CN101315521A - 感光性树脂组合物 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种感光性树脂组合物,该感光性树脂组合物能够实现显影后的平整度、分辨率、耐热性、透过率等性能优异的有机绝缘膜,特别是能够实现高灵敏度的有机绝缘膜,由此通过缩短工序时间而能够提高生产率,不仅如此,同时该感光性树脂组合物能够使膜柔软而提高耐冲击性。本发明涉及感光性树脂组合物,特别是涉及一种感光性树脂组合物,其特征在于,该感光性树脂组合物包含0.1重量%~10重量%的选自由邻苯二甲酸二辛酯、邻苯二甲酸二异壬酯、己二酸二辛酯、磷酸三甲苯酯以及2,2,4-三甲基-1,3-戊二醇单异丁酸酯组成的组中的一种以上的化合物作为灵敏度增强剂。

Description

感光性树脂组合物
技术领域
本发明涉及感光性树脂组合物,更详细地说,本发明涉及一种感光性树脂组合物,该感光性树脂组合物能够实现在显影后的平整度、分辨率、耐热性、透过率等性能优异的有机绝缘膜,特别是能够实现灵敏度高的有机绝缘膜,由此通过缩短工序时间而能够提高生产率,不仅如此,同时该感光性树脂组合物能够使膜柔软而提高其耐冲击性。
背景技术
在TFT型液晶显示元件和集成电路元件中使用有机绝缘膜以使配置于层间的配线之间绝缘。最近,由于显示屏市场的扩大而迫切要求提高生产率和降低成本。现在应用于显示屏制造工序的有机绝缘膜在提高数值孔径等各方面是有利的,但工序时间长、灵敏度低这样的缺点一直被视为问题。
因而,实际情况是更加需要对用于显示屏工序的高灵敏度的有机绝缘膜进行开发研究。
发明内容
为了解决上述现有技术问题,本发明的目的在于提供一种感光性树脂组合物,该感光性树脂组合物能够实现显影后的平整度、分辨率、耐热性、透过率等性能优异的有机绝缘膜,特别是能够实现灵敏度高的有机绝缘膜,由此通过缩短工序时间而能够提高生产率,不仅如此,同时该感光性树脂组合物能够使膜柔软而提高其耐冲击性。
此外,本发明的目的在于提供一种显示屏图案形成方法和包含上述感光性树脂组合物的固化物作为有机绝缘膜的显示屏,其中在所述显示屏图案形成方法中,利用上述感光性树脂组合物能够实现显影后的平整度、分辨率、耐热性、透过率等性能优异的有机绝缘膜,特别是能够实现灵敏度高的有机绝缘膜,由此通过缩短工序时间而能够提高生产率。
为了达到上述目的,本发明提供一种感光性树脂组合物,其特征在于,在感光性树脂组合物中包含0.1重量%~10重量%的选自由邻苯二甲酸二辛酯、邻苯二甲酸二异壬酯、己二酸二辛酯、磷酸三甲苯酯以及2,2,4-三甲基-1,3-戊二醇单异丁酸酯组成的组中的一种以上的化合物作为灵敏度增强剂。
此外,本发明提供利用了上述感光性树脂组合物的显示屏图案形成方法。
此外,本发明提供包含上述感光性树脂组合物的固化物作为有机绝缘膜的显示屏。
本发明的感光性树脂组合物能够实现显影后的平整度、分辨率、耐热性、透过率等性能优异的有机绝缘膜,特别是能够实现灵敏度高的有机绝缘膜,由此通过缩短工序时间而能够提高生产率,不仅如此,同时该感光性树脂组合物能够使膜柔软而提高耐冲击性。
具体实施方式
下面,详细说明本发明
本发明人为了增强有机绝缘膜的灵敏度而进行了研究,在研究期间确认了如下内容,从而完成了本发明:使有机绝缘膜用感光性树脂组合物包含选自由邻苯二甲酸二辛酯、邻苯二甲酸二异壬酯、己二酸二辛酯、磷酸三甲苯酯以及2,2,4-三甲基-1,3-戊二醇单异丁酸酯组成的组中的一种以上的化合物作为灵敏度增强剂时,有机绝缘膜的灵敏度显著增加,显影后的平整度、分辨率、耐热性、透过率等性能优异,同时能够使膜柔软而提高耐冲击性。
