CN101266364A - 液晶薄膜的制造方法以及用于该方法的摩擦装置 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种液晶薄膜的制造方法，其包括对取向基板薄膜(20)的表面进行摩擦处理的摩擦工序；和将液晶聚合物涂敷在进行了摩擦处理的取向基板薄膜(20)上而在取向基板薄膜(20)上得到液晶层(23)的液晶层的形成工序，摩擦工序包括使挤压构件(5)接触在表面侧具有摩擦布(2)的摩擦辊(1)的摩擦布(2)，使付着在摩擦布(2)的粉尘从摩擦布(2)放出的粉尘放出工序、和吸引所放出的粉尘的粉尘吸引工序。

Description

液晶薄膜的制造方法以及用于该方法的摩擦装置

技术领域

本发明涉及一种液晶薄膜的制造方法以及制造液晶薄膜所使用的摩擦(rubbing)装置。

背景技术

在液晶显示器(LiquidCrystal Display；LCD)上利用用于视野角的改良及色补偿的液晶薄膜。在该液晶薄膜中，为了使具有光学各向异性，而需要使液晶分子向规定的方向取向。作为该方法，通常采用使成为液晶层的底层的取向基板薄膜的表面轻轻接触卷绕了摩擦布的摩擦辊，沿一定方向(摩擦方向)摩擦的摩擦处理。通过该摩擦处理，在以后工序中将含有液晶聚合物的溶液涂敷在取向基板薄膜上，进行干燥、热处理形成液晶层时，可以使液晶层内的液晶分子取向在摩擦方向。

但是，具有如下问题：由于该摩擦处理是物理性的处理，所以从取向基板薄膜剥离的剥离物会成为微小的粉尘付着在摩擦布上，随着摩擦辊的旋转，其粉尘被放出并付着在取向基板上。当发生这种现象时，有在以后工序中在取向基板薄膜表面上所形成的液晶层中的液晶分子取向不均匀、或产生不取向的部分的情况。

为解决这种发生粉尘的问题，公认的方法为：在进行一定时间的摩擦处理后，从摩擦装置取下摩擦辊进行除尘。但是，由于制造的液晶薄膜的长度一般为数百米长的长条形状，所以摩擦处理也必须进行较长的时间，每隔一定时间就要取下摩擦辊洗涤，所以非常麻烦且生产效率低。

因此，在特开平9-166784号公报中公开了在进行摩擦处理的同时对摩擦辊进行除尘的技术。在该摩擦装置中，接近摩擦辊设置有除尘器，在摩擦处理中利用上述除尘器将超声波震动的压缩空气喷到摩擦辊上，同时通过吸引放出的粉尘来进行除尘。

但是，利用特开平9-166784号公报记载的技术进行摩擦处理时，发生以下所述的课题。

即，上述除尘器是单独进行压缩空气的喷气和粉尘吸引的。因此，由于压缩空气的吹附而从摩擦辊上分离的粉尘，因压缩空气的吹附而再次付着在摩擦辊表面。即，压缩空气成为吸引从摩擦辊分离的粉尘方面的障碍。其结果发生如下问题，即随着摩擦辊的旋转粉尘付着在取向基板薄膜上。

发明内容

因而，本发明的目的在于，提供一种液晶薄膜的制造方法以及制造液晶薄膜所使用的摩擦装置。其方法为：可不使生产率降低地充分防止摩擦处理时的粉尘导致的对液晶薄膜的不良影响的液晶薄膜制造方法。

本发明提供一种液晶薄膜的制造方法，其特征在于，包括：对取向基板薄膜的表面进行摩擦处理的摩擦工序；和将液晶聚合物涂敷在进行了摩擦处理的取向基板薄膜上，在取向基板薄膜上得到液晶层的形成液晶层的工序，摩擦工序包括：使挤压构件接触在表面侧具有摩擦布的摩擦辊的摩擦布，使付着在摩擦布的粉尘从摩擦布放出的粉尘放出工序、和吸引所放出的粉尘的粉尘吸引工序。

