CN101269431A - 用于在焊接之前预处理电子部件的装置和方法 - Google Patents

用于在焊接之前预处理电子部件的装置和方法 Download PDF

Info

Publication number
CN101269431A
CN101269431A CNA2008100868964A CN200810086896A CN101269431A CN 101269431 A CN101269431 A CN 101269431A CN A2008100868964 A CNA2008100868964 A CN A2008100868964A CN 200810086896 A CN200810086896 A CN 200810086896A CN 101269431 A CN101269431 A CN 101269431A
Authority
CN
China
Prior art keywords
workpiece
plasma
scolder
workpieces
gas
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CNA2008100868964A
Other languages
English (en)
Inventor
K·W.·格斯滕贝格
E·万德克
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Linde GmbH
Original Assignee
Linde GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Linde GmbH filed Critical Linde GmbH
Publication of CN101269431A publication Critical patent/CN101269431A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K1/00Soldering, e.g. brazing, or unsoldering
    • B23K1/20Preliminary treatment of work or areas to be soldered, e.g. in respect of a galvanic coating
    • B23K1/206Cleaning
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/30Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor
    • H05K3/32Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits
    • H05K3/34Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits by soldering
    • H05K3/3489Composition of fluxes; Methods of application thereof; Other methods of activating the contact surfaces
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2203/00Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
    • H05K2203/09Treatments involving charged particles
    • H05K2203/095Plasma, e.g. for treating a substrate to improve adhesion with a conductor or for cleaning holes

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
  • Plasma Technology (AREA)
  • Arc Welding In General (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)

Abstract

一种用于对工件进行回流焊的装置,其包括一个焊料施加装置(2)、一个用于对该工件装备一些待通过焊接过程与该工件连接的部件的装件装置(3)和一个焊接区(4),在该焊接区中通过所述装备好的工件的加热而开始焊接过程,其中,在焊料施加装置(2)之前和/或在焊接区(4)之前设置一个用于对工件进行常压等离子体处理的等离子体机(5)。一种用于对工件进行回流焊的方法,其中首先将焊料施加到工件上,然后对工件装备待焊接的部件,将装备好的工件置于焊接区(4)中并且在那里通过加热所述装备好的工件而使它经受焊接过程,其中,在施加焊料之前和/或在执行焊接过程之前借助于一个等离子体机(5)使该工件经受一个常压等离子体处理。

