CN101345272A - 制备太阳盲紫外探测器的方法 - Google Patents

制备太阳盲紫外探测器的方法 Download PDF

Info

Publication number
CN101345272A
CN101345272A CNA2008100510988A CN200810051098A CN101345272A CN 101345272 A CN101345272 A CN 101345272A CN A2008100510988 A CNA2008100510988 A CN A2008100510988A CN 200810051098 A CN200810051098 A CN 200810051098A CN 101345272 A CN101345272 A CN 101345272A
Authority
CN
China
Prior art keywords
rete
magnesium
mgzno
ultraviolet detector
film layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CNA2008100510988A
Other languages
English (en)
Other versions
CN100565941C (zh
Inventor
鞠振刚
张吉英
单崇新
申德振
姚斌
赵东旭
张振中
李炳辉
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Changchun Institute of Optics Fine Mechanics and Physics of CAS
Original Assignee
Changchun Institute of Optics Fine Mechanics and Physics of CAS
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Changchun Institute of Optics Fine Mechanics and Physics of CAS filed Critical Changchun Institute of Optics Fine Mechanics and Physics of CAS
Priority to CNB2008100510988A priority Critical patent/CN100565941C/zh
Publication of CN101345272A publication Critical patent/CN101345272A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN100565941C publication Critical patent/CN100565941C/zh
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P70/00Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
    • Y02P70/50Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product

Landscapes

  • Chemical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

本发明涉及紫外探测器的制备方法,特别是一种制备太阳盲紫外探测器的方法,采用金属有机化学气相沉积法在蓝宝石衬底上制备氧锌镁膜层,在该氧锌镁膜层上再蒸镀Au膜层,用湿法刻蚀Au膜层制备出叉指形电极,所述的氧锌镁膜层是在以下工艺条件下获得的具有单一立方相的、其吸收边从220nm到260nm的MgZnO薄膜:生长温度为300℃~500℃,生长室真空度为2×104Pa,载气为99.9999%高纯氮气,以二茂镁作为镁源,二乙基锌作为锌源,通过流量控制使生长室中的Zn、Mg摩尔浓度比为Zn/Mg=0.4~1,氧气压力为2.5×105Pa、流量为550ml/min。本发明方法所获得的立方相MgZnO合金薄膜,不出现分相,具有很好的重复性;其紫外/可见抑制比大于3个量级,光响应截止边在230-280nm连续可调。