根据本发明，在摩擦处理时付着于摩擦布上的粉尘通过与摩擦布接触的挤压构件的挤压而从摩擦布放出，然后被吸引。这时，与喷出压缩空气的情况不同，在吸引从摩擦布放出的粉尘方面，挤压构件不成为防碍。因此，可以容易地吸引从摩擦布放出的粉尘，进而可以防止由粉尘造成的对液晶薄膜的不良影响。另外，如上所述，根据本发明，由于可以容易地进行除尘，所以可不更换摩擦辊而长期地进行液晶薄膜的制造。因此，可以充分地防止生产效率的降低。

本发明涉及的液晶薄膜的制造方法中，优选使与摩擦布接触的挤压构件的挤压力，随摩擦辊的旋转而改变。由此，可以更有效地使粉尘从摩擦布放出，且有效地进行摩擦布的除尘。

另外，优选通过利用振子使所述挤压构件振动，使挤压力改变。由此，可以强制性地改变挤压构件的挤压力，因此，可以充分地进行摩擦布的除尘。另外，由于能够可靠地使挤压构件的挤压力改变，所以即使在摩擦辊的旋转速度低的情况下，挤压力也可靠地改变。因此，能够确实地进行摩擦布的除尘。

另外，优选以与摩擦辊的旋转轴平行的方向为轴，可旋转地支承挤压构件，同时使其与摩擦布接触而挤压。该情况下，当摩擦辊旋转时，挤压构件以与摩擦辊的旋转轴平行的方向为轴而自然地振动。这时，挤压构件对摩擦布的挤压力就会自然的变动。因此，不需要用于使挤压构件的挤压力改变的动力、可使运转成本降低，而且，能够更有效地使粉尘从摩擦布放出，因此，可有效地进行摩擦布的除尘。

另外，对于挤压构件，优选将所述挤压构件和所述摩擦布的接触部分做成网眼状。由此，由于挤压力充分改变，所以即使在摩擦辊旋转速度低的情况下，也可以有效地进行摩擦布的除尘。

另外，本发明提供一种摩擦装置，其特征在于，具备：在表面侧具有摩擦布的摩擦辊、和与摩擦布接触进行挤压的挤压构件、和吸引利用挤压构件从摩擦布放出的粉尘的吸引装置。

根据本发明的摩擦装置，当使该摩擦装置的摩擦辊的摩擦布与取向基板薄膜表面相接触，进行摩擦处理时，付着在摩擦布上的粉尘因与摩擦布接触的挤压构件的挤压从摩擦布放出，而后被吸引装置吸引。这时，挤压构件不妨碍对从摩擦布放出的粉尘的吸引。因此，通过吸引装置可以容易地吸引从摩擦布放出的粉尘，进而，可以防止粉尘对液晶薄膜产生的不良影响。另外，这样，根据本发明，由于粉尘被容易地吸收，所以可以长期不更换摩擦辊。因此，本发明的摩擦装置有利于充分防止液晶薄膜生产效率的降低。

