CN101250380B - 用于光学加工的水基磁流变抛光液及其制备方法 - Google Patents

Abstract

一种用于光学加工的水基磁流变抛光液，由下述体积组分组成：水基复配载液25％～75％和添加组分25％～75％，其中添加组分按下述体积百分比分配：羰基铁粉80％～90％，纳米铁粉4％～10％和抛光粉4％～10％，水基复配载液以体积百分比计包括去离子水85％～90％，分散剂3％～5％，润湿剂2％～5％和触变剂3％～5％。其配制方法为将去离子水与触变剂混合，室温下搅拌1～2小时；再加入分散剂，室温下搅拌0.5～1小时；然后加入润湿剂，室温下搅拌0.5～1小时，得水基复配载液；将添加组分与水基复配载液混合，加入球磨罐中，按1∶10质量比加入钢球，以20～30转/分的速度球磨3～5小时，分离出钢球，得产品。本发明的抛光液稳定性好、流变性高、抗氧化性能好且制备工艺简单环保。

Description

用于光学加工的水基磁流变抛光液及其制备方法

技术领域

本发明属于精密光学零件加工制造领域，具体涉及一种用于光学零件制造的水基磁流变抛光液及其制备方法。

背景技术

磁流变抛光技术是一种确定性先进光学制造技术，它利用磁流变液在高强度梯度磁场下的固液相瞬变特性，通过外磁场对磁流变抛光液的剪切屈服应力和局部形状影响，形成一个能够与被加工表面相吻合的“柔性抛光模”，从而实现对光学元件的确定性高精度定量修形和抛光，同时保证亚纳米级粗糙度的表面加工质量、微小的工件亚表面损伤和高的加工效率。要实现高精度、高效率的磁流变抛光，其关键技术之一是磁流变抛光液的制备技术。当前国内外对磁流变液的研究比较多，而对专门用于磁流变抛光的磁流变抛光液的研究则比较少。虽然磁流变抛光液跟磁流变液有一定的相关性，但是由于其具体应用不同，又具有一定的差别。满足光学零件制造的磁流变抛光液具有以下性能特点：1.凝聚稳定性和沉降稳定性好。磁流变抛光液在长时间存放时不发生凝聚抱团现象，这将直接导致磁流变抛光液的失效。相对来说，磁流变抛光液对沉降稳定性相对要求并不严格，只要磁流变液在长时间静置后只发生软沉降，在外部轻微扰动的情况下，磁流变液能够迅速恢复均匀分散的状态就能满足要求，因为抛光过程中磁流变液是循环运动的；2.流变性能好。光学零件的磁流变抛光是利用磁流变抛光液在磁场作用下表观粘度的提高而进行材料去除，因此，要求磁流变抛光液的剪切屈服应力大，以提高加工效率；3.零磁场粘度低。磁流变抛光液在无外加磁场时，应具有良好的流动性，以便抛光装置对其进行循环使用；4.环保性和廉价性好。

磁流变抛光液根据基载液的不同主要分为水基磁流变抛光液和非水基磁流变抛光液，与其它基载液相比：水成本低无污染，同时水还具有良好的冷却和洗涤润滑作用，并且可促进玻璃材料表面的水解，提高抛光效率。但是，利用水作为基载液存在以下问题：1.与磁敏微粒相容性差，磁敏微粒容易沉降和结团，使得磁流变抛光液凝聚稳定性和沉降稳定性变差；2.磁敏微粒容易氧化，导致剪切应力降低，流变性变差。要利用磁流变抛光液进行抛光需要解决以上问题。当前还没有商品化的用于光学加工的磁流变抛光液销售，在国外，美国QED公司申请了有关水基磁流变抛光液的专利(US 5804095)，其公开的是在水和磁性颗粒中添加丙三醇作为活性剂，Na₂CO₃作为防氧化剂，氧化铯作为抛光粉来配制水基磁流变抛光液。由于其采用的添加剂分子吸附能力不强，对液体颗粒的分散作用弱，配制的水基磁流变抛光液并不能很好的解决其凝聚稳定性和沉降稳定性较差的问题。国内磁流变抛光液的研究刚刚起步，专利号为ZL200410060854.5的专利公开了一种亲水性聚合物包裹的磁性粒子及其制备方法以及由其组成的水基磁流变液，它是在磁敏微粒表面包覆高分子基团，以提高其在水基中的稳定性。这种方法工艺繁杂，生产成本高，对于需要大量磁流变抛光液的光学零件抛光使用，价格将非常昂贵。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是克服上述现有技术的缺陷，提供一种稳定性好、流变性高、抗氧化性能好，制备工艺简单环保的用于光学加工的水基磁流变抛光液及其制备方法。

