CN101333681B - 多晶硅铸锭炉及控制方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种多晶硅铸锭炉以及对该炉的控制方法,多晶硅铸锭炉,包括封闭的炉体(1)、在工作台(8)上活动设置的坩埚(3)、温度传感器(5)、压力传感器(19)、CPU及接口电路,在工作台(8)上活动设置一与提升装置(6)机械连接在一起的罩体(13),CPU通过接口电路控制罩体(13)内设置的电阻加热丝(9)、炉内气压和罩体(13)的提升量。CPU通过各接口电路实现对多晶硅铸锭炉的自动控制。本发明的多晶硅铸锭炉及控制方法,提高了用硅溶液生长多晶硅时,晶核排列的同一性和排列密度,使生成的多晶硅的光电转换率大大提高。
Description
技术领域
本发明涉及一种多晶硅的长晶设备,特别涉及一种多晶硅铸锭炉以及对该炉的控制方法,该方法对多晶硅铸锭炉中的溶液实现了长晶,固化生成高品质的硅锭。
背景技术
多晶硅铸锭炉属密闭环境下的工作设备,用含硅的化合物在真空、高温状态下,再加入某些还原性和保护性的气体,经过一系列的升温、保温、退火工艺使其熔炼成高纯度的多晶硅单质。但现有技术和设备生长出的多晶硅的晶核的排列的同一性不好,密度不够,导致产品的光电转换率低,直接影响到了用它制造的太阳能的电池的质量。
发明内容
本发明提供一种多晶硅铸锭炉及其控制方法,解决了现有设备和技术生长出的多晶硅的晶核的排列的同一性不好,密度不够,导致产品的光电转换率低,直接影响到了用它制造的太阳能的电池的质量的技术问题。
本发明解决其技术问题所采用的技术方案如下:
本发明涉及一种新型的多晶硅铸锭炉,该炉实现了采用特定长晶,固化技术将硅溶液制成高品质的硅锭;同时还提供了控制该多晶硅铸锭炉的方法,利用该方法实现了对炉体内的硅溶液的长晶工艺的有效控制。
多晶硅铸锭炉,包括封闭的炉体1、在炉体1内的底部固定设置的工作台8、在工作台8上活动设置的坩埚3、CPU及接口电路,在所述的工作台8上活动设置一罩体13,该罩体13通过从炉体1的顶部穿出的提升杠与提升装置6机械连接在一起,该提升装置6的电控端通过通讯接口电路RS232与所述的CPU电连接在一起;在所述的罩体13的顶板上设置有通过孔,穿线管18通过该通过孔从炉体的顶部穿出,且罩体13可沿穿线管18上下移动,在罩体13内设置有电阻加热丝9,该电阻加热丝9通过从穿线管18中穿过的导线与炉外的电加热功率调节装置12电连接在一起,电加热功率调节装置12通过第一接口电路16与CPU电连接;在所述的炉体1内还设置有温度传感器5和压力传感器19,温度传感器5通过第二接口电路7与CPU电连接,压力传感器19通过第三接口电路4与CPU电连接,CPU通过第四接口电路15与气体流量计11的电控端电连接,实现对从保护气入口10进入到炉体的保护气的气流的控制,在所述的炉体1上还设置有保护气排气装置2,该保护气排气装置2的排气泵14的电控端与CPU电连接在一起。
所述的提升装置6有三组,这三组提升装置在炉体1的顶部呈等边三角形分布排列,在CPU的控制下对罩体实现同步提升。
一种多晶硅铸锭炉控制方法,是通过以下步骤实现的:
(1)通过CPU中程序,设定对炉体1的自动控制时间为4小时;
(2)通过CPU的外部设备分别设定炉体1内的温度为1435℃,设定炉体(1)内的压力为460mbr,设定炉体1内的罩体13的提升高度为22cm;
(3)CPU通过电加热功率调节装置12对电阻加热丝9进行加热,使炉体1内的温度到达1435℃,并保持在1435℃;同时,CPU通过调节气体流量计11和排气泵14的气体流量,使炉体1内的压力到达460mbr,并保持在460mbr;同时,CPU通过通讯接口电路RS232和提升装置6将罩体13提升高度为22cm;
(4)当时间到达4小时,CPU关闭所有设备。
本发明的多晶硅铸锭炉及控制方法,提高了用硅溶液生长多晶硅时,晶核排列的同一性和排列密度,使生成的多晶硅的光电转换率大大提高,提高了用它制成的太阳能电池的质量。
附图说明
图1本发明的多晶硅铸锭炉的结构示意图
图2多晶硅铸锭炉的控制工艺流程图
具体实施方式
下面结合附图对本发明进行说明:
本发明涉及一种新型的多晶硅铸锭炉,该炉实现了采用特定长晶,固化技术将硅溶液制成高品质的硅锭;同时还提供了控制该多晶硅铸锭炉的方法,利用该方法实现了对炉体内的硅溶液的长晶工艺的有效控制。