本发明的感光性树脂组合物的特征在于,其包含0.1重量%~10重量%的选自由邻苯二甲酸二辛酯、邻苯二甲酸二异壬酯、己二酸二辛酯、磷酸三甲苯酯以及2,2,4-三甲基-1,3-戊二醇单异丁酸酯组成的组中的一种以上的化合物作为灵敏度增强剂。
上述邻苯二甲酸二辛酯、邻苯二甲酸二异壬酯、己二酸二辛酯、磷酸三甲苯酯以及2,2,4-三甲基-1,3-戊二醇单异丁酸酯以往用作增塑剂或溶剂,但是在本发明的感光性树脂组合物中起到灵敏度增强剂的作用,优选的是,以使用2,2,4-三甲基-1,3-戊二醇单异丁酸酯为宜。在本发明的感光性树脂组合物中含有0.1重量%~10重量%所述灵敏度增强剂,当所述灵敏度增强剂的含量小于0.1重量%时,灵敏度降低,难以期待通过缩短工序时间来提高生产率;当所述灵敏度增强剂的含量大于10重量%时,会有耐热性降低,成本上升这样的问题。优选的是,以在本发明的感光性树脂组合物中含有2重量%~10重量%所述灵敏度增强剂为宜,所述灵敏度增强剂在所述范围内时,不仅在灵敏度方面能够令人满意,而且在平整度、分辨率、耐热性、透过率、耐冲击性方面也能同时令人满意。
优选的是,本发明的感光性树脂组合物由a)5重量%~40重量%丙烯酸系共聚物;b)1重量%~20重量%的1,2-醌二叠氮-5-磺酸酯化合物;c)0.1重量%~10重量%的上述灵敏度增强剂;和d)余量的溶剂构成。
上述a)丙烯酸系共聚物起到的作用是,能够容易地形成显影时未产生膜渣(scum)的预定图案。在本发明的感光性树脂组合物中,上述a)丙烯酸系共聚物的含量以5重量%~40重量%为宜。当该含量在所述范围内时,不仅在灵敏度方面能够令人满意,而且在平整度、分辨率、耐热性、透过率、耐冲击性也能同时令人满意。
作为一个具体实例,上述a)丙烯酸系共聚物可如下得到:以i)不饱和羧酸或其酸酐、ii)含有环氧基的不饱和化合物以及iii)烯烃系不饱和化合物为单体,在溶剂和聚合引发剂的存在下进行自由基反应,然后,通过沉淀和过滤并经真空干燥(Vacuum Drying)工序来除去未反应单体,得到所述a)丙烯酸系共聚物。
作为本发明所使用的上述a)中i)不饱和羧酸、不饱和羧酸酐或它们的混合物,可以单独使用或混合两种以上使用如下物质:丙烯酸、甲基丙烯酸等不饱和一元羧酸;马来酸、富马酸、柠康酸、中康酸(メタコン酸)、衣康酸等不饱和二元羧酸;或这些不饱和二元羧酸的酸酐等,特别是从共聚反应性和在作为显影液的碱性水溶液中的溶解性方面出发,更优选使用丙烯酸、甲基丙烯酸或者马来酸酐。
优选在所有单体中包含15重量份~45重量份上述不饱和羧酸、不饱和羧酸酐或它们的混合物。其含量在所述范围内时,在碱性水溶液中的溶解性是最理想的。
作为本发明所使用的上述a)中ii)含有环氧基的不饱和化合物,可以使用丙烯酸缩水甘油酯、甲基丙烯酸缩水甘油酯、α-乙基丙烯酸缩水甘油酯、α-正丙基丙烯酸缩水甘油酯、α-正丁基丙烯酸缩水甘油酯、丙烯酸-β-甲基缩水甘油酯、甲基丙烯酸-β-甲基缩水甘油酯、丙烯酸-β-乙基缩水甘油酯、甲基丙烯酸-β-乙基缩水甘油酯、丙烯酸-3,4-环氧丁酯、甲基丙烯酸-3,4-环氧丁酯、丙烯酸-6,7-环氧庚酯、甲基丙烯酸-6,7-环氧庚酯、α-乙基丙烯酸-6,7-环氧庚酯、邻乙烯基苄基缩水甘油醚、间乙烯基苄基缩水甘油醚或对乙烯基苄基缩水甘油醚、甲基丙烯酸-3,4-环氧环己酯等,并可以单独使用所述化合物或者混合两种以上所述化合物来使用。
特别是,从提高共聚反应性和所得到的图案的耐热性的角度出发,作为上述含有环氧基的不饱和化合物,更优选使用甲基丙烯酸缩水甘油酯、甲基丙烯酸-β-甲基缩水甘油酯、甲基丙烯酸-6,7-环氧庚酯、邻乙烯基苄基缩水甘油醚、间乙烯基苄基缩水甘油醚或者对乙烯基苄基缩水甘油醚、甲基丙烯酸-3,4-环氧环己酯等。
优选在所有单体中包含15重量份~45重量份上述含有环氧基的不饱和化合物。所述含有环氧基的不饱和化合物的含量在所述范围内时,可以同时使有机绝缘膜的耐热性和感光性树脂组合物的保存稳定性令人满意。
