入铺好石墨纸的石墨坩埚内,置于高温H2气氛烧结炉内,先进行钨压坯骨架的烧结,烧结温度为900℃~1000℃,烧结时间为1.5~2小时;再进行钨压坯骨架的熔渗,熔渗温度为1200℃~1400℃,熔渗时间为1.5~2小时即成。
本发明采用熔渗法制备添加Y2O3相的CuW复相触头材料,该方法得到的CuW/Y2O3复相触头材料具有优良的耐烧蚀性;该方法工艺简单,且易于控制。
附图说明
图1为CuW合金和含Y2O3的CuW合金的电导率对比曲线;
图2是现有的CuW触头材料进行50次电击穿后的SEM烧蚀形貌;
图3是用本发明的方法制备得到的含0.4%Y2O3的CuW复相触头材料进行50次电击穿后的烧蚀形貌;
图4是现有的CuW触头材料进行首次电击穿后的SEM组织照片;
图5是用本发明的方法制备得到的含0.4%Y2O3的CuW复相触头材料发生首次电击穿后的SEM组织照片。
具体实施方式
下面结合附图和具体实施例对本发明进行详细说明。
本发明制备CuW/Y2O3复相触头材料的方法,借鉴了溶渗法的一般原理,具体按以下步骤进行,
a、称取钨粉和Y2O3粉,其中钨粉与Y2O3粉的质量比为1∶0.2%~1.0%,配制好后放入混料罐中;其中混粉时将Y2O3粉添加在W粉中,易于硬质陶瓷相Y2O3颗粒在W粉中分布均匀。
b、在混料罐中,按钨粉与Y2O3粉总质量的5%~8%添加诱导铜粉,添加诱导铜粉一方面可以改善脆性粉末的成形性,使生坯中孔隙分布比较均匀;另一方面,在后续的熔渗过程中,多孔骨架中的诱导铜粉先熔化,在骨架内部形成连通孔隙,将待熔渗的金属液“诱”进骨架,这种内外金属液熔合为一体的驱动力将有利于熔渗过程的进行,从而提高材料的致密度。
c、在混料罐中加入少量易挥发的工业酒精溶剂,使粉末有湿润感即可,这样做可以提高粉末的流动性,降低不同元素粉料之间因密度不同而产生重力分离现象;同时为了使混和料进一步均匀化,可按钨粉、Y2O3粉、铜粉三者总质量的2~3倍加入非等径磨球进行混料,磨球直径分别为8mm和4mm,两种磨球的质量比为1∶1.4~1.6,混料时间控制在5~7小时,得到混合料。
d、将步骤c混好的混合料倒入轴向压制的钢制模具内,在315吨的液压机上,以340±20MPa的压力下模压成钨压坯(生坯)。
e、将熔渗金属铜块与钨压坯叠置在一起,放入铺好石墨纸的石墨坩埚内,置于高温H2气氛烧结炉内进行烧结及熔渗,先进行钨(压坯)骨架的烧结,烧结温度为900℃~1000℃,烧结时间为1.5~2小时;再进行钨压坯骨架的熔渗,熔渗温度为1200℃~1400℃,熔渗时间为1.5~2小时即成。在骨架烧结时由于Y2O3具有良好的高温稳定性,在烧结温度下既不会分解,也不会与烧结气氛、铜和钨发生化学反应或溶解,Y2O3弥散均匀地分布在钨颗粒间,减少了W颗粒间的接触几率,所以在高温长时间烧结钨骨架的过程中,可以有效地抑制W颗粒聚集长大而形成的孤立孔隙,使钨骨架具有分布均匀且相互贯通的开孔孔隙。在铜的熔化温度以下烧结1.5~2小时,可使W颗粒之间充分地形成烧结颈,使W骨架具有一定的强度,避免在后续熔渗过程中出现骨架坍塌现象。同时,在熔渗W骨架的过程中,由于Y2O3的添加,W骨架孔隙相互贯通,空间结构更为合理,在后续的熔渗过程中骨架对铜液的虹吸作用更强,铜液可顺利地渗入,避免了由于骨架闭孔而产生的孔隙缺陷。
实施例
按照上述的制备方法,选用下述表1中的有关工艺参数,来制备含Y2O3的CuW合金,十二个实施例的配比含量如表1所示,十二个实施例的工艺参数如表2所示。
表1十二个实施例的配比含量及工艺参数表
实施例 | 钨粉 | Y2O3粉 | 诱导铜粉(按钨粉、Y2O3粉总质量的) | 溶剂 | 直径为8mm和4mm的磨球质量比为 |
实施例1 | 1 | 0.2% | 5% | 工业酒精 | 1∶1.4 |
实施例2 | 1 | 0.7% | 5.5% | 工业酒精 | 1∶1.5 |
实施例3 | 1 | 0.4% | 6% | 工业酒精 | 1∶1.6 |
实施例4 | 1 | 0.5% | 7.5% | 工业酒精 | 1∶1.5 |
实施例5 | 1 | 0.6% | 7.8% | 工业酒精 | 1∶1.5 |
实施例6 | 1 | 0.8% | 7% | 工业酒精 | 1∶1.5 |
实施例7 | 1 | 0.4% | 6% | 工业酒精 | 1∶1.4 |
实施例8 | 1 | 1.0% | 6.5% | 工业酒精 | 1∶1.5 |
实施例9 | 1 | 0.3% | 8% | 工业酒精 | 1∶1.6 |
实施例10 | 1 | 0.4% | 6% | 工业酒精 | 1∶1.5 |
实施例11 | 1 | 1.0% | 8% | 工业酒精 | 1∶1.6 |
实施例12 | 1 | 0.2% | 5% | 工业酒精 | 1∶1.4 |
表2十二个实施例的工艺控制参数表
实施例 | 磨球质量(按钨粉、Y2O3粉、诱导铜粉总质量的倍数) | 混料时间小时 | 模压压力MPa | 烧结温度℃ | 烧结时间小时 | 熔渗温度℃ | 熔渗时间小时 |