多晶硅铸锭炉,包括封闭的炉体1、在炉体1内的底部固定设置的工作台8、在工作台8上活动设置的坩埚3、CPU及接口电路,在所述的工作台8上活动设置一罩体13,该罩体13通过从炉体1的顶部穿出的提升杠与提升装置6机械连接在一起,该提升装置6的电控端通过通讯接口电路RS232与所述的CPU电连接在一起;在所述的罩体13的顶板上设置有通过孔,穿线管18通过该通过孔从炉体的顶部穿出,且罩体13可沿穿线管18上下移动,在罩体13内设置有电阻加热丝9,该电阻加热丝9通过从穿线管18中穿过的导线与炉外的电加热功率调节装置12电连接在一起,电加热功率调节装置12通过第一接口电路16与CPU电连接;在所述的炉体1内还设置有温度传感器5和压力传感器19,温度传感器5通过第二接口电路7与CPU电连接,压力传感器19通过第三接口电路4与CPU电连接,CPU通过第四接口电路15与气体流量计11的电控端电连接,实现对从保护气入口10进入到炉体的保护气的气流的控制,在所述的炉体1上还设置有保护气排气装置2,该保护气排气装置2的排气泵14的电控端与CPU电连接在一起。
所述的提升装置6有三组,这三组提升装置在炉体1的顶部呈等边三角形分布排列,在CPU的控制下对罩体实现同步提升。
一种多晶硅铸锭炉控制方法,是通过以下步骤实现的:
(1)通过CPU中程序,设定对炉体1的自动控制时间为4小时;
(2)通过CPU的外部设备分别设定炉体1内的温度为1435℃,设定炉体(1)内的压力为460mbar,设定炉体1内的罩体13的提升高度为22cm;
(3)CPU通过电加热功率调节装置12对电阻加热丝9进行加热,使炉体1内的温度到达1435℃,并保持在1435℃;同时,CPU通过调节气体流量计11和排气泵14的气体流量,使炉体1内的压力到达460mbar,并保持在460mbar;同时,CPU通过通讯接口电路RS232和提升装置6将罩体13提升高度为22cm;
(4)当时间到达4小时,CPU关闭所有设备。
Claims (3)
1.一种多晶硅铸锭炉,包括封闭的炉体(1)、在炉体(1)内的底部固定设置的工作台(8)、在工作台(8)上活动设置的坩埚(3)、CPU及接口电路,其特征在于,在所述的工作台(8)上活动设置一罩体(13),该罩体(13)通过从炉体(1)的顶部穿出的提升杠与提升装置(6)机械连接在一起,该提升装置(6)的电控端通过通讯接口电路RS232与所述的CPU电连接在一起;在所述的罩体(13)的顶板上设置有通过孔,穿线管(18)通过该通过孔从炉体的顶部穿出,且罩体(13)可沿穿线管(18)上下移动,在罩体(13)内设置有电阻加热丝(9),该电阻加热丝(9)通过从穿线管(18)中穿过的导线与炉外的电加热功率调节装置(12)电连接在一起,电加热功率调节装置(12)通过第一接口电路(16)与CPU电连接;在所述的炉体(1)内还设置有温度传感器(5)和压力传感器(19),温度传感器(5)通过第二接口电路(7)与CPU电连接,压力传感器(19)通过第三接口电路(4)与CPU电连接,CPU通过第四接口电路(15)与气体流量计(11)的电控端电连接,实现对从保护气入口(10)进入到炉体的保护气的气流的控制,在所述的炉体(1)上还设置有保护气排气装置(2),该保护气排气装置(2)的排气泵(14)的电控端与CPU电连接在一起。
2.根据权利要求1所述的一种多晶硅铸锭炉,其特征在于,所述的提升装置(6)有三组,这三组提升装置在炉体(1)的顶部呈等边三角形分布排列,在CPU的控制下对罩体实现同步提升。
3.一种实现对权利要求1所述的多晶硅铸锭炉进行控制的方法,是通过以下步骤实现的:
(1)通过CPU中程序,设定对炉体(1)的自动控制时间为4小时;
(2)通过CPU的外部设备分别设定炉体(1)内的温度为1435℃,设定炉体(1)内的压力为460mbar,设定炉体(1)内的罩体(13)的提升高度为22cm;
(3)CPU通过电加热功率调节装置(12)对电阻加热丝(9)进行加热,使炉体(1)内的温度到达1435℃,并保持在1435℃;同时,CPU通过调节气体流量计(11)和排气泵(14)的气体流量,使炉体(1)内的压力到达460mbar,并保持在460mbar;同时,CPU通过通讯接口电路RS232和提升装置(6)将罩体(13)提升高度为22cm;
(4)当时间到达4小时,CPU关闭所有设备。
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