根据本发明，提供一种不使生产率降低而可以防止由摩擦处理时的粉尘造成的对液晶薄膜的不良影响的液晶薄膜的制作方法，以及用于液晶薄膜的制造的摩擦装置。

附图说明

图1为表示本发明的液晶薄膜的制造方法的第1实施方式的一系列制造工序的工序图；

图2为表示本发明的液晶薄膜的制造方法的第1实施方式中所使用的摩擦装置的立体图；

图3为沿图2的III-III线的剖面图；

图4为表示本发明的液晶薄膜的制造方法的第2实施方式中所使用的摩擦装置的剖面图；

图5为表示本发明的液晶薄膜的制造方法的第3实施方式中所使用的摩擦装置的剖面图；

具体实施方式

下面，参照附图对本发明的实施方式进行详细说明。需要说明的是，在各图中，同一要素用同一符号表示。另外，图中的构成要素内及构成要素间的尺寸比率不限于图示的比率。

第一实施方式

首先，参照图1对本发明的液晶薄膜的制造方法的第一实施方式进行详细说明。图1的(a)～(f)为本实施方式的液晶薄膜的制造方法的一系列工序图。

首先，对用本实施方式的液晶薄膜的制造方法所得到的液晶薄膜30进行说明。

如图1的(f)所示，液晶薄膜30其构成为：在透明基板薄膜26上顺序层叠粘接剂层24、液晶层23、外敷层(over coat)28以及保护膜29。

液晶薄膜30如下制造。

即，如图1中(a)～(f)所示，液晶薄膜30主要经由如下工序得到，利用摩擦装置10对取向基板薄膜20的表面实施摩擦处理的摩擦工序(参照图1(a))；在摩擦处理过的取向基板薄膜20的表面涂敷液晶聚合物溶液22的涂敷工序(参照图1(b))；使液晶聚合物溶液22干燥的干燥工序(参照图1(c))；加热干燥后的液晶聚合物溶液22，使液晶相出现，得到液晶层23的热处理工序(参照图1(d))；将液晶层23和透明基板薄膜26通过粘接剂层24贴合后，将取向基板薄膜20自液晶层23剥下，将液晶层23从取向基板薄膜20转印到透明基板薄膜26的转印工序(参照图1(e))；以及，在液晶层23的透明基板薄膜26侧的相反侧的面上贴合外敷层28以及保护膜29，得到液晶薄膜30的保护层形成工序(参照图1(f))。

下面，对各工序进行详细说明。

(摩擦工序)

首先，对摩擦工序进行说明。如上所述，摩擦工序为利用摩擦装置10对取向基板薄膜20的表面实施摩擦处理的工序。

在此，取向基板薄膜20通过摩擦处理其表面，将液晶层23形成在其表面上之际，若使液晶层23内的液晶分子的取向方向可取向在取向基板薄膜20的面内，则没有特别限制。作为这样的取向基板薄膜20的材质，可例举例如：聚酰亚胺、环氧树脂、酚醛树脂等热固性树脂、尼龙等聚酰胺、聚醚酰亚胺、聚醚酮、聚醚醚酮(PEEK)、聚酮、聚醚砜、聚苯硫醚、聚苯醚、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯等聚酯、聚缩醛、聚碳酸酯、聚(甲基)丙烯酸酯、三乙酰纤维素等的纤维素类树脂以及聚乙烯醇等的热塑性树脂等，但是，特别是聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚苯硫醚、PEEK、聚乙烯醇等热塑性树脂不担心因用于使后工序的液晶相出现的加热导致的摩擦处理的效果全无或减弱。这是优选的。

其次，参照图2对摩擦装置10进行详细说明。图2为表示对取向基板薄膜进行摩擦处理的摩擦装置的立体图，图3为沿图2的III-III线的剖面图。

如图2及图3所示，摩擦装置10具备有例如具有做成圆柱状的辊主体1a和沿辊主体1a的外周面卷绕的摩擦布2的摩擦辊1；以接触摩擦布2的方式设置且挤压摩擦布2的挤压构件5；吸引从摩擦布2放出的粉尘的吸引装置6。在此，辊主体1a以其中心轴为旋转轴，通过发动机等驱动机构(未图示)可以旋转。挤压构件5为板状构件，以贯通该板状构件的轴为旋转轴5a，被可旋转地支撑。使该旋转轴5a与摩擦辊1的旋转轴平行地进行配置。另外，吸引装置6设置在沿辊主体1a的周方向与挤压构件5邻接的位置且在与摩擦辊1离开的位置。

使用上述摩擦装置10进行取向基板薄膜20的摩擦处理时，摩擦装置10例如如下地配置：使摩擦辊1的旋转轴与取向基板薄膜20的运输方向正交，且使摩擦辊1的摩擦布2的规定位置随旋转依次通过挤压构件5和吸引装置6，这时，使挤压构件5与摩擦布2相接触。