作为本发明所使用的上述a)中iii)烯烃系不饱和化合物,可以使用甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸正丁酯、甲基丙烯酸仲丁酯、甲基丙烯酸叔丁酯、丙烯酸甲酯、丙烯酸异丙酯、甲基丙烯酸环己酯、甲基丙烯酸-2-甲基环己酯、丙烯酸二环戊烯基酯、丙烯酸二环戊酯、甲基丙烯酸二环戊烯基酯、甲基丙烯酸二环戊酯、丙烯酸-1-金刚烷基酯、甲基丙烯酸-1-金刚烷基酯、甲基丙烯酸二环戊基氧基乙酯、甲基丙烯酸异冰片酯、丙烯酸环己酯、丙烯酸2-甲基环己酯、丙烯酸二环戊基氧基乙酯、丙烯酸异冰片酯、甲基丙烯酸苯酯、丙烯酸苯酯、丙烯酸苄酯、甲基丙烯酸-2-羟乙酯、苯乙烯、邻甲基苯乙烯、间甲基苯乙烯、对甲基苯乙烯、乙烯基甲苯、对甲氧基苯乙烯、1,3-丁二烯、异戊二烯或者2,3-二甲基-1,3-丁二烯等,并可以单独使用所述化合物或者混合两种以上来使用。
特别是从共聚反应性和在作为显影液的碱性水溶液中的溶解性方面出发,作为上述烯烃系不饱和化合物,更优选使用苯乙烯、甲基丙烯酸二环戊酯或者对甲氧基苯乙烯。
优选在所有单体中包含25重量份~70重量份上述烯烃系不饱和化合物,进-步优选包含25重量份~45重量份上述烯烃系不饱和化合物。所述烯烃系不饱和化合物的含量在所述范围内时,能够使显影后不发生膨胀,并且能够理想地维持在作为显影液的碱性水溶液中的溶解性。
作为用于使如上所述的单体进行溶液聚合(solution polymerization)而使用的溶剂,可以使用甲醇、四氢呋喃、甲苯、二氧六环等。
对于用于使如上所述的单体进行溶液聚合而使用的聚合引发剂,可以使用自由基聚合引发剂,具体地说,可以使用2,2-偶氮二异丁腈、2,2-偶氮二(2,4-二甲基戊腈)、2,2-偶氮二(4-甲氧基-2,4-二甲基戊腈)、1,1-偶氮二(环己烷-1-甲腈)或者二甲基-2,2’-偶氮二异丁酸酯等。
使如上所述的单体在溶剂和聚合引发剂的存在下发生自由基反应,通过沉淀和过滤以及真空干燥工序除去未反应单体,从而得到a)丙烯酸系共聚物,优选所述a)丙烯酸系共聚物的聚苯乙烯换算重均分子量(Mw)为5,000~20,000。上述聚苯乙烯换算重均分子量小于5,000时,有机绝缘膜存在显影性、残膜率等可能会降低,或者图案显影、耐热性等可能会劣化这样的问题,所述聚苯乙烯换算重均分子量大于20,000时,有机绝缘膜存在灵敏度可能会降低,或者图案显影可能会劣化这样的问题。
此外,本发明所使用的上述b)1,2-醌二叠氮-5-磺酸酯化合物可以通过在弱碱下使萘醌二叠氮磺酰卤化合物和酚化合物反应来制造。
作为上述酚化合物,可以使用2,3,4-三羟基二苯甲酮、2,4,6-三羟基二苯甲酮、2,2’-二羟基二苯甲酮、4,4’-二羟基二苯甲酮、2,3,4,3’-四羟基二苯甲酮、2,3,4,4’-四羟基二苯甲酮、2,3,4,2’-四羟基-4’-甲基二苯甲酮、2,3,4,4’-四羟基-3’-甲氧基二苯甲酮、2,3,4,2’-四羟基二苯甲酮、2,3,4,6’-四羟基二苯甲酮、2,4,6,3’-四羟基二苯甲酮、2,4,6,4’-四羟基二苯甲酮、2,4,6,5’-四羟基二苯甲酮、3,4,5,3’-四羟基二苯甲酮、3,4,5,4’-四羟基二苯甲酮、3,4,5,5’-四羟基二苯甲酮、双(2,4-二羟基苯基)甲烷、双(对羟基苯基)甲烷、三(对羟基苯基)甲烷、1,1,1-三(对羟基苯基)乙烷、双(2,3,4-三羟基苯基)甲烷、2,2-双(2,3,4-三羟基苯基)丙烷、1,1,3-三(2,5-二甲基-4-羟基苯基)-3-苯基丙烷、4,4’-[1-[4-[1-[4-羟基苯基]-1-甲基乙基]苯基]亚乙基]双酚或者双(2,5-二甲基-4-羟基苯基)-2-羟基苯基甲烷等,并可以单独使用所述化合物或者混合两种以上来使用。