Description

用于在焊接之前预处理电子部件的装置和方法
技术领域
本发明涉及一种用于对工件进行回流焊的装置,其包括一个焊料施加装置、一个用于对该工件装备一些待通过焊接过程与该工件连接的部件的装件装置和一个焊接区,在该焊接区中通过所述装备好的工件的加热而开始焊接过程。本发明还涉及一种用于进行回流焊的方法。
背景技术
术语回流焊或者再流焊表示一种公知的焊接方法,其例如经常使用在电子技术中。这种方法的特点是在对工件、例如印制电路板或印刷电路板装备待焊接的部件之前施加焊料。存在很多用于将焊料施加到工件上的可能性。优选使用例如以丝网印刷方法被印刷的焊膏。但是,该焊料也可以通过分配器、通过焊料成形件或者以电镀的方式施加。
在使工件装备所述部件之后,该装备好的工件被加热并且由此进行实际的焊接过程。对于工件的加热也存在多个可能性,例如通过加热板、通过被加热了的成形件、通过红外辐射器或借助于激光射束来加热。蒸汽相的焊料占据一个特殊位置,这也可属于回流焊方法,其中,工件的加热通过蒸汽在工件上的冷凝进行,该蒸汽在此将其冷凝热排放给工件。
发明内容
本发明的目的是,在进行回流焊时进一步改善可达到的焊接质量。
所提出的目的在装置方面通过以下方式解决,即,在焊料施加装置的前面和/或在焊接区的前面设置一个用于对工件进行常压等离子体处理的等离子体机。适合于此的等离子体机产生所谓的常压等离子体。在此,与低压等离子体相反地,可以在大气压的范围内进行工作。下面,对于常压等离子体应理解为这样一种等离子体,其在一个与环境压力偏差最高200mbar、即在环境压力±200mbar的压力下存在。特别是在800mbar到1200mbar之间的压力范围内产生常压等离子体。
低温常压等离子体已经被证实是特别合适的。在该上下文中,低温是指低于300℃的温度,优选在室温与250℃之间的范围内。由此可以有利地放弃真空室以及用于产生并且保持真空的相应装置。这是一个重要的进步,其在回流焊时显著地提高等离子体机的使用的吸引力。
已经发现,等离子体处理有利地改善焊料与工件之间或焊料熔融物与工件之间的润湿特性。这两个措施中的每一个本身或者组合地提高焊接质量。
符合目的的是,设置一个焊膏施加装置或者一个用于施加包括焊料的冲压件的装置作为焊料施加装置。这种冲压件也被称为预成形件。
优选该等离子体机构造成合适于产生一个等离子体火焰。为此,存在多个可能性,其中下面将举例地描述多个可能性。
根据本发明的一个优选的构型,该等离子体机具有至少两个电极。由此,该等离子体机可被使用例如用于自由的直接的或者受控的放电。在此,自由的放电仅仅通过外部条件来控制,而受控的放电例如可通过控制电流输入附加地主动地被控制。所谓的等离子体喷射和电弧放电也属于这种等离子体产生方式。
根据本发明的另一有利的构型,至少一个电极设有一个电介质。因此,该构型允许一个势垒放电或一个电晕放电。电晕放电例如特别适合于所有的应用情况,其中电势的去除不必被赋予任何意义。
特别有利的是,该等离子体机构造成合适于产生基本上无电势的等离子体放电。例如一种无电势的等离子体被证实是特别有利的,对其供入具有200W功率的中等频率的电压并且输入氮或者供入流量约20l/min的氮氢混合物。频率、功率、气体类型和气体混合物的组分以及气体流量的选择可以从广泛的范围中进行并且适配于当时的应用情况。
特别有利的是,该等离子体机具有一个用于过程气体的输入部分,以便产生等离子体火焰。例如可以使用压缩空气或者一种可还原的气体作为过程气体。例如由N2和H2组成的混合物例如适合于作为可还原的气体或气体混合物。组合气体、即N2和H2的比例为95∶5的混合物被证实是特别合适的。
但是,对于一些确定的应用场合,可氧化地起作用的气体或气体混合物的使用也可以是有利的。例如由N2和/或具有氧、CF4或CO2的氩组成的混合物可提供优点。
符合目的的是,该等离子体机具有一个输送装置,该输送装置使得等离子体火焰的运动成为可能。例如以1-20m/min范围的处理速度实现非常好的结果。
根据本发明的一个有利的拓展,设置了一个等离子体机,其被合适地构成以同时产生多个等离子体火焰。
根据本发明的另一有利的构型,设置了两个或多个等离子体机。