为解决上述技术问题，本发明采用下述技术方案。

本发明用于光学加工的水基磁流变抛光液，其特征在于它由下述体积组分组成：

水基复配载液25％～75％和添加组分25％～75％，

其中，所述的添加组分为羰基铁粉、纳米铁粉和抛光粉，按下述体积百分比分配：

羰基铁粉：80％～90％，

纳米铁粉：4％～10％，

抛光粉：4％～10％，

所述的水基复配载液包括下述按体积百分比计的组分，

去离子水：85％～90％，

分散剂：3％～5％，

润湿剂：2％～5％，

和触变剂：3％～5％。

所述水基复配载液还可包括按体积百分比计的下述组分：pH值调节剂0.1％～0.5％、抗氧化剂0.1％～0.5％和消泡剂0.1％～0.5％；或所述水基复配载液还包括按体积百分比计0.1％～0.5％的pH值调节剂；或所述水基复配载液还包括按体积百分比计0.1％～0.5％的抗氧化剂；或所述水基复配载液还包括按体积百分比计0.1％～0.5％的消泡剂；或所述水基复配载液还包括按体积百分比计0.1％～0.5％的pH值调节剂和0.1％～0.5％的抗氧化剂；或所述水基复配载液还包括按体积百分比计0.1％～0.5％的pH值调节剂和0.1％～0.5％的消泡剂；或所述水基复配载液还包括按体积百分比计0.1％～0.5％的抗氧化剂和0.1％～0.5％的消泡剂。

所述羰基铁粉的平均粒径分布为1～10μm，为磁敏微粒，水基磁流变抛光液的主要成份，在磁场作用下呈链状。所述纳米铁粉的平均粒径分布为10～50nm，为磁性微粒，水基磁流变抛光液的附加成份，增强液体的流变性。所述抛光粉的平均粒径分布在0.1μm～5μm之间，为水基磁流变抛光液的主要成份，磨料，在抛光过程中对材料具有去除作用，抛光粉成份为氧化铈、氧化铝或金刚石微粉，具体根据实际抛光加工的工艺情况选择一种。

所述分散剂为氨基羧酸盐，例如乙二胺四乙酸盐、二乙烯三胺五乙酸盐、氨三乙酸钠，或有机磷酸盐，例如乙二胺四甲基磷酸盐、二乙烯三胺五甲叉磷酸盐、胺三甲基磷酸盐。此类分散剂为螯合型分散剂，既有较强的螯合能力，还有较强的分散、悬浮作用；使各组分均匀混合，在液体中具有良好的悬浮性，不抱团，不凝聚。

所述润湿剂为丙三醇，防止磁流变抛光液中的水分流失太快，保湿。

所述触变剂成分为纤维素醚的衍生物，如羧甲基纤维素钠，或为有机膨润土。触变剂增强磁流变抛光液的粘稠性，形成悬浮物，防沉降。

去离子水为水基复配载液的载体，不含其它物质成份，具有冷却、润滑等作用。

所述pH值调节剂为碳酸钠或硼砂，所述抗氧化剂为亚硝酸钠或苯甲酸钠，所述消泡剂为矿物油或石蜡，消除磁流变抛光液配制过程中出现的气泡。

本发明制备上述用于光学加工的水基磁流变抛光液的制备方法，其制备步骤为：

步骤1、按去离子水85％～90％，触变剂3％～5％的体积比例，将触变剂与水混合均匀，在室温下搅拌1～2小时，得悬浮液；

步骤2、将分散剂按照水基复配载液总体积比例的3％～5％加入到步骤1得到的悬浮液中，在室温下搅拌0.5～1小时；

步骤3、将润湿剂按照水基复配载液总体积比例的2％～5％加入到步骤2得到的悬浮液中，在室温下搅拌0.5～1小时，得水基复配载液；

步骤4、按添加组分25％～75％，水基复配载液25％～75％的体积比例，其中添加组分的体积配比为：羰基铁粉占80％～90％，纳米铁粉占4％～10％，抛光粉占4％～10％；将添加组分与水基复配载液混合，加入球磨罐中，按1∶10质量比加入钢球，以20～30转/分钟的速度球磨3～5小时，分离出钢球，得到水基磁流变抛光液。

如需要，可在所述步骤3与步骤4之间，加入步骤3A：按照水基复配载液总体积比例的0.1％～0.5％加入抗氧化剂，在室温下搅拌1～2小时；

或加入步骤3B：按照水基复配载液总体积比例的0.1％～0.5％加入消泡剂，在室温下搅拌0.5～1小时；

或加入步骤3C：按照水基复配载液总体积比例的0.1％～0.5％加入pH值调节剂，在室温下搅拌1～2小时，将液体的pH值调节到9.5～10.5；

或加入上述步骤3A之后加入步骤3B；

或加入上述步骤3A之后加入步骤3C；

或加入上述步骤3B之后加入步骤3C；

或加入上述步骤3A之后加入步骤3B，然后再加入步骤3C。

在步骤4之后，可复查步骤4得到的水基磁流变抛光液的pH值，酌情加入些许pH值调节剂将pH值调节到9.5～10.5，即得到可用于光学加工的水基磁流变抛光液，装入干燥的塑料瓶中密封保存。