而且，通过输送装置(未图示)，使取向基板薄膜20在导辊25上，以规定速度向图2的箭头方向A输送的状态下，使摩擦辊1旋转。此时的摩擦辊1的旋转方向在摩擦辊1和取向基板薄膜20接触的位置成为与取向基板薄膜20的输送方向相同的方向。

由此，取向基板薄膜20的表面通过摩擦布2在和取向基板薄膜20的输送方向同一方向进行摩擦。

通过该处理，在后工序中，在使液晶层23形成在取向基板薄膜20的表面时，可使液晶层23的液晶分子的长度方向在与取向基板薄膜20的面平行的面内，朝向进行摩擦处理的方向。

另外，如上所述，当使用摩擦装置10进行取向基板薄膜20的摩擦处理时，可以充分防止由摩擦处理时的粉尘导致的对液晶薄膜产生的不良影响。即，在摩擦处理时，从取向基板薄膜20剥离的剥离物和从摩擦布2剥离的剥离物，作为微小粉尘付着在摩擦布2上，但是，若使用本实施方式的摩擦装置10进行摩擦处理，付着在摩擦布2上的粉尘通过与摩擦布2接触的挤压构件5的挤压，从摩擦布2放出。

而且，从摩擦布2放出的粉尘，通过吸引装置6被吸引。在此，挤压构件5与喷出压缩空气进行摩擦布2的除尘情况不同，不妨碍对从摩擦布2放出的粉尘的吸引。因此，可以容易地吸引从摩擦布2放出的粉尘。进而，可防止由粉尘导致的对液晶薄膜产生的不良影响。

另外，当使用摩擦装置10进行摩擦处理时，由于摩擦布2的除尘可容易地进行，所以可以不更换摩擦辊1地长期进行液晶薄膜的制造。因此，可以充分防止生产效率的降低。

进而，在摩擦装置10中，挤压构件5在与摩擦辊1的旋转轴平行的方向作为旋转轴5a可旋转地被支撑。因此，当摩擦辊1旋转时，挤压构件5在与摩擦辊1的旋转轴平行的方向作为轴而自然地振动。由此，与摩擦布2相接触的挤压构件5的挤压力随摩擦辊1的旋转而变动。因此，更有效地从摩擦布2放出粉尘，从而使摩擦布2的除尘有效地进行。而且，由于使挤压构件5的挤压力变动不使用动力，所以可以使运转成本降低。

如上所述，使挤压力改变时，如果挤压构件5不离开摩擦布2，则除尘可靠，从而优选。这是通过调整摩擦辊1的旋转数、挤压构件5的重量、摩擦布2的表面粗糙度而实现的。

其次，说明摩擦装置10的各构成要件。

对辊主体1a进行说明。沿辊主体1a的延长方向的长度对应于取向基板薄膜20的宽度适当选择。辊主体1a的宽度优选与取向基板薄膜20的宽度相同或比其大。另外，辊主体1a的材质没有特别的限定。但是优选具有耐长时间的摩擦处理的机械强度的材质。这样的材质例如可以举出铝、不锈钢等金属。

摩擦布2是用于擦拭取向基板薄膜20表面的布，摩擦布2的材质可以设定为例如：尼龙或芳族聚酰胺纤维等聚酰胺纤维、丙烯酸纤维、聚酯、人造纤维、棉或这些物质的混纺品。

从充分除尘的观点看，挤压构件5优选沿辊主体1a的延长方向的整个长度与摩擦布2相接触。该接触时的挤压力为取决于挤压构件5的重量、形状、旋转轴的位置以及与摩擦辊1的相对位置而变化的值，通过适当决定这些条件，可以实现所希望的挤压力。另外，挤压构件5中与摩擦布2接触的面，可以为平坦的，也可以具有凹凸。但是，该面具有凹凸将更能提高除尘效果。