实施例1 | 2.0 | 5.4 | 320 | 910 | 1.5 | 1250 | 1.8 |
实施例2 | 2.1 | 6.5 | 325 | 930 | 1.6 | 1280 | 1.6 |
实施例3 | 2.2 | 6.0 | 330 | 920 | 1.7 | 1350 | 1.8 |
实施例4 | 2.3 | 5.5 | 335 | 940 | 1.9 | 1400 | 1.7 |
实施例5 | 2.4 | 5.8 | 340 | 960 | 2.0 | 1200 | 1.5 |
实施例6 | 2.5 | 5.2 | 350 | 980 | 1.8 | 1300 | 1.5 |
实施例7 | 2.6 | 5.4 | 360 | 940 | 1.6 | 1320 | 1.6 |
实施例8 | 2.7 | 6.2 | 330 | 990 | 1.8 | 1300 | 1.7 |
实施例9 | 2.8 | 7.0 | 325 | 950 | 1.7 | 1360 | 1.9 |
实施例10 | 2.9 | 6.8 | 360 | 960 | 1.5 | 1320 | 2.0 |
实施例11 | 3.0 | 7.0 | 320 | 1000 | 2 | 1400 | 2.0 |
实施例12 | 2.0 | 5.0 | 340 | 900 | 1.5 | 1200 | 1.5 |
将上述十二个实施例制备得到的CuW/Y2O3合金材料在TDR-40A单晶炉内进行真空电击穿实验,将所制备的CuW/Y2O3复相触头材料抛光成镜面后作为阴极,用直径为3的针尖状纯W棒作为阳极,两极间施加电压8kV的直流电压,同时使阴极试样以0.2mm/min的速度缓慢地接近阳极,直至两极间发生电击穿;每次击穿之后,拉大阴极与阳极之间的距离。重复上述过程,每个试样测试50次,观察进行50次真空击穿后的电弧烧蚀形貌,试验证明,所有实施例的试样全部实现了电弧的有效分散。
下面仅通过实施例3所制备的含0.4%Y2O3的CuW合金与现有CuW合金的有关性能及烧蚀后形貌照片进行对比,说明本发明方法制备出的含Y2O3的CuW合金抗电弧烧蚀方面的优势:
图1为CuW合金和含Y2O3的CuW合金的电导率,硬度随TiC含量的变化曲线,可以看出,当Y2O3添加量为0.4%时,Y2O3/CuW材料的硬度和电导率分别达到最佳值HB230,46.9%(IACS%),与现有的CuW合金相比,在其电导率没有任何损失的情况下,硬度值提高了8%,满足了作为电触头材料在静态使用条件下对电导率,硬度的要求。
图2和图3分别为CuW合金和添加0.4%Y2O3的CuW复相触头材料在电压为8kV的条件下,在电击穿50次后的电弧烧蚀形貌。可以看出,图1中正对阳极钨针处的中央区域烧蚀较为严重,此处的原始显微组织已变得粗糙和模糊。与图2相比,图3中添加Y2O3的CuW复相触头材料正对阳极钨针处烧蚀情况较轻微,烧蚀表面总体上比较平坦,且烧蚀面积较小。同时还可以看出,图3中添加0.4%Y2O3的CuW复相触头材料的击穿区域有向周围扩展的趋势,表明该材料表面的电弧有一定程度的分散特性。
图4和图5分别为CuW触头材料和添加0.4%Y2O3的CuW复相触头材料发生首次电击穿后的SEM照片。从图4中可以看出,CuW触头材料表面首次电击穿主要发生在富铜区域,产生了大片铜液的激烈喷溅,击穿坑较大,熔化飞溅出的铜液沉积在材料表面凝固后,形成图中亮白色的凸起颗粒(10μm左右)。在图5中,CuW复相触头材料首次电击穿后的阴极斑点表现出分散特性,而不是集中发生在富铜区。可见,由于逸出功较低的Y2O3颗粒的弥散分布,电弧得到有效分散,从而提高了材料的耐电弧烧蚀性能。
Claims (2)
1、一种制备CuW/Y2O3复相触头材料的方法,其特征在于,该方法按以下步骤进行,
a、按照质量比为1∶0.2%~1.0%的比例称取钨粉和Y2O3粉,将所称的钨粉与Y2O3粉放入混料罐中;
b、按钨粉与Y2O3粉总质量的5%~8%称取诱导铜粉,将诱导铜粉添加到混料罐中;
c、在混料罐中加入工业酒精,使粉末有湿润感即可,按钨粉、Y2O3粉和诱导铜粉总质量的2~3倍加入非等径磨球进行混料,混料时间为5~7小时,得到混合料;
d、将步骤c混好的混合料倒入轴向压制的钢制模具内,在340±20MPa的压力下模压成钨压坯;
e、将熔渗金属铜块与步骤d得到的钨压坯叠置在一起,放入铺好石墨纸的石墨坩埚内,置于高温H2气氛烧结炉内,先进行钨压坯骨架的烧结,烧结温度为900℃~1000℃,烧结时间为1.5~2小时;再进行钨压坯骨架的熔渗,熔渗温度为1200℃~1400℃,熔渗时间为1.5~2小时即成。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述步骤c中非等径磨球直径分别为8mm和4mm,两种磨球的质量比为1∶1.4~1.6。
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