CN101474770A - 反推式对转刷水下除污装置 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种用于水下除污反推式对转刷装置,该装置由叶轮、叶轮腔、壳体、入水管、排水孔、壳体盖板和钢丝刷组成,水流经进入管进入本发明装置的壳体内,通过两个叶轮腔上的呈镜像的缝隙进入叶轮腔,从而推动叶片带动叶轮轴转动,叶轮轴带动钢丝刷转动,两组钢丝刷形成对转,水流从排水孔排出,形成一个反作用力,使该装置紧贴在除污体表面。本发明结构简单、易于制造,使用方便,无需人到水下进行清洗操作。
Description
所属技术领域
本发明涉及一种用于水下除污反推式对转刷装置。
技术背景
以水下船体表面除污为例,新船下水后,船底和船体两侧水面以下部分会附着海洋生物,增加了船舶在航行时的阻力。目前的解决办法有两种:1、人工刷洗;2、用大型的专用刷洗设备。但是人工刷洗劳动强度大,而且船体表面的油漆含有对人体有害的化学物质,对人的健康不利;专用的刷洗设备造价高,船体前后无法刷洗,而且易使船体带有磁性,影响磁罗经的工作。
发明内容
本发明的目的是提供一种成本低廉、使用方便的水下清洗装置。
本发明的原理是:水流经入水管进入本发明装置的壳体内,通过两组叶轮腔上的镜像缝隙进入叶轮腔,从而推动叶片带动叶轮轴转动,叶轮轴带动两组钢丝刷对转,水流从背对清洗表面的排水孔喷出,形成一个反作用力,使清洗的钢丝刷紧贴在被清洗物体的表面。
本发明的技术方案是:本发明由叶轮1、叶轮腔2、壳体3、入水管4、排水孔5、壳体盖板8和钢丝刷9组成,壳体3上连接有入水管4,壳体3与入水管4相通,壳体内部设有两个叶轮腔2,每个叶轮腔2上带有与叶轮腔2垂直方向呈40°~85°的缝隙10,两个叶轮腔2上的缝隙10方向呈镜像,叶轮1固定在叶轮腔2内,叶轮1由叶轮轴6和叶片7构成,壳体盖板8与壳体3通过法兰盘螺栓连接,钢丝刷9位于盖板8外部,并且固定在叶轮轴6上,与叶轮1同轴转动,排水孔5位于背对钢丝刷9的壳体上。水流经进入水管4进入壳体3内,再由叶轮腔2上的缝隙10进入叶轮腔2,从而推动叶片7带动叶轮轴6转动,同时带动钢丝刷9转动,两组叶轮轴6形成对转,从而带动叶轮1和钢丝刷9同时对转,从排水孔5排出的水流形成一个反作用力,推动装置紧贴在船体表面。
本发明的有益效果是:本发明结构简单、易于制造,使用方便,无需到水下进行操作。
附图说明
下面结合附图和实施方式对本发明作进一步的说明,但并不影响本发明的保护范围。
图1为本发明的立体图。
图2为本发明的剖面图。
图3为本发明的后视图。
图4为本发明的叶轮结构示意图。
图中:1、叶轮,2、叶轮腔,3、壳体,4、入水管,5、排水孔,6、叶轮轴,7、叶片,8、壳体盖板,9、钢丝刷,10缝隙。
具体实施方式
如图1-4所示,本发明由叶轮1、叶轮腔2、壳体3、入水管4、排水孔5、壳体盖板8、钢丝刷9组成,壳体3上连接有入水管4,壳体3与入水管4相通,壳体内部设有两个叶轮腔2,每个叶轮腔2上带有与叶轮腔2垂直方向呈40°~85°的缝隙10,两个叶轮腔2上的缝隙10方向呈镜像,叶轮1固定在叶轮腔2内,叶轮1由叶轮轴6和叶片7构成,壳体盖板8与壳体3通过法兰盘螺栓连接,钢丝刷9位于盖板8外部,并且固定在叶轮轴6上,与叶轮1同轴转动,排水孔5位于背对钢丝刷9的壳体上。
Claims (1)
1、反推式对转刷水下除污装置,其特征在于,该装置由叶轮(1)、叶轮腔(2)、壳体(3)、入水管(4)、排水孔(5)、壳体盖板(8)和钢丝刷(9)组成,壳体(3)上连接有入水管(4),壳体(3)与入水管(4)相通,壳体(3)内部设有两个叶轮腔(2),叶轮腔(2)上带有与叶轮腔(2)垂直方向呈40°~85°的缝隙(10),两个叶轮腔(2)上的缝隙(10)方向呈镜像,叶轮(1)固定在叶轮腔(2)内,叶轮(1)由叶轮轴(6)和叶片(7)构成,壳体盖板(8)与壳体(3)通过法兰盘螺栓连接,钢丝刷(9)位于盖板(8)外部,并且固定在叶轮轴(6)上,排水孔(5)位于背对钢丝刷(9)的壳体上。
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Publications (1)
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2009
- 2009-01-17 CN CNA2009100101891A patent/CN101474770A/zh active Pending
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Open date: 20090708 |