特别优选的是,这样构造和/或设置一个或多个等离子体机,使得允许两侧的等离子体处理,特别是分别在相反的侧上、例如在工件的上侧和下侧上。
在本发明的另一构型中以特别的优点设置一个壳体,其包围焊接区。通过该构型可以附加地利用在本发明中在保护气体和/或活性气体下进行焊接的所有优点。符合目的的是,在焊接区的范围内设置一个用于保护气体气氛和/或活性气体气氛进入的进入装置。
在方法方面,所提出的目的通过以下方式解决,即,在施加焊料之前和/或在执行焊接过程之前借助于一个等离子体机使工件经受一个常压等离子体处理。
优选将焊膏施加到工件上作为第一方法步骤。
根据本发明的另一有利的构型,将包括焊料的冲压件施加到工件上。
优选借助于等离子体机产生一个等离子体火焰。
特别优选的是,使用一个在两个电极之间的放电装置来产生等离子体火焰。由此,如前所述地利用一个自由的电击穿装置来产生的等离子体。
根据本发明的另一有利的构型,使用一个在两个电极之间的放电装置来产生等离子体火焰,其中,这些电极之一设有一个电介质。由此例如使用一个势垒-或电晕放电来产生等离子体。当在相关的应用中可放弃等离子体的无电势时,电晕放电的使用是特别值得推荐的。
有利的是,在产生等离子体火焰时使用一种过程流。例如可以使用压缩空气或可还原的气体作为过程气体。
特别有利的是,使用一种可还原地起作用的气体或气体混合物作为过程气体。例如由N2和H2组成的混合物适合于作为可还原的气体。组合气体、即N2和H2比例为95∶5的混合物被证实是特别合适的。
但是,对于一些确定的应用场合,可氧化地起作用的气体或气体混合物的使用也可以是有利的。例如由N2和/或具有氧、CF4或CO2的氩组成的混合物可提供优点。
特别有利的是使用一种无电势的等离子体。
符合目的的是,该等离子体机借助于一个输送装置来运动。例如以1-20m/min范围的处理速度实现非常好的结果。
优选使用多个等离子体火焰来处理工件。特别优选的是执行两侧的等离子体处理,特别是分别在相反的侧上、例如在工件的上侧和下侧上。
根据本发明的一个拓展,在焊接区的范围内使用一种保护气体和/或活性气体。在该拓展中,可以附加地利用在本发明中在保护气体和/或活性气体下进行焊接的所有优点。
本发明提供很多的优点,在此仅举例性地列举其中的几个:
明显提高焊接质量。这看来主要应归因于润湿特性的改善。此外,明显降低被焊接工件的再加工和再清洗的必要性,因为通过本发明实现了不期望的沉积物在各工件上的附着的明显降低。与传统的焊装置和焊接方法相比,实现了成本节约。通过本发明降低了在焊接设备上的维护工作的必要性。本发明特别是也允许使用这样的焊膏,其与传统焊膏相比具有降低的酸度或降低的熔剂含量。
附图说明
下面借助于附图中所示的实施例说明本发明以及本发明的进一步构型,其中:
图1示出本发明的用于进行回流焊的装置,包括一个位于焊膏施加装置之前的等离子体机,
图2示出本发明的用于进行回流焊的装置,包括一个位于焊接区之前的等离子体机,
图3示出示出本发明的用于进行回流焊的装置,包括一个位于焊接区之前和位于焊接区之前的等离子体机。
具体实施方式
图1详细示出一个输送装置1,其将工件(未示出)相继地输送到一个焊膏施加装置2、一个装件装置3和一个焊接区4。该焊接区4具有一个用于加热工件的装置(未示出)。在图1中,在焊膏施加装置2之前示出一个等离子体机5,该等离子体机用于在施加焊膏之前使每个工件经受一个等离子体预处理。合适的等离子体机例如是Tigres公司的等离子体枪MEF,该等离子体枪能够产生无电势的常压等离子体。
图2同样示出针对图1所述的元件,区别在于,等离子体机在此不是设置在焊膏施加装置2的前面,而是设置在焊接区4的前面。
图3示出所述实施例的组合,其中在焊膏施加装置2的前面和在焊接区4的前面分别设置一个等离子体机5。
在所有这三个实施例中,首先将焊膏施加到工件上,然后使工件装备待焊接的部件,然后将装备好的工件置入到焊接区4中并且在那里通过加热所述装备好的工件而使它经受焊接过程。在施加焊膏和/或在执行焊接过程之前,借助于一个等离子体机5使工件经受一个等离子体处理。该等离子体处理在900到1100mbar之间的压力下进行。