Description

制备太阳盲紫外探测器的方法
技术领域
本发明涉及紫外探测器的制备方法,特别是一种对太阳盲紫外波段有响应的紫外探测器的制备方法。
背景技术
目前紫外探测技术已成为军民两用的探测技术,尤其在紫外告警、紫外制导方面有广泛应用。目前,在制备导弹预警探测器中迫切需要在220nm到280nm波段有响应并且在280nm附近具有吸收边的材料,MgZnO晶体薄膜作为新兴的半导体光电材料,引起人们的极大兴趣,理论上可以实现吸收边从160nm到375nm连续可调,近年来人们在ZnMgO紫外探测器方面进行了许多研究工作,美国马里兰大学曾报道立方ZnMgO MSM结构紫外探测器光响应截止边为230nm,但在长于230nm和接近280nm之间的MgZnO太阳盲波段探测器国际上还未有报道。这主要是由于带边在太阳盲波段(220-280nm)的MgZnO很容易形成结构分相,所以至今还没有吸收边和截止边位于这个波段的MgZnO薄膜和其紫外探测器的报道.尤其是利用金属有机化学气相沉积(MOCVD)方法生长立方相MgZnO薄膜还未见报道。
发明内容
本发明的目的是提出一种制备太阳盲紫外探测器的方法,以获得具有单一立方相的、其吸收边从220nm到260nm的MgZnO薄膜层的紫外探测器。
本发明提出了一种制备太阳盲紫外探测器的方法,包括以下步骤:采用金属有机化学气相沉积(MOCVD)法在蓝宝石衬底上制备氧锌镁膜层,在该氧锌镁膜层上再蒸镀Au膜层,用湿法刻蚀Au膜层制备出叉指形电极,其特点在于,所述的氧锌镁膜层是在以下工艺条件下获得的具有单一立方相的、其吸收边从220nm到260nm的MgZnO薄膜:
生长温度为300℃~500℃,生长室真空度为2×104Pa,载气为99.9999%高纯氮气,以二茂镁作为镁源,二乙基锌作为锌源,通过流量控制使生长室中的Zn、Mg摩尔浓度比为Zn/Mg=0.4~1,氧气压力为2.5×105Pa、流量为550ml/min。
本发明利用MOCVD方法制备其截止边从230到280nm的日盲紫外波段MgZnO探测器的方法,具有以下特点:
1.通过MOCVD方法可以较为容易的制备具有立方相MgZnO合金薄膜,其吸收波段从220nm到260nm,而且不出现分相,具有很好的重复性;
2.采用本发明方法制备的MgZnO探测器,其紫外/可见抑制比大于3个量级,光响应截止边在230-280nm连续可调,这对于导弹预警具有极高的应用价值。
具体实施方式
通过以下实施例对本发明方法作进一步说明。
实施例1
在MOCVD设备上,采用C面蓝宝石为衬底,以二茂镁作为镁源,二乙基锌作为锌源,载气为99.9999%高纯氮气,按以下工艺条件制备单一立方相MgZnO薄膜:
衬底温度为450℃,生长室真空度为2×104Pa,氧气流量为550ml/min(压力2.5×105Pa),通过流量控制使生长室中的Zn、Mg摩尔浓度比为Zn/Mg=0.4,获得结构式为Mg0.7Zn0.3O的合金薄膜。
在该合金薄膜上再用热蒸发法蒸镀Au膜层,以传统湿法刻蚀工艺刻蚀Au膜层制备出叉指形电极,即制得Mg0.7Zn0.3O MSM结构太阳盲紫外探测器。
通过对该层Mg0.7Zn0.3O薄膜进行XRD表征,得到(111)方向的单一衍射峰,并呈现立方结构。利用紫外吸收光谱测量,经过计算,吸收边为220nm。获得的太阳盲紫外探测器的光响应截止边为230nm,其紫外可见比(220nm/400nm)大于3个数量级。
实施例2
在MOCVD设备上,采用C面蓝宝石为衬底,以二茂镁作为镁源,二乙基锌作为锌源,载气为99.9999%高纯氮气,按以下工艺条件制备单一立方相MgZnO薄膜:
衬底温度为450℃,生长室真空度为2×104Pa,氧气流量为550ml/min(压力2.5×105Pa),通过流量控制使生长室中的Zn、Mg摩尔浓度比为Zn/Mg=0.65,获得结构式为Mg0.52Zn0.48O的合金薄膜。
在该合金薄膜上再用热蒸发法蒸镀Au膜层,以传统湿法刻蚀工艺刻蚀Au膜层制备出叉指形电极,即制得Mg0.52Zn0.48O MSM结构太阳盲紫外探测器。
