CN101394899A - 二相研磨性牙膏组合物 - Google Patents

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Abstract

牙膏组合物，包含当从容器中分配时相互接触的第一制剂和第二制剂，第一牙膏制剂包含X％重量的研磨剂(A)，所述研磨剂(A)具有致使其光透射率从0到70％的散射中心浓度，并且第二组合物包含重量比0到0.9X的研磨剂(B)，所述研磨剂(B)具有致使其光透射率从0到70％的散射中心浓度。

Description

二相研磨性牙膏组合物
本发明涉及包含研磨剂的多成分牙膏组合物。
WO 99/55297(Colgate)公开了二组分洁齿剂，其中每种组分均包含硅质研磨剂。
US-B1-6 346 235(Colgate)公开了二组分牙膏，包含硅石研磨剂。
EP-A-0 397 452(Beecham)公开了包含研磨剂的牙膏组合物。
WO 99/39685(Unilever)公开了二组分牙膏，其中两个分开的相从同一容器中分配，两者都包含硅石研磨剂。
WO9 9/63960(P&G)公开了包含硅石的牙膏，所述硅石具有特定的折射率并且牙膏具有透明的外观。
US 2005/0163727(Doyle)公开了包含牙研磨剂的两相组合物。
EP-A-0 740 932(Unilever)公开了包含硅石的视觉透明的凝胶。
GB 1 271 944(Beecham)公开了带条纹的牙膏组合物。
US 6 682 717(Alcan)公开了包含研磨性成分的牙齿护理组合物。
US 6 521 216(P&G)公开了包含研磨剂的二组分牙膏。
尽管有这些现有技术，仍然需要有包含改进的研磨性系统的改进口用组合物，所述研磨性系统具有更好视觉外观。
因此，本发明提供了牙膏，其使包含的研磨剂提供的清洁效果最大化，同时使制剂中由于它们的存在产生的限制性效果最小化，特别是它们对于透明的凝胶的乳浊作用。
因此，本发明提供了包含当从容器中分配时相互接触的第一制剂和第二制剂的牙膏组合物，第一牙膏制剂包含X％重量的研磨剂(A)，所述研磨剂(A)具有致使其光透射率从0到70％的散射中心浓度，并且第二组合物包含0.1到0.9X重量比的研磨剂(B)，所述研磨剂(B)具有致使其光透射率从0到70％的散射中心浓度。
优选的，第二组合物包含0.2到0.7，更优选0.4到0.6并且特别优选0.5X的研磨剂B。
优选的，X是第一制剂的重量的1到5％，更优选2到4％并且特别是第一制剂的重量的3％。
散射中心是粒子中将光散射并且因此降低通过其的光量的点。其可通过非常简单的测量通过牙膏的液相中的研磨剂混合物的光的透射而测得。这可通过将一定量的液相中研磨剂置于试管中而获得，对于透明的凝胶，所述研磨剂由重量比例90∶10的含水山梨醇(在水中70％)和水组成。典型的，0.5g研磨剂与12g的70％山梨醇的水溶液混合，在589nm下测量光透射。
优选的，第一制剂中的研磨剂(A)具有致使其光透射率为0到50％更优选10到40％的散射中心浓度。优选的，第二制剂中的研磨剂(B)具有致使其光透射率为0到50％更优选10到40％的散射中心浓度。
优选的，第二制剂中的研磨剂(B)与研磨剂(A)相同。
优选的，第二制剂是视觉透明的凝胶。视觉透明意味着具有20∶20的视力的人可透过装有制剂的1ml试管分辨出12号的Times Roman字体(font)。
优选的，牙膏组合物的第一制剂占组合物体积的2到40％，更优选5到15％并且最优选8到12％。利用降低水平的第一制剂允许制剂者更灵活的利用第二，和任何进一步的制剂，其中研磨剂内含物的负面效应可降低到最小。
优选的，第一制剂中的研磨剂(A)选自研磨性硅石，碳酸钙，焦磷酸钙，煅烧氧化铝，碳化钨，珍珠岩，碳化硅，聚丙烯，聚碳酸酯，磷酸二钙，羟磷灰石，三偏磷酸盐，不溶六偏磷酸盐和其混合物。更优选的，第一制剂中的研磨剂是研磨性硅石，珍珠岩，碳化硅或碳化钨。最优选的，其是基于硅石的研磨剂，例如从Ineos Silicas可获的AC33。
优选的，第二制剂中的研磨剂(B)选自研磨性硅石，碳酸钙，焦磷酸钙，煅烧氧化铝，碳化钨，珍珠岩，碳化硅，聚丙烯，聚碳酸酯，磷酸二钙，羟磷灰石，三偏磷酸盐，不溶六偏磷酸盐和其混合物。更优选的，第一制剂中的研磨剂是研磨性硅石，珍珠岩，碳化硅或碳化钨。最优选的，其是可获自Ineos Silicas的基于硅石的研磨剂。