利用如上所述的酚化合物和萘醌二叠氮磺酰卤化合物合成醌二叠氮化合物时,酯化度优选为50%~85%。当酯化度在所述范围内时,显示出残膜率和稳定性同时优异的效果。
优选在本发明的感光性树脂组合物中包含1重量%~20重量%上述b)1,2-醌二叠氮-5-磺酸酯化合物。所述b)1,2-醌二叠氮-5-磺酸酯化合物的含量在所述范围内时,具有如下优点:容易形成图案,在作为显影液的碱性水溶液中的溶解度是理想的。
本发明所使用的上述c)灵敏度增强剂如以上记载。
此外,本发明所使用的上述d)溶剂使有机绝缘膜平整并使其不发生涂布沾污(コ一ティ ン グ染み),以及形成均匀的图案轮廓(Pattern profile)。
上述溶剂包括:甲醇、乙醇、苯甲醇、己醇等醇类;乙二醇甲醚乙酸酯、乙二醇乙醚乙酸酯等乙二醇烷基醚乙酸酯类;乙二醇甲醚丙酸酯、乙二醇乙醚丙酸酯等乙二醇烷基醚丙酸酯类;乙二醇甲醚、乙二醇乙醚等乙二醇单烷基醚类;二乙二醇单甲醚、二乙二醇单乙醚、二乙二醇二甲醚、二乙二醇甲乙醚等二乙二醇烷基醚类;丙二醇甲醚乙酸酯、丙二醇乙醚乙酸酯、丙二醇丙醚乙酸酯等丙二醇烷基醚乙酸酯类;丙二醇甲醚丙酸酯、丙二醇乙醚丙酸酯、丙二醇丙醚丙酸酯等丙二醇烷基醚丙酸酯类;丙二醇甲醚、丙二醇乙醚、丙二醇丙醚、丙二醇丁醚等丙二醇单烷基醚类;二丙二醇二甲醚、二丙二醇二乙醚等二丙二醇烷基醚类;丁二醇单甲醚、丁二醇单乙醚等丁二醇单烷基醚类;二丁二醇二甲醚、二丁二醇二乙醚等二丁二醇烷基醚类等。
上述溶剂的含量为全部感光性树脂组合物的余量,优选包含50重量%~90重量%所述溶剂。当上述溶剂的含量在所述范围内时,能够同时使感光性树脂组合物的涂布性和稳定性得到提高。
包含上述组分的本发明的感光性树脂组合物必要时可以进一步包含e)环氧树脂、f)粘结剂、g)丙烯酸类化合物以及h)表面活性剂。
上述e)环氧树脂起到提高由感光性树脂组合物得到的图案的耐热性、灵敏度等的作用。
作为上述环氧树脂,可以使用双酚A型环氧树脂、线型酚醛型环氧树脂、甲酚线型酚醛型环氧树脂、环状脂肪族环氧树脂、缩水甘油酯型环氧树脂、缩水甘油胺型环氧树脂、杂环型环氧树脂或者可以使用将与a)丙烯酸系共聚物不同的甲基丙烯酸缩水甘油酯(共)聚合得到的树脂等,特别优选使用双酚A型环氧树脂、甲酚线型酚醛型环氧树脂或者缩水甘油酯型环氧树脂。
优选在本发明的感光性树脂组合物中包含0.01重量%~10重量%上述环氧树脂,所述环氧树脂的含量在所述范围内时,能够提高涂布性和粘结性。
此外,上述f)粘结剂起到提高与基板的粘结性的作用,优选在本发明的感光性树脂组合物中包含0.01重量%~10重量%所述f)粘结剂。
作为上述粘结剂,可以使用具有羧基、甲基丙烯酰基、异氰酸酯基或者环氧基等这样的反应性取代基的硅烷偶合剂等。具体地说,可以使用γ-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙酰氧基硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷、γ-异氰酸酯丙基三乙氧基硅烷、γ-(2,3-环氧丙氧基)丙基三甲氧基硅烷或者β-(3,4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷等。
此外,上述g)丙烯酸类化合物起到提高由感光性树脂组合物得到的图案的透过率、耐热性、灵敏度等的作用。
优选的是,上述丙烯酸类化合物为以如下化学式1表示的化合物为宜。
(化学式1)
Figure A20081010936500111
在上述化学式1中,
R为氢原子、碳原子数为1~5的烷基、碳原子数为1~5的烷氧基或者碳原子数为1~5的烷酰基,