通过对Mg0.52Zn0.48O薄膜进行XRD表征,得到(111)方向的单一衍射峰,并呈现立方结构。利用紫外吸收光谱测量,经过计算,吸收边为255nm。获得的太阳盲紫外探测器的光响应截止边为273nm,其紫外可见比(255nm/400nm)大于3个数量级。
实施例3
在MOCVD设备上,采用C面蓝宝石为衬底,以二茂镁作为镁源,二乙基锌作为锌源,载气为99.9999%高纯氮气,按以下工艺条件制备单一立方相MgZnO薄膜:
衬底温度为450℃,生长室真空度为2×104Pa,氧气流量为550ml/min(压力2.5×105Pa),通过流量控制使生长室中的Zn、Mg摩尔浓度比为Zn/Mg=1,获得结构式为Mg0.5Zn0.5O的合金薄膜。
在该合金薄膜上再用热蒸发法蒸镀Au膜层,以传统湿法刻蚀工艺刻蚀Au膜层制备出叉指形电极,即制得Mg0.52Zn0.48O MSM结构太阳盲紫外探测器。
通过对Mg0.5Zn0.5O薄膜进行XRD表征,得到(111)方向的单一衍射峰,并呈现立方结构。利用紫外吸收光谱测量,经过计算,吸收边为260nm。器件的光响应截止边为280nm,其紫外可见比(260nm/400nm)大于3个数量级。
实施例4
在MOCVD设备上,采用C面蓝宝石为衬底,以二茂镁作为镁源,二乙基锌作为锌源,载气为99.9999%高纯氮气,按以下工艺条件制备单一立方相MgZnO薄膜:
衬底温度为300℃,生长室真空度为2×104Pa,氧气流量为550ml/min(压力2.5×105Pa),通过流量控制使生长室中的Zn、Mg摩尔浓度比为Zn/Mg=0.65,获得结构式为Mg0.52Zn0.48O的合金薄膜。
在该合金薄膜上再用热蒸发法蒸镀Au膜层,以传统湿法刻蚀工艺刻蚀Au膜层制备出叉指形电极,即制得Mg0.52Zn0.48O MSM结构太阳盲紫外探测器。
通过对Mg0.52Zn0.48O薄膜进行XRD表征,得到(111)方向的单一衍射峰,并呈现立方结构。利用紫外吸收光谱测量,经过计算,吸收边为255nm。获得的太阳盲紫外探测器的光响应截止边为273nm,其紫外可见比(255nm/400nm)大于3个数量级。
实施例5
在MOCVD设备上,采用C面蓝宝石为衬底,以二茂镁作为镁源,二乙基锌作为锌源,载气为99.9999%高纯氮气,按以下工艺条件制备单一立方相MgZnO薄膜:
衬底温度为400℃,生长室真空度为2×104Pa,氧气流量为550ml/min(压力2.5×105Pa),通过流量控制使生长室中的Zn、Mg摩尔浓度比为Zn/Mg=0.65,获得结构式为Mg0.52Zn0.48O的合金薄膜。
在该合金薄膜上再用热蒸发法蒸镀Au膜层,以传统湿法刻蚀工艺刻蚀Au膜层制备出叉指形电极,即制得Mg0.52Zn0.48O MSM结构太阳盲紫外探测器。
通过对Mg0.52Zn0.48O薄膜进行XRD表征,得到(111)方向的单一衍射峰,并呈现立方结构。利用紫外吸收光谱测量,经过计算,吸收边为255nm。获得的太阳盲紫外探测器的光响应截止边为273nm,其紫外可见比(255nm/400nm)大于3个数量级。
实施例6
在MOCVD设备上,采用C面蓝宝石为衬底,以二茂镁作为镁源,二乙基锌作为锌源,载气为99.9999%高纯氮气,按以下工艺条件制备单一立方相MgZnO薄膜:
衬底温度为500℃,生长室真空度为2×104Pa,氧气流量为550ml/min(压力2.5×105Pa),通过流量控制使生长室中的Zn、Mg摩尔浓度比为Zn/Mg=0.65,获得结构式为Mg0.52Zn0.48O的合金薄膜。
在该合金薄膜上再用热蒸发法蒸镀Au膜层,以传统湿法刻蚀工艺刻蚀Au膜层制备出叉指形电极,即制得Mg0.52Zn0.48O MSM结构太阳盲紫外探测器。
通过对Mg0.52Zn0.48O薄膜进行XRD表征,得到(111)方向的单一衍射峰,并呈现立方结构。利用紫外吸收光谱测量,经过计算,吸收边为255nm。获得的太阳盲紫外探测器的光响应截止边为273nm,其紫外可见比(255nm/400nm)大于3个数量级。