Claims (10)

1.一种用于对工件进行回流焊的装置,其包括一个焊料施加装置(2)、一个用于对该工件装备一些待通过焊接过程与该工件连接的部件的装件装置(3)和一个焊接区(4),在该焊接区中通过所述装备好的工件的加热进行焊接过程,其特征在于:在焊料施加装置(2)之前和/或在焊接区(4)之前设置一个用于对工件进行常压等离子体处理的等离子体机(5)。
2.按权利要求1所述的装置,其特征在于:该等离子体机(5)构造成合适于产生等离子体火焰。
3.按权利要求1或2所述的装置,其特征在于:该等离子体机(5)具有一输送装置,该输送装置使得等离子体火焰的运动成为可能。
4.按权利要求1-3中任一项所述的装置,其特征在于:这样地构造和/或设置一个或多个等离子体机(5),使得可进行双侧的等离子体处理,特别是分别在相反的侧上、例如在工件的上侧和下侧上。
5.一种用于对工件进行回流焊的方法,其中首先将焊料施加到工件上,然后对工件装备待焊接的部件,将装备好的工件置于焊接区(4)中并且在那里通过加热所述装备好的工件而使它经受焊接过程,其特征在于:在施加焊料之前和/或在执行焊接过程之前借助于一个等离子体机(5)使该工件经受一个常压等离子体处理。
6.按权利要求5所述的方法,其特征在于:将包括焊料的冲压件施加到工件上。
7.按权利要求5或6中任一项所述的方法,其特征在于:在添加过程气体的情况下形成所述等离子体火焰,其中,使用一种可还原地起作用的气体或气体混合物作为过程气体。
8.按权利要求5-7中任一项所述的方法,其特征在于:使用无电势的等离子体。
9.按权利要求5-8中任一项所述的方法,其特征在于:使用多个等离子体火焰来处理工件。
10.按权利要求5-9中任一项所述的方法,其特征在于:进行双侧的等离子体处理,特别是分别在相反的侧上、例如在工件的上侧和下侧上。
CNA2008100868964A 2007-03-20 2008-03-20 用于在焊接之前预处理电子部件的装置和方法 Pending CN101269431A (zh)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102007013326A DE102007013326A1 (de) 2007-03-20 2007-03-20 Vorrichtung und Verfahren zur Vorbehandlung von elektronischen Bauelementen vor dem Löten
DE102007013326.1 2007-03-20
EP07012718.8 2007-06-28

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN101269431A true CN101269431A (zh) 2008-09-24

Family

ID=38521346

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CNA2008100868964A Pending CN101269431A (zh) 2007-03-20 2008-03-20 用于在焊接之前预处理电子部件的装置和方法

Country Status (8)

Country Link
US (1) US20080230591A1 (zh)
EP (2) EP1972404A1 (zh)
KR (1) KR101428658B1 (zh)
CN (1) CN101269431A (zh)
DE (1) DE102007013326A1 (zh)
MY (1) MY151672A (zh)
PL (1) PL1972405T3 (zh)
TW (1) TWI391198B (zh)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101998773A (zh) * 2009-08-20 2011-03-30 琳德股份公司 印刷电路板组装中有机可焊性防腐涂层的等离子体处理
CN105830545A (zh) * 2013-11-11 2016-08-03 恩德莱斯和豪瑟尔两合公司 用于修复具有至少一个缺陷部件的电路板的方法

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2013004439A1 (de) 2011-07-01 2013-01-10 Reinhausen Plasma Gmbh Vorrichtung und verfahren zur plasmabehandlung von oberflächen
JP2013143542A (ja) * 2012-01-12 2013-07-22 Tokyo Electron Ltd 半導体デバイス製造システム及び半導体デバイス製造方法