优选的，组合物是带条纹的牙膏组合物，并且所述条纹包含了第一制剂。因此，通过在第一制剂中储存大多数(bulk)研磨剂获得的益处可与带条纹组合物提供的更好的视觉相结合。优选的，通过利用多个条纹，浓缩的研磨剂可在组合物中作为一个整体铺展，以避免将浓缩的磨损材料呈递到牙齿表面。
优选的，当从容器中分配，第一制剂同轴地位于第二制剂之中。同轴表示沿着分配的膏体的第一制剂的长度的平均中心线基本上与全部分配的膏体的平均中心线接近。术语同轴不意味着表现任何数学精确度。这防止了使用者将浓缩的研磨剂铺展到牙齿表面，并且也提供给使用者表现为完全透明的牙膏，不透明的核隐藏在凝胶带中。
优选的，第一制剂和第二制剂具有在40℃下基本上类似的粘度(以5rpm的RV-TD)。基本上类似表示粘度保持在彼此的10000cps之内。
牙膏还可包含进一步的研磨剂，只要它们不对牙膏的外观产生不利影响。优选进一步的研磨剂包括具有与基于含水山梨醇的组合物的折射率匹配的折射率的任何研磨剂。这通常已知为低折射率硅石。在本发明中用作研磨剂的低折射率硅石是具有与含水山梨醇基料的折射率匹配的折射率的硅石，所述含水山梨醇基料具有1.41-1.47，优选1.435-1.445的表观折射率，优选具有5到15μm的重量平均的粒子大小，10到100m2/g的BET(氮)表面积和大约70-150cm3/100g的吸油率。
具有1.435到1.445之间的R.I.的适当的低折射率研磨性硅石的典型例子是Tixosil 63和73，来自Rhone Poulenc；Sident 10，来自Degussa；Zeodent113，来自Zeofinn；具有大约1.440的R.I.的Sorbosil AC 77，来自Ineos。进一步的例子可在EP-A-0,549,287(Colgate)和WO 94/10087(Crosfield)中找到，其在此引入作为参考。这些硅石在组合物中的量一般可以是5-60％重量，通常为5-20％重量。
第二制剂的液相应该以如上所述致使其折射率与硅石折射率紧密匹配的方式配制。液相通常包含水和湿润剂，后者通常是山梨醇或甘油。水具有1.333的RI，山梨醇(70％水溶液)具有1.457的RI并且甘油RI为1.473。其他的湿润剂例如丙二醇，聚丙二醇和聚乙二醇也可存在。液相的折射率可从组分的各自折射率中计算。这种类型最优选的研磨剂是可获自Ineos Silicas的AC77。
根据本发明的口用组合物进一步包含本领域通常的成分，例如：
抗微生物试剂，例如三氯生，氯己定，铜-，锌-和亚锡盐例如柠檬酸锌，硫酸锌，氨基乙酸锌，柠檬酸锌钠和焦磷酸亚锡，血根碱提取物，灭滴灵，季铵化合物，例如十六烷基氯化吡啶鎓；双胍(bis-guanides)，例如二葡萄糖酸氯己定，海克替啶，奥替尼啶，双胍啶；和卤化双酚化合物，例如2，2′亚甲基双-(4-氯-6-溴苯酚)；
抗炎试剂，例如布洛芬，氟比洛芬，阿司匹林，消炎痛等；
抗龋试剂，例如氟化钠和氟化亚锡，胺氟化物，单氟磷酸钠，三偏磷酸钠和酪蛋白；
齿菌斑缓冲剂，例如尿素，乳酸钙，甘油磷酸钙和聚丙烯酸锶；
维生素，例如维生素A，C和E；
植物提取物；
脱敏试剂，例如柠檬酸钾，氯化钾，酒石酸钾，重碳酸钾，草酸钾，柠檬酸钾和锶盐；
抗结石试剂，例如碱-金属焦磷酸盐，含次磷酸盐聚合物，有机膦酸盐和含磷柠檬酸盐(phosphocitrate)等；
生物分子，例如细菌素，抗体，酶等；
调料，例如薄荷油和荷兰薄荷油；
蛋白质原料，例如胶原质；
防腐剂；
乳浊剂；
着色剂；
pH-调节试剂；
甜味剂；
药学上可接受载体，例如淀粉，蔗糖，水或水/醇系统等；
表面活性剂，例如阴离子，非离子，阳离子和两性离子或两性表面活性剂；
湿润剂，例如甘油，山梨醇，丙二醇，木糖醇，乳糖醇等；
粘合剂和增稠剂，例如羧甲基纤维素钠，黄原胶，阿拉伯胶等，以及合成的聚合物例如聚丙烯酸酯和羧乙烯基聚合物例如Carbopol
Figure A200780007461D0006193632QIETU
；
可增强活性成分例如抗微生物试剂的递送(delivery)的聚合化合物也可被包括。所述聚合物的例子是聚乙烯基甲基醚和马来酸酐的共聚物和其他类似的递送增强聚合物，例如描述于DE-A-3,942,643(Colgate)中的那些。
为缓冲口用护理组合物的pH和离子强度的缓冲剂和盐；以及
其他可包括的任选组分是，例如漂白试剂，例如过氧化合物如过氧二磷酸钾，起泡系统例如碳酸氢钠/柠檬酸系统，变色系统，等。
脂质体也可能用于增进活性组分的递送或稳定性。
本发明的实施方式现将参考下面非限制性实施例进行描述。
实施例
下面的牙膏制剂利用已知方法制造。
 