Claims (1)

1.一种制备太阳盲紫外探测器的方法,包括以下步骤:采用金属有机化学气相沉积法在蓝宝石衬底上制备氧锌镁膜层,在该氧锌镁膜层上再蒸镀Au膜层,用湿法刻蚀Au膜层制备出叉指形电极,其特征在于,所述的氧锌镁膜层是在以下工艺条件下获得的具有单一立方相的、其吸收边从220nm到260nm的MgZnO薄膜:
生长温度为300℃~500℃,生长室真空度为2×104Pa,载气为99.9999%高纯氮气,以二茂镁作为镁源,二乙基锌作为锌源,通过流量控制使生长室中的Zn、Mg摩尔浓度比为Zn/Mg=0.4~1,氧气压力为2.5×105Pa、流量为550ml/min。
CNB2008100510988A 2008-08-21 2008-08-21 制备太阳盲紫外探测器的方法 Expired - Fee Related CN100565941C (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CNB2008100510988A CN100565941C (zh) 2008-08-21 2008-08-21 制备太阳盲紫外探测器的方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CNB2008100510988A CN100565941C (zh) 2008-08-21 2008-08-21 制备太阳盲紫外探测器的方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN101345272A true CN101345272A (zh) 2009-01-14
CN100565941C CN100565941C (zh) 2009-12-02

Family

ID=40247214

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CNB2008100510988A Expired - Fee Related CN100565941C (zh) 2008-08-21 2008-08-21 制备太阳盲紫外探测器的方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN100565941C (zh)

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101894887A (zh) * 2010-06-25 2010-11-24 中国科学院物理研究所 一种基于pin异质结构的碳化硅基紫外探测材料的制备方法
CN103227230A (zh) * 2013-04-10 2013-07-31 中国科学院安徽光学精密机械研究所 一种侧向生长ZnMgO纳米线日盲区紫外探测器及其制备方法
CN103325858A (zh) * 2013-06-19 2013-09-25 中国科学院物理研究所 深紫外探测器及其制备方法
CN103337590A (zh) * 2013-05-30 2013-10-02 浙江大学 高响应度有机日盲型紫外光探测器
CN103943720A (zh) * 2014-03-27 2014-07-23 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 一种自驱动式氧锌镁紫外探测器及其制备方法
CN104779308A (zh) * 2014-01-10 2015-07-15 中国科学院物理研究所 提高MgXZn1-XO导电性的方法及其在光电子器件中的应用
CN108922930A (zh) * 2018-07-12 2018-11-30 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 一种ZnMgO紫外探测器
CN108962732A (zh) * 2018-07-12 2018-12-07 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 一种ZnMgO薄膜及其制备方法

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001237460A (ja) * 2000-02-23 2001-08-31 Matsushita Electric Ind Co Ltd 発光素子
WO2002001650A1 (en) * 2000-06-26 2002-01-03 University Of Maryland Mgzno based uv detectors
JP4431925B2 (ja) * 2000-11-30 2010-03-17 信越半導体株式会社 発光素子の製造方法
CN1314831C (zh) * 2002-11-15 2007-05-09 浙江大学 立方相、宽禁带MgZnO晶体薄膜的低温制备技术
JP2005340369A (ja) * 2004-05-25 2005-12-08 Shin Etsu Handotai Co Ltd 化合物半導体素子の製造方法
CN100460838C (zh) * 2006-04-14 2009-02-11 中国科学院上海技术物理研究所 氧化锌基盲阳紫外探测装置