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4032328A1 (de) * 1989-11-06 1991-09-19 Wls Karl Heinz Grasmann Weichl Verfahren und vorrichtung zur verarbeitung von zu verloetenden fuegepartnern
WO1995015832A1 (fr) * 1993-12-09 1995-06-15 Seiko Epson Corporation Procede et dispositif d'assemblage par brasage
FR2713528B1 (fr) * 1993-12-15 1996-01-12 Air Liquide Procédé et dispositif de fluxage par voie sèche de surfaces métalliques avant brasage ou étamage.
KR19980032019A (ko) * 1996-10-28 1998-07-25 야스카와 히데아키 표면 처리 방법 및 그 장치
US6607613B2 (en) * 1998-07-10 2003-08-19 International Business Machines Corporation Solder ball with chemically and mechanically enhanced surface properties
US6521857B1 (en) * 2001-11-19 2003-02-18 Geomat Insights, Llc Plasma enhanced bonding method and device
US7434719B2 (en) * 2005-12-09 2008-10-14 Air Products And Chemicals, Inc. Addition of D2 to H2 to detect and calibrate atomic hydrogen formed by dissociative electron attachment

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101998773A (zh) * 2009-08-20 2011-03-30 琳德股份公司 印刷电路板组装中有机可焊性防腐涂层的等离子体处理
CN105830545A (zh) * 2013-11-11 2016-08-03 恩德莱斯和豪瑟尔两合公司 用于修复具有至少一个缺陷部件的电路板的方法
US10237982B2 (en) 2013-11-11 2019-03-19 Endress+Hauser Se+Co.Kg Solder application stamp for applying solder on contact locations possessing small dimensions
CN105830545B (zh) * 2013-11-11 2019-08-20 恩德莱斯和豪瑟尔欧洲两合公司 用于修复具有至少一个缺陷部件的电路板的方法

Also Published As

Publication number Publication date
KR20080085688A (ko) 2008-09-24
DE102007013326A1 (de) 2008-09-25
EP1972405B1 (de) 2012-11-14
TW200920531A (en) 2009-05-16
PL1972405T3 (pl) 2013-03-29
EP1972404A1 (de) 2008-09-24
TWI391198B (zh) 2013-04-01
MY151672A (en) 2014-06-30
KR101428658B1 (ko) 2014-08-08
EP1972405A1 (de) 2008-09-24
US20080230591A1 (en) 2008-09-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
AU712613B2 (en) Method and device for wave soldering incorporating a dry fluxing operation
KR101576138B1 (ko) 유도가열 솔더링 장치
CN101269431A (zh) 用于在焊接之前预处理电子部件的装置和方法
US20040238511A1 (en) Method and apparatus for initiating welding arc with aid of vaporized chemical
US7434719B2 (en) Addition of D2 to H2 to detect and calibrate atomic hydrogen formed by dissociative electron attachment
EP1291111B1 (en) Hydrogen fluxless soldering by electron attachment
CN102123562B (zh) 采用回流焊接制作金属基板的方法
CN104084659B (zh) 采用热风焊接方法制备晶体管的生产方法
CA2385985A1 (en) Method and arrangement for a martensite-free brazing process
EP0681417A2 (en) Solder tool
CN103418873A (zh) 激光焊接机应用在对遮蔽屏解焊或焊接的方法
KR20010053616A (ko) 전자 부품을 기판에 납땜하는 리플로 솔더링 방법 및 장치
CN101998773A (zh) 印刷电路板组装中有机可焊性防腐涂层的等离子体处理
CN103465711B (zh) 一种空气源等离子体烙画装置及其绘画方法
JP3170490U (ja) ヒーターパネル型半田付け装置
CN211638605U (zh) 一种双头锡焊电洛铁
DE102006027027A1 (de) Lötverfahren
CN109195356A (zh) 一种印制电路板用的通孔回流焊接工艺
CN208600884U (zh) 一种用于等离子电弧增材制造的预热系统
KR20170043114A (ko) 기판 솔더링 장치 및 방법
CN117156703A (zh) 一种印制板组件返工返修器件的解焊方法
JPH09246705A (ja) 電子部品、その実装方法、及び電子デバイス
JP2848960B2 (ja) 低圧下でのプリント配線板の鑞接法
KR20040042623A (ko) 프로젝션 용접방법
CN114473112A (zh) 一种拆焊装置、系统及方法

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

Application publication date: 20080924