挤压构件5中与辊主体1a的延长度方向平行的方向长度，没有特别限定，优选与沿辊主体1a的延长度方向的长度相同，或比其还大。该情况下，挤压构件5由于与摩擦布2的整体接触且挤压摩擦布2，所以挤压构件5中与辊主体1a的延长度方向平行的方向的长度，与沿辊主体1a的延长度方向的长度短的情况相比，除尘效果进一步得到提高，可以更充分防止对液晶层23中的液晶分子的取向所产生的不良影响。挤压构件5的材质没有特别限制，可以设定为例如：铝、不锈钢等金属、合成树脂、木材等。

吸引装置6只要是可以吸引从摩擦布2放出的粉尘的装置，就没有特别的限定。例如由吸引头和排气装置构成，其中所述吸引头为具有多个吸引口9a、与多个吸引口9a连通的中空部、和连通中空部且用于连接泵等排气装置(未图示)的接口7a的吸引头；所述排气装置为与吸引头的接口7a相接的排气装置。在此，吸引头例如由具有与凹部7b及与凹部7b连通的接口7a的吸引构件7和具有多个吸引口9a并设置为覆盖吸引构件7的凹部7b的罩构件9构成。该情况下，使罩构件9朝向摩擦辊1侧，吸引构件7朝向与摩擦辊1的相对侧来配置吸引头。通过用罩构件9覆盖吸引构件7的凹部7b，凹部7b成为中空部。在此，中空部通过排气装置成为负压，因此，粉尘被罩构件9从吸引口9a吸引到吸引头的中空部后，由排气装置通过接口7a被排出到吸引头的外部。因此，可以防止粉尘再次付着在取向基板薄膜20上。

吸引构件7中与辊主体1a的延长方向平行方向的长度，优选比沿摩擦布2的延长方向的长度(沿与摩擦布2的辊主体1a的旋转轴平行的方向的长度)长。例如，相对于摩擦布2的长度可以成为1.01～2倍。

吸引构件7的材质没有特别限制，可以设定为例如：铝、不锈钢等金属、合成树脂、木材等。

罩构件9例如用形成多个吸引口9a的板状构件构成，用粘着剂粘贴在与吸引构件7的摩擦辊1的相对的面。罩构件9例如可以由振动板构成。吸引口9a的形状可以为如图2及图3所示的圆形之外的椭圆形、四边形、和细长的狭缝状等。

罩构件9的材质没有特别限制，可以设定为例如：铝、不锈钢等金属、合成树脂、木材等。

(涂敷工序)

下面，对摩擦工序后实行的涂敷工序进行说明。如图1(b)所示，涂敷工序为在上述摩擦工序中实行了摩擦处理后的取向基板薄膜20上涂敷液晶聚合物溶液22的工序。

液晶聚合物溶液22为将向列液晶、近晶液晶、胆甾醇型液晶、碟型液晶等的热致液晶的聚合物溶解于适当的溶剂的溶液。该液晶聚合物具体可使用例如，使具有羧酸基、醇基、酚基、氨基、硫醇基等的化合物缩合成的缩合类液晶聚合物；将具有丙烯酰基、甲基丙烯酰基、乙烯基、烯丙基等双键的液晶性化合物等作为原料得到的液晶性乙烯基聚合物；由具有烷氧基硅烷基的液晶化合物等合成的液晶性聚硅氧烷；由具有环氧基的液晶性化合物等合成的液晶性环氧树脂；或上述液晶聚合物的混合物。在这些各种液晶聚合物中，从得到的液晶薄膜的光学特性等观点出发，最优选缩合类液晶聚合物。

作为液晶聚合物溶液22的溶剂，只要是可溶解上述液晶聚合物的溶剂就可以，则不进行特别限制，通常优选使用例如：丙酮、甲基乙基酮、异佛尔酮、环己酮等酮类；丁氧基乙醇、己氧基乙醇、甲氧基-2-丙醇、苄氧基乙醇等醚醇类；乙二醇二甲醚、二甘醇二甲醚等二醇醚类；醋酸乙酯、乳酸乙酯、γ-丁内酯等酯类；苯酚、氯代苯酚等酚类；N，N-二甲基甲酰胺、N，N-二甲基乙酰胺、N-甲基吡咯烷酮等酰胺类；三氯甲烷、四氯乙烷、二氯苯等卤素类等或这些溶剂的混合物类。另外，为了在取向基板薄膜20上形成均匀的涂层，也可以在溶液中添加表面活性剂、消泡剂、流平剂等。