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101894887B (zh) * 2010-06-25 2011-07-27 中国科学院物理研究所 一种基于pin异质结构的碳化硅基紫外探测材料的制备方法
CN101894887A (zh) * 2010-06-25 2010-11-24 中国科学院物理研究所 一种基于pin异质结构的碳化硅基紫外探测材料的制备方法
CN103227230B (zh) * 2013-04-10 2015-10-14 中国科学院安徽光学精密机械研究所 一种侧向生长ZnMgO纳米线日盲区紫外探测器及其制备方法
CN103227230A (zh) * 2013-04-10 2013-07-31 中国科学院安徽光学精密机械研究所 一种侧向生长ZnMgO纳米线日盲区紫外探测器及其制备方法
CN103337590A (zh) * 2013-05-30 2013-10-02 浙江大学 高响应度有机日盲型紫外光探测器
CN103337590B (zh) * 2013-05-30 2015-12-09 浙江大学 高响应度有机日盲型紫外光探测器
CN103325858A (zh) * 2013-06-19 2013-09-25 中国科学院物理研究所 深紫外探测器及其制备方法
CN104779308A (zh) * 2014-01-10 2015-07-15 中国科学院物理研究所 提高MgXZn1-XO导电性的方法及其在光电子器件中的应用
CN104779308B (zh) * 2014-01-10 2017-07-25 中国科学院物理研究所 一种光电子器件
CN103943720A (zh) * 2014-03-27 2014-07-23 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 一种自驱动式氧锌镁紫外探测器及其制备方法
CN108922930A (zh) * 2018-07-12 2018-11-30 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 一种ZnMgO紫外探测器
CN108962732A (zh) * 2018-07-12 2018-12-07 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 一种ZnMgO薄膜及其制备方法
CN108922930B (zh) * 2018-07-12 2020-05-12 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 一种ZnMgO紫外探测器
CN108962732B (zh) * 2018-07-12 2020-05-12 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 一种ZnMgO薄膜及其制备方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN100565941C (zh) 2009-12-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN100565941C (zh) 制备太阳盲紫外探测器的方法
Drmosh et al. Crystalline nanostructured Cu doped ZnO thin films grown at room temperature by pulsed laser deposition technique and their characterization
Mridha et al. Effect of thickness on the structural, electrical and optical properties of ZnO films
Husna et al. Influence of annealing temperature on the properties of ZnO thin films grown by sputtering
Subba Reddy et al. Effect of film thickness on the structural morphological and optical properties of nanocrystalline ZnO films formed by RF magnetron sputtering
CN110061089B (zh) 蓝宝石斜切衬底优化氧化镓薄膜生长及日盲紫外探测器性能的方法
CA2601749A1 (en) A process for large-scale production of cdte/cds thin film solar cells, without the use of cdc12
Lee Relationship between crystal structure and photoluminescence properties of ZnO films formed by oxidation of metallic Zn
Zhang et al. High optical quality ZnO films grown on graphite substrate for transferable optoelectronics devices by ultrasonic spray pyrolysis
Shu-Wen A Study of annealing time effects on the properties of Al: ZnO
CN110828589B (zh) 一种柔性日盲紫外光电探测器及其制备方法
CN111785793A (zh) ZnMgO紫外探测器及其制备方法
Deenathayalan et al. Effect of growth layer solution concentration on the structural and optical properties of hydrothermally grown zinc oxide nanorods
CN111244202A (zh) 一种ZnMgO紫外探测器及其制备方法
Bu Sol–gel synthesis of novel cobalt doped zinc tin oxide composite for photocatalytic application
Morkoç Karadeniz et al. A comparative study on structural and optical properties of ZnO micro-nanorod arrays grown on seed layers using chemical bath deposition and spin coating methods
Jang et al. Effect of ALD surface treatment on structural and optical properties of ZnO nanorods
CN111261735B (zh) 一种ZnMgO薄膜、紫外探测器及其制备方法
Wu et al. Growth and characterization of epitaxial ZnO nanowall networks using metal organic chemical vapor deposition
Rashad et al. Enhanced photocatalytic of Zno nanostructures via shape controlled platinum thin film
CN103233202A (zh) 一种利用脉冲激光沉积法制备CuInS2纳米棒的方法
Wang et al. Influence of substrate temperature on surface textured ZnO: Al films etched with NaOH solution
Kumar et al. Effect of substrate temperature on structural and optical properties of nanostructured ZnO thin films grown by RF magnetron sputtering
CN109616542B (zh) 氮化镓纳米线感光单元、制作方法、紫外线探测器
Jang et al. Properties of ZnO thin films grown on Si (100) substrates by pulsed laser deposition

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
C17 Cessation of patent right
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20091202

Termination date: 20110821