90％ 10％
成分 ％基料 ％条纹
水 9.82728 8.63
70％(aq)山梨醇 63 63
聚乙二醇(PEG 32) 4 4
氟化钠 0.32 0.32
甜味剂 0.25 0.25
二氧化钛 0 0.5
着色剂 0.00072 0
着色剂 0.002 0
增稠性硅石 9 8.5
研磨性硅石(AC77) 8 8
研磨性硅石(AC33) 1.5 3
纤维素粘合剂 0.9 0.9
十二烷基硫酸钠 1.8 1.8
调料 1.1 1.1
调料 0.3
100 100

Claims (9)

1.牙膏组合物，包含当从容器中分配时相互接触的第一制剂和第二制剂，第一牙膏制剂包含X％重量的研磨剂(A)，所述研磨剂(A)具有致使其光透射率为0到70％的散射中心浓度，并且第二组合物包含0.1到0.9X重量比的研磨剂(B)，所述研磨剂(B)具有致使其光透射率为0到70％的散射中心浓度。
2.根据权利要求1的牙膏组合物，其中第一制剂占组合物体积的2到40％。
3.根据权利要求1或2的牙膏组合物，其中第一制剂占组合物体积的5到15％。
4.根据前述任一权利要求的牙膏组合物，其中第一制剂中的研磨剂选自研磨性硅石，碳酸钙，焦磷酸钙，煅烧氧化铝，碳化钨，碳化硅，聚丙烯，聚碳酸酯，和其混合物。
5.根据前述任一权利要求的牙膏组合物，其中第二制剂中的研磨剂选自研磨性硅石，碳酸钙，焦磷酸钙，煅烧氧化铝，碳化钨，碳化硅，聚丙烯，聚碳酸酯，和其混合物。
6.根据前述任一权利要求的牙膏组合物，其中第一制剂中的研磨剂是基于硅石的研磨剂。
7.根据前述任一的权利要求的牙膏组合物，其中第二制剂中的研磨剂是基于硅石的研磨剂。
8.根据前述任一权利要求的牙膏组合物，其中组合物是带条纹的牙膏组合物并且所述条纹包含第一制剂。
9.根据前述任一权利要求的牙膏组合物，其中当从容器分配时，第一制剂同轴地位于第二制剂之中。
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