1<a<6,a+b=6。
优选在本发明的感光性树脂组合物中包含0.01重量份~10重量份上述丙烯酸类化合物,进一步优选包含0.1重量%~5重量%上述丙烯酸类化合物。所述丙烯酸类化合物的含量在所述范围内时,在提高图案的透过率、耐热性、灵敏度等方面更好。
此外,上述h)表面活性剂起到提高感光性组合物的涂布性和显影性的作用。
作为上述表面活性剂,可以使用聚氧乙烯辛基苯基醚、聚氧乙烯壬基苯基醚、F171、F172、F173(商品名:大日本油墨社)、FC430、FC431(商品名:住友3M社)、或KP341(商品名:信越化学工业社)等。
优选在本发明的感光性树脂组合物中包含0.0001重量%~2重量%上述表面活性剂,所述表面活性剂的含量在所述范围内时,在提高感光性组合物的涂布性和显影性方面更好。
包含上述组分的本发明的感光性树脂组合物的固体成分浓度优选为10重量%~50重量%,具有所述浓度范围的固体成分的组合物在利用0.1μm~0.2μm的微孔过滤器等过滤后进行使用为宜。
此外,本发明提供利用了上述感光性树脂组合物的显示屏图案形成方法和包含所述感光性树脂组合物的固化物作为有机绝缘膜的显示屏。
本发明的在显示屏工序中形成图案的方法是将感光性树脂组合物制成有机绝缘膜之后来形成图案,以在显示屏工序中形成图案的方法,该方法的特征在于,使用所述感光性树脂组合物。
具体地说,利用上述感光性树脂组合物在显示屏工序中形成图案的方法如下。
首先,利用喷雾法、辊涂法、旋转涂布法等将本发明的感光性树脂组合物涂布到基板表面上,通过预烘干除去溶剂,形成涂布膜。此时,优选上述预烘干在80℃~115℃的温度实施1分钟~15分钟。
其后,利用预先准备好的图案并使可见光线、紫外线、远紫外线、电子射线、X射线等照射到上述形成的涂布膜上,用显影液进行显影,除去不需要的部分,由此形成预定的图案。
上述显影液以使用碱性水溶液为宜,具体地说,可以使用氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸钠等无机碱类;乙胺、正丙胺等伯胺类;二乙胺、二正丙胺等仲胺类;三甲胺、甲基二乙胺、二甲基乙胺、三乙胺等叔胺类;二甲基乙醇胺、甲基二乙醇胺、三乙醇胺等醇胺类;或四甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵等季铵盐的水溶液等。此时,作为上述显影液,可以使用以0.1重量%~10重量%的浓度使碱性化合物溶解而成的显影液,也可以添加适量的如甲醇、乙醇等水溶性有机溶剂和表面活性剂。
此外,利用如上所述的显影液进行显影后,利用超纯水清洗30秒~90秒,除去不需要的部分,进行干燥,形成图案,并对所述形成的图案照射紫外线等光后,利用烘箱等加热装置在150℃~250℃的温度对图案进行30~90分钟的加热处理,从而能够得到最终图案。
本发明的感光性树脂组合物能够实现显影后的平整度、分辨率、耐热性、透过率等性能优异的有机绝缘膜,特别是能够实现灵敏度高的有机绝缘膜,由此通过缩短工序时间而能够提高生产率,不仅如此,同时该感光性树脂组合物能够使膜柔软而提高耐冲击性。
下面,为了理解本发明,给出优选的实施例,但是下述实施例只不过是例示本发明,本发明的范围并不限于下述实施例。
实施例
实施例1
(丙烯酸系共聚物的制造)
在备有冷凝管和搅拌机的烧瓶中放入10重量份2,2’-偶氮二(2,4-二甲基戊腈)、400重量份四氢呋喃、30重量份甲基丙烯酸、45重量份甲基丙烯酸缩水甘油酯、25重量份苯乙烯,进行氮气置换后,缓慢进行搅拌。将所述反应溶液升温到62℃,维持该温度10小时,同时进行自由基反应,从而制造出聚合物溶液。
