CN101380673A - 铝熔体铸造用分流漏斗 - Google Patents

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唐剑
陈无限
李成利
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Southwest Aluminum Group Co Ltd
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Southwest Aluminum Group Co Ltd
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Abstract

本发明公开了一种铝熔体铸造用分流漏斗,其特征在于采用insural 140材质。这种漏斗耐高温长时间烘烤性能好可有效去除结晶水、不易产生裂纹不易掉渣,且通过自身浮力实现结晶器内铝液供流流量及结晶器内液面的自动控制,铸造过程控供流平稳,因而可减少铸锭夹渣,提高铸锭质量。

Description

铝熔体铸造用分流漏斗
技术领域
本发明涉及铝熔体铸造用部件,具体来说是铸造用的分流漏斗。
背景技术
分流漏斗是铝熔体铸造时用的一个关键部件,目前的分流漏斗采用粘土制成,这种粘土分流漏斗存在的缺陷是:材质较为疏散,强度不高,使用时易掉渣,而且还容易产生裂纹,结晶水含量高且因耐高温强度差而不易去除,所以易造成铸锭夹渣,影响了产品质量。另外,这种漏斗在使用过程中铝熔体流动不稳定,易形成紊流,翻滚的熔液还容易从上部的通孔冒出。
发明内容
本发明的目的就在于提供一种新型的铝熔体铸造用分流漏斗,这种漏斗采用新的材料,解决了目前的粘土材质存在的易产生裂纹、掉渣、不能高温长时预热去除结晶水问题。
本发明采用如下方案:一种铝熔体铸造用分流漏斗,其特征在于采用insural 140材质。
本发明的分流漏斗顶部的通孔采用上大下小的漏斗状,以使熔液供流全密封,提高操作便捷性,使分流漏斗能快速放入结晶器内液穴中,使供控流平衡状态尽快形成。
本发明的分流漏斗的分流槽的宽度为70~120mm,高度为50~100mm,通过控制分流槽的宽度和高度实现控制分流槽内铝液深度、分流紊流,分散化解供流落差冲击动能,减少分流冲击,使铝熔体供流落差造成的冲击翻滚高度控制在液面以下,避免液面氧化膜及液面上方空气因落差供流或分流冲击翻滚超过液面卷入铝熔体内,保持液面氧化膜的完整性。
本发明的这种铝熔体铸造用分流漏斗,采用insural 140材质,相对于原来的粘土材料的漏斗,这种漏斗不易产生裂纹、不易掉渣、可耐高温长时间烘烤有效去除结晶水,因而可减少铸锭夹渣,提高铸锭质量。
附图说明
图1为本发明的铝熔体铸造用分流漏斗的结构示意图。
图2为图1的A—A剖视图。
图3为图1的俯视图。
具体实施方式
下面结合附图和具体实施例对本发明作进一步说明,以助于理解本发明的内容。
如图1至图3所示,是本发明的铝熔体铸造用分流漏斗1,采用insural 140材料制成,insural 140可以由派罗特克公司购进,以这种材料制成的分流漏斗为粘铝、耐高温且强度高,使用过程中不产生掉渣和裂纹、结晶水污染铝液,保证了不会因漏斗材料问题造成铝铸锭的夹渣。
分流漏斗的分流槽的宽度w为70~120mm,高度h为50~120mm。通过适当增加分流槽的宽度和高度,增大了分流槽的流通面积、分流槽内铝液深度,能够达到分别控制分流槽内铝液深度、分流紊流情况的效果,以分散化解供流落差冲击动能,减少分流冲击,使铝熔体供流落差造成的冲击翻滚高度控制在液面以下,避免液面氧化膜及液面上方空气因落差供流或分流冲击翻滚超过液面卷入铝熔体内,保持液面氧化膜的完整性;合理的分流槽高度、宽度有利于减小结晶器内液穴温度梯度,液穴底部更平坦,结晶器边部铝液温度提高,因此即使有液面氧化膜及液面上方空气卷入也可充分移动至结晶器边部而不卷入铸锭内。
如图2所示,分流漏斗1顶部的通孔2采用上大下小的漏斗状,此设计功能主要是方便操作、提高密封性,提高操作便捷性,使漏斗能快速放入结晶器内液穴中,使供控流平衡状态尽快形成。

Claims (3)

1、一种铝熔体铸造用分流漏斗,其特征在于采用insural 140材质。
2、如权利要求1所述的铝熔体铸造用分流漏斗,其特征在于:分流漏斗顶部有通孔,通孔采用上大下小的漏斗状。
3、如权利要求1或2所述的铝熔体铸造用分流漏斗,其特征在于:分流漏斗的分流槽的宽度为70~120mm,分流槽的高度为50~100mm。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101837449B (zh) * 2010-05-13 2012-02-29 西南铝业(集团)有限责任公司 一种铝合金锭铸造液位-液流分配漏斗
CN104475692A (zh) * 2015-01-09 2015-04-01 苏州诺瑞达新材料科技有限公司 一种铝水流槽及制作工艺

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SE01 Entry into force of request for substantive examination
C12 Rejection of a patent application after its publication
RJ01 Rejection of invention patent application after publication

Open date: 20090311