在该涂敷工序中，通常使用辊式涂敷机等涂敷机，对进行了摩擦处理的取向基板薄膜20的表面涂敷上述液晶聚合物的溶液22，使其在取向基板薄膜20的长度方向上连续形成均匀的膜厚。涂敷的液晶聚合物溶液22的膜厚例如可以设定为5～50μm。

(干燥工序)

如图1(c)所示，在上述涂敷工序之后进行的干燥工序为加热取向基板薄膜20并使涂敷在其表面的液晶聚合物溶液22的溶剂气化的工序。具体而言，使取向基板薄膜20上的液晶聚合物溶液22例如一边依次通过彼此邻接的多个干燥炉，一边进行输送，将用于使液晶聚合物溶液22干燥的气体向各干燥炉导入，沿取向基板薄膜20的长度方向，连续干燥液晶聚合物溶液22。该情况下，优选对各个干燥炉设定不同的干燥条件。此时，可使液晶聚合物溶液22均匀干燥。

(热处理工序)

上述干燥工序之后进行热处理工序。如图1(d)所示，热处理工序为加热干燥后的液晶聚合物溶液22，在使液晶相出现以后，进行冷却，得到液晶分子取向在一定方向的液晶层23的工序。具体而言，将取向基板薄膜20从热处理炉中通过而进行输送，使液晶聚合物溶液22的温度达到液晶聚合物从固体向液晶转变的温度(以下称(液晶转变温度))以上之后，进行冷却。此时，可以通过从热处理炉中输出冷却。

加热到液晶转变温度以上的液晶聚合物从固相向液晶相进行相转变而具有流动性。因此，液晶聚合物易向摩擦处理方向取向。

其后，如果将取向基板薄膜20冷却到液晶转变温度以下，则液晶聚合物就成为玻璃状态而失去流动性，液晶分子就在以液晶相的取向状态下固定化。这样以来，就得到液晶分子取向在一定方向的液晶层23。

(转印工序)

上述热处理工序之后进行转印工序。如图1(e)所示，转印工序为在将液晶层23和各向同性透明基板薄膜26通过粘接剂层24贴合之后，通过将取向基板薄膜20从液晶层23剥下，将液晶层23从取向基板薄膜20转印到各向同性透明基板薄膜26的工序。

各向同性透明基板薄膜26为由光学特性各向同性、对可见光透明的材料构成的薄膜，具有支持最终的液晶薄膜的功能。该材质只要满足上述的条件且具有适度的平面性的材质，不进行特别限制，例如，除TAC(三乙酰纤维素)、PET(聚对苯二甲酸乙二醇酯)等外，还可以使用聚甲基丙烯酸甲酯、聚苯乙烯、聚碳酸酯、聚醚砜、聚苯硫醚、聚芳酯、无定形聚乙烯等。另外，即使具有光学各向异性，只要对作为目标的液晶薄膜的功能不产生不良影响，就可以使用。其例子可以举出拉伸聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜、聚环烯、聚碳酸酯等相位差薄膜。

作为粘接剂层24，优选对可见光的吸收率充分小且具有光学各向同性的粘接剂层，可使用诸如丙烯酸类、环氧类、乙烯-醋酸乙烯酯共聚物类、橡胶类、氨基甲酸酯类、以及这些的混合类等。另外，粘接剂层24即使是热固化型、光固化型、电子射线固化型等任一种类型的粘接剂，可以没有问题地使用。