为了除去聚合物溶液中的未反应单体,使10重量份上述聚合物溶液在100重量份正己烷(n-Hexane)中沉淀。沉淀后,通过利用筛网(Mesh)的过滤(Filtering)工序除去溶解有未反应物的不良溶剂(Poor Solvent)。其后,为了除去在过滤工序后还残留的包含着未反应单体的溶剂(Solvent),在30℃以下通过真空干燥,来完全除去未反应单体,从而制造出丙烯酸系共聚物。
上述丙烯酸系共聚物的重均分子量为10,000。该重均分子量为使用GPC测定得到的聚苯乙烯换算平均分子量。
(1,2-醌二叠氮化合物的制造)
使1摩尔的4,4’-[1-[4-[1-[4-羟基苯基]-1-甲基乙基]苯基]亚乙基]双酚和2摩尔的1,2-萘醌二叠氮-5-磺酰氯发生缩合反应,从而制造出4,4’-[1-[4-[1-[4-羟基苯基]-1-甲基乙基]苯基]亚乙基]双酚-1,2-萘醌二叠氮-5-磺酸酯。
(感光性树脂组合物的制造)
将15重量%上述制造的丙烯酸系共聚物、4重量%的4,4’-[1-[4-[1-[4-羟基苯基]-1-甲基乙基]苯基]亚乙基]双酚-1,2-萘醌二叠氮-5-磺酸酯以及3重量%邻苯二甲酸二辛酯混合。使所述混合物溶解在二乙二醇二甲醚中至所述混合物的固体成分含量达到20重量%,然后利用0.2μm的微孔过滤器进行过滤,从而制造出感光性树脂组合物。
实施例2
如上述实施例1,其中,在制造感光性树脂组合物时使用己二酸二辛酯代替邻苯二甲酸二辛酯,除此以外,利用与上述实施例1相同的方法实施,制造出感光性树脂组合物。
实施例3
如上述实施例1,其中,在制造感光性树脂组合物时使用磷酸三甲苯酯代替邻苯二甲酸二辛酯,除此以外,利用与上述实施例1相同的方法实施,制造出感光性树脂组合物。
实施例4
如上述实施例1,其中,在制造感光性树脂组合物时使用2,2,4-三甲基-1,3-戊二醇单异丁酸酯代替邻苯二甲酸二辛酯,除此以外,利用与上述实施例1相同的方法实施,制造出感光性树脂组合物。
比较例1
如上述实施例1,其中,在制造感光性树脂组合物时不使用邻苯二甲酸二辛酯,除此以外,利用与上述实施例1相同的方法实施,制造出感光性树脂组合物。
比较例2
如上述实施例1,其中,在制造感光性树脂组合物时使用15重量%邻苯二甲酸二辛酯,除此以外,利用与上述实施例1相同的方法实施,制造出感光性树脂组合物。
对上述实施例1~4和比较例1~2的感光性树脂组合物的物理性质进行如下测定,并列于下表1。
使用旋转涂布仪,将在上述实施例1~4和比较例1~2中制造的感光性树脂组合物涂布在玻璃(glass)基板上,然后,在加热板上于90℃对其预烘干2分钟,形成厚度为3.0μm的膜。
I)显影后的平整度——使用椭圆计(Ellipsometer)来测定如上形成的膜在显影后的平整度(uniformity)。此时,基于整个基板,平整度大于95%时以○表示,平整度为90%~95%时以△表示,平整度小于90%时以×表示。
II)灵敏度——使用预定的图案掩模(Pattern mask),以灵敏度为10μm行间隔(line&space)1∶1CD基准照射量(Dose),向上述I)中形成的膜照射435nm的强度为20mW/cm2的紫外线,然后用2.38重量%四甲基氢氧化铵的水溶液于23℃显影1分钟,随后利用超纯水清洗1分钟。
其后,对上述显影得到的图案照射500mJ/cm2的强度为20mW/cm2的435nn紫外线,在烘箱中于230℃固化60分钟,从而得到图案膜。
III)分辨率——以上述II)的灵敏度测定时形成的图案膜的最小尺寸进行测定。
IV)耐热性——测定上述II)的灵敏度测定时形成的图案膜的上、下和左、右的宽度。此时,以中烘焙(middle bake)前为基准,角的变化率为0%~20%时以○表示,角的变化率为20%~40%时以△表示,角的变化率超过40%时以×表示。
V)透过率——透过率的评价是使用分光光度计测定图案膜在400nm下的透过率而进行的。
表1
  分类   显影后的平整度   灵敏度(mJ/cm2)  分辨率(μm)   耐热性   透过率
 实施例1   ○   240   3   ○   90
 实施例2   ○   240   3   ○   90
 实施例3   ○   240   3   ○   90
 实施例4   ○   220   3   ○   90
 比较例1   ○   300   3   ○   90
 比较例2   ○   240   3   ×   90
由上述表1可确认到,与比较例1相比较,根据本发明在实施例1~4中制造的感光性树脂组合物在显影后的平整度、分辨率、耐热性、透过率均优异,灵敏度是优异的,通过缩短工序时间能够提高生产率,特别是能够确认到在实施例4的情况中灵敏度非常优异。此外能够确认到,在灵敏度增强剂过多使用的比较例2的情况中,灵敏度优异,但耐热性下降,因此难以适用于有机绝缘膜。

Claims (10)

1.一种感光性树脂组合物,其特征在于,在所述感光性树脂组合物中含有0.1重量%~10重量%的选自由邻苯二甲酸二辛酯、邻苯二甲酸二异壬酯、己二酸二辛酯、磷酸三甲苯酯以及2,2,4-三甲基-1,3-戊二醇单异丁酸酯组成的组中的一种以上的化合物作为灵敏度增强剂。
2.如权利要求1所述的感光性树脂组合物,其特征在于,所述灵敏度增强剂为2,2,4-三甲基-1,3-戊二醇单异丁酸酯。
3.如权利要求1所述的感光性树脂组合物,其特征在于,所述感光性树脂组合物含有:
a)10重量%~40重量%的丙烯酸系共聚物;
b)1重量%~20重量%的1,2-醌二叠氮-5-磺酸酯化合物;
c)0.1重量%~10重量%的灵敏度增强剂,所述灵敏度增强剂选自由邻苯二甲酸二辛酯、邻苯二甲酸二异壬酯、己二酸二辛酯、磷酸三甲苯酯以及2,2,4-三甲基-1,3-戊二醇单异丁酸酯组成的组中的一种以上的化合物;和
d)余量的溶剂。
4.如权利要求1所述的感光性树脂组合物,其特征在于,所述丙烯酸系共聚物的聚苯乙烯换算重均分子量为5000~20000,并且,所述丙烯酸系共聚物是对下述i)、ii)和iii)共聚得到的丙烯酸系共聚物进行提纯而得到的,
i)15重量份~45重量份不饱和羧酸或其酸酐;
ii)15重量份~45重量份含有环氧基的不饱和化合物;
iii)25重量份~70重量份烯烃系不饱和化合物。
5.如权利要求1所述的感光性树脂组合物,其特征在于,作为形成所述b)1,2-醌二叠氮-5-磺酸酯化合物的基体的酚化合物,选自由2,3,4-三羟基二苯甲酮、2,4,6-三羟基二苯甲酮、2,2’-二羟基二苯甲酮、4,4’-二羟基二苯甲酮、2,3,4,3’-四羟基二苯甲酮、2,3,4,4’-四羟基二苯甲酮、2,3,4,2’-四羟基-4’-甲基二苯甲酮、2,3,4,4’-四羟基-3’-甲氧基二苯甲酮、2,3,4,2’-四羟基二苯甲酮、2,3,4,6’-四羟基二苯甲酮、2,4,6,3’-四羟基二苯甲酮、2,4,6,4’-四羟基二苯甲酮、2,4,6,5’-四羟基二苯甲酮、3,4,5,3’-四羟基二苯甲酮、3,4,5,4’-四羟基二苯甲酮、3,4,5,5’-四羟基二苯甲酮、双(2,4-二羟基苯基)甲烷、双(对羟基苯基)甲烷、三(对羟基苯基)甲烷、1,1,1-三(对羟基苯基)乙烷、双(2,3,4-三羟基苯基)甲烷、2,2-双(2,3,4-三羟基苯基)丙烷、1,1,3-三(2,5-二甲基-4-羟基苯基)-3-苯基丙烷、4,4’-[1-[4-[1-[4-羟基苯基]-1-甲基乙基]苯基]亚乙基]双酚以及双(2,5-二甲基-4-羟基苯基)-2-羟基苯基甲烷组成的组中的一种以上的化合物。