取向基板薄膜20和液晶层23的剥离方法可采用诸如：用辊等机械性剥离的方法、在对这些构成材料的贫溶剂中浸渍过后机械性剥离的方法、在不良溶剂中用超声波剥离的方法、利用取向基板薄膜20和液晶层23的热膨胀系数之差给予温度变化剥离的方法、将取向基板薄膜20自身溶解去除的方法等。由于根据取向基板薄膜20和液晶层23的密合性而剥离性不同，所以，适当选择。

如上所述，由于采用将液晶层23从取向基板薄膜20转印到各向同性透明基板薄膜26的工序，因此，具有加大取向基板薄膜20的材料选择的自由度这种优点。即，取向基板薄膜20需要具备：具有能使液晶分子取向的功能以及具有热处理工序中的耐热性等条件。如同本实施方式那样，如果采用液晶层23的转印工序，则对取向基板薄膜20必要的条件就变少，因此，为了使液晶分子以所希望的方式取向，可选择更适当的材料。

(保护层形成工序)

上述转印工序之后进行保护层形成工序。如图1(f)所示，保护层形成工序就是在和液晶层23的各向同性透明基板薄膜26侧的相反侧的面上，贴合外敷层28及保护膜29的工序。

外敷层28为用于保护液晶层23的层，优选对可见光的吸收率充分小、光学各向同性的材质，若考虑和保护膜29的附着性等，则可采用和上述的粘接剂层24同样的材质。

保护膜29为用于进一步保护外敷层28的薄膜，可以直接贴在外敷层28的表面，也可以通过粘接剂贴。作为该情况下的粘接剂，由和粘接剂层24同样的材质构成，在使用光固化型或电子线固化型的粘接剂的情况下，因为将该粘接剂涂敷在外敷层28的表面后，在未固化的粘接剂层上贴保护膜29，所以通过使粘接剂层固化，就能够使外敷层28和保护膜29贴合。

使用于保护膜29的材质为了成品检查等，优选在可见光区域透明的材质，可例举诸如：PET、聚甲基丙烯酸甲酯、聚苯乙烯、聚碳酸酯、聚醚砜、聚芳酯、聚环烯、聚乙烯、乙烯-乙烯基单体共聚物、聚丙烯这样的聚烯烃、三乙酰纤维素等。由这些材质等构成的保护膜29的厚度参照适用于得到的液晶薄膜30的后加工的工序，可进行适当选择，通常为1～500μm，优选10～100μm。

经过以上的工序，得到液晶薄膜30。这样以来，液晶薄膜30的制造结束。

(第二实施方式)

图4为表示用于本发明的第2实施方式的摩擦装置的剖面图，表示使用该摩擦装置在取向基板薄膜上摩擦的状态。本实施方式的摩擦装置10a，在进而设置用于使挤压构件5强制性地振动的振子8方面，与第1实施方式的摩擦装置10不同。

振子8沿图4的箭头B方向振动，以使与摩擦布2接触的挤压构件5的挤压力变化。这样，若作成使挤压构件5的挤压力强制性地变动的构成，则即使在摩擦辊1的旋转速度低的情况下，挤压力也能够可靠地变动。因此，摩擦布2的除尘可可靠地进行。

只要使挤压构件5强制性地振动，则振子8的种类没有任何限制。振子8引起振动的振幅是挤压构件5不从摩擦布2离开的范围的值。振子8的振动数没有特别的限制，例如可以设定为1～60Hz。

(第三实施方式)

图5为表示用于本发明的第3实施方式的摩擦装置的剖面图，表示使用这种摩擦装置在取向基板薄膜上摩擦的状态。本实施方式的摩擦装置10b中，挤压构件50包括具有沿辊主体1a的延长方向的开口的主体部，和嵌入在主体部开口的网眼状构件50b。在这种网眼状构件50b与摩擦布2接触的方面，与第1实施方式的摩擦装置10不同。

网眼状构件50b例如用金属等构成，使其从主体部向摩擦布2侧突出地进行设置。挤压构件50随摩擦辊1的旋转自然且容易地振动。因而，即使在摩擦辊1的旋转速度低的情况下，摩擦布2的除尘也可以有效地进行。网眼状构件50b优选在摩擦布2之中，沿辊主体1a的延长方向的全长确实地与摩擦布2接触。该情况下，可以在整个摩擦布2的范围内使粉尘放出，因此，可以充分地防止粉尘再次付着到取向基板薄膜20上。

本发明并不限定于上述实施方式。

例如，液晶聚合物溶液22不局限于如上述实施方式那样使液晶聚合物溶解于溶剂的溶液，也可使用将液晶聚合物自体融解成液状的液体。在这样的情况下，可省略上述的干燥工序。

另外，液晶层23的液晶分子的取向的固定化不局限于如上述实施方式那样利用液晶转变温度高的热致液晶的相转变的方法，也可以取向后通过光交联或热交联将取向固定化。该情况下，可使用液晶转变温度低的液晶聚合物。此时，可替代上述的热处理工序而实行光交联或热交联的工序。

另外，取向基板薄膜20只要为光学各向同性、对可见光透明的材料，也可以将取向基板薄膜20作为最终的液晶薄膜的支持薄膜。即，也可以省略上述的转印工序，在取向基板薄膜20上，将液晶层23、外敷层28、保护膜29按该顺序层合，作为液晶薄膜。

进而，液晶薄膜30只要是利用了将液晶层23的液晶分子固定在特定的取向状态，由其取向状态产生的光学各向异性的薄膜，不进行特别限制，例如可例举，作为视野角改良薄膜及色补偿薄膜所利用的薄膜。

另外，在上述实施方式中，摩擦辊1的伸长方向和取向基板薄膜20的输送方向正交，但是，这些不局限于正交的情况，以锐角或钝角交叉也可以。

进而，在上述第2实施方式中，挤压构件5绕与辊主体1a的旋转轴平行的旋转轴5a周围可旋转地被支撑。但挤压构件5也可以按照在振子8的振动方向往复移动的方式安装于振子8上。

Claims (9)

1.一种液晶薄膜的制造方法，其特征在于，包括：

对取向基板薄膜的表面进行摩擦处理的摩擦工序；和

将液晶聚合物涂敷在进行了摩擦处理的上述取向基板薄膜上，在上述取向基板薄膜上得到液晶层的形成液晶层的工序，

所述摩擦工序包括：

使挤压构件接触在表面侧具有摩擦布的摩擦辊的上述摩擦布，使付着在上述摩擦布的粉尘从上述摩擦布放出的粉尘放出工序、和

吸引所放出的粉尘的粉尘吸引工序。

2.如权利要求1所述的液晶薄膜的制造方法，其特征在于，使与上述摩擦布接触的挤压构件的挤压力，随所述摩擦辊的旋转而改变。

3.如权利要求1所述的液晶薄膜的制造方法，其特征在于，通过利用振子使所述挤压构件振动，使挤压力改变。

4.如权利要求1～3中任一项中所述的液晶薄膜的制造方法，其特征在于，以与所述摩擦辊的旋转轴平行的方向为轴，一边可旋转地支撑上述挤压构件一边使其与上述摩擦布接触而挤压。

5.如权利要求1所述的液晶薄膜的制造方法，其特征在于，对于上述挤压构件，将所述挤压构件和所述摩擦布的接触部分做成网眼状。

6.一种摩擦装置，其特征在于，具备：

在表面侧具有摩擦布的摩擦辊、和

与所述摩擦布接触进行挤压的挤压构件、和

吸引通过上述挤压构件从上述摩擦布放出的粉尘的吸引装置。

7.如权利要求6所述的摩擦装置，其特征在于，还具备通过所述挤压构件改变所述挤压力的振子。

8.如权利要求6所述的摩擦装置，其特征在于，以与所述摩擦辊的旋转轴平行的方向为轴，可旋转地支撑所述挤压构件。

9.如权利要求6～8中任一项中所述的摩擦装置，其特征在于，所述挤压构件至少在与所述摩擦布接触的位置具有网眼状部。

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