6.如权利要求1所述的感光性树脂组合物,其特征在于,作为所述d)溶剂,选自由甲醇、乙醇、苯甲醇、己醇等醇类;乙二醇甲醚乙酸酯、乙二醇乙醚乙酸酯等乙二醇烷基醚乙酸酯类;乙二醇甲醚丙酸酯、乙二醇乙醚丙酸酯等乙二醇烷基醚丙酸酯类;乙二醇甲醚、乙二醇乙醚等乙二醇单烷基醚类;二乙二醇单甲醚、二乙二醇单乙醚、二乙二醇二甲醚、二乙二醇甲乙醚等二乙二醇烷基醚类;丙二醇甲醚乙酸酯、丙二醇乙醚乙酸酯、丙二醇丙醚乙酸酯等丙二醇烷基醚乙酸酯类;丙二醇甲醚丙酸酯、丙二醇乙醚丙酸酯、丙二醇丙醚丙酸酯等丙二醇烷基醚丙酸酯类;丙二醇甲醚、丙二醇乙醚、丙二醇丙醚、丙二醇丁醚等丙二醇单烷基醚类;二丙二醇二甲醚、二丙二醇二乙醚等二丙二醇烷基醚类;丁二醇单甲醚、丁二醇单乙醚等丁二醇单烷基醚类;以及二丁二醇二甲醚、二丁二醇二乙醚等二丁二醇烷基醚类组成的组中的一种以上的溶剂。
7.如权利要求1所述的感光性树脂组合物,其特征在于,所述感光性树脂组合物进一步含有选自由e)0.1重量份~30重量份环氧树脂、f)0.1重量份~20重量份粘结剂、g)0.1重量份~30重量份丙烯酸类化合物以及h)0.0001重量份~2重量份表面活性剂组成的组中的一种以上的添加剂。
8.如权利要求1所述的感光性树脂组合物,其特征在于,所述感光性树脂组合物用于形成显示屏的有机绝缘膜。
9.一种形成显示屏图案的方法,该方法利用权利要求1~8任一项所述的感光性树脂组合物。
10.一种显示屏,该显示屏包含权利要求1~8任一项所述的感光性树脂组合物的固化物作为有机绝缘膜。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE60320204T2 (de) * 2002-12-27 2009-05-14 Fujifilm Corp. Wärmeempfindlicher lithographischer Druckplattenvorläufer
US7160667B2 (en) * 2003-01-24 2007-01-09 Fuji Photo Film Co., Ltd. Image forming material
KR101057130B1 (ko) * 2004-06-12 2011-08-16 주식회사 동진쎄미켐 감광성 수지 조성물
TWI239668B (en) * 2004-10-21 2005-09-11 Formosa Epitaxy Inc Structure of gallium-nitride based (GaN-based) light-emitting diode with high luminance
EP1820062B1 (en) * 2004-12-09 2014-11-19 Kolon Industries, Inc. Positive type dry film photoresist
KR20060090520A (ko) * 2005-02-07 2006-08-11 삼성전자주식회사 감광성 수지 및 상기 감광성 수지로 이루어진 패턴을포함하는 박막 표시판 및 그 제조 방법
KR101206780B1 (ko) * 2005-03-03 2012-11-30 주식회사 동진쎄미켐 감광성 수지 조성물

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108073042A (zh) * 2016-11-17 2018-05-25 株式会社东进世美肯 正型光敏树脂组合物
CN108073042B (zh) * 2016-11-17 2024-01-23 株式会社东进世美肯 正型光敏树脂组合物

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