在用于光学加工之前，将水基磁流变抛光液搅拌0.5～1小时，确保所有组分均匀分散后即可以将本发明的水基磁流变抛光液用于加工。

与现有技术相比，本发明的有益效果在于：

1、本发明的水基磁流变抛光液，零磁场粘度低，适合于磁流变抛光装置的循环控制系统循环使用。

3、本发明的水基磁流变抛光液，剪切屈服应力大，能够提供高效率的磁流变抛光能力。

4、本发明的水基磁流变抛光液，流变性能好，能够为磁流变抛光提供长时间稳定可控的去除函数模型。

5、本发明的水基磁流变抛光液，静置稳定性高，抗氧化性强，能够长时间重复使用。

6、本发明的水基磁流变抛光液配制工艺简单、经济、环保。

本发明的水基磁流变抛光液，根据抛光粉的不同适用于不同类型光学材料的加工。

附图说明

图1为本发明各实施例所用羰基铁粉粒径分布图；

图2为实施例3的水基磁流变抛光液流变性能结果图；

图3为本发明的四种实施例水基磁流变抛光液在250mT强度的磁场中的流变性能测试比较结果；

图4～图7为本发明实施例3配制的水基磁流变抛光液，对K9材料的光学零件进行抛光的去除函数稳定性测试结果，其中：

图4为利用磁流变抛光液进行磁流变抛光初始的磁流变抛光模型图；

图5为利用磁流变抛光液进行磁流变抛光循环12小时后的磁流变抛光模型图；

图6为利用磁流变抛光液进行磁流变抛光循环24小时后的磁流变抛光模型图；

图7为利用磁流变抛光液进行磁流变抛光循环36小时后的磁流变抛光模型图。

具体实施方式

下面结合各种抛光对象对磁流变抛光液的要求，配制具有代表性的四种实例，以此来说明本发明的具体实施方式。

实施例1

配制水基磁流变抛光液，其添加组分为：平均粒径为0.5um的抛光粉氧化铈15ml，平均粒径为5μm的羰基铁粉130ml和平均粒径为50nm的纳米铁粉8ml。

其水基复配载液为：去离子水240ml，触变剂有机膨润土10ml，分散剂乙二胺四甲基磷酸盐14ml，润湿剂丙三醇14ml，抗氧化剂亚硝酸钠0.5ml，消泡剂矿物油1ml和pH值调节剂碳酸钠0.5ml。

配制步骤如下：

步骤1、将10ml(3.57％)触变剂有机膨润土加入到240ml(85.71％)去离子水中，在室温下搅拌1小时，得到悬浮液；

步骤2、将14ml(5％)分散剂乙二胺四甲基磷酸盐加入到步骤1得到的悬浮液中，在室温下搅拌0.5小时；

步骤3、将14ml(5％)润湿剂丙三醇加入到步骤2得到的悬浮液中，在室温下搅拌0.5小时；

步骤4、将0.5ml(0.18％)抗氧化剂亚硝酸钠加入到步骤3得到的悬浮液中，在室温下搅拌1小时；

步骤5、将1ml(0.36％)消泡剂矿物油加入到步骤4得到的悬浮液中，在室温下搅拌0.5小时；

步骤6、将0.5ml(0.18％)pH值调节剂碳酸钠加入到步骤5得到的悬浮液中，在室温下搅拌1小时并将液体的pH值调节到10，从而得到水基复配载液；

步骤7、将130ml(85％)平均粒径为5μm的羰基铁粉、8ml(5.2％)平均粒径为50nm的纳米铁粉和15ml(9.8％)平均粒径为0.5um的抛光粉氧化铈组成的添加组分与上述步骤得到的280ml的水基复配载液混合，加入球磨罐中，按1∶10质量比加入钢球，以30转/分钟的速度球磨3小时，分离出钢球，得到水基磁流变抛光液，装入干燥的塑料瓶中密封保存。

实施例2

配制水基磁流变抛光液，其添加组分为：平均粒径为0.5um的抛光粉金刚石微粉12ml，平均粒径为5μm的羰基铁粉130ml和平均粒径为50nm的纳米铁粉6ml。

其水基复配载液为：去离子水240ml，触变剂有机膨润土10ml，分散剂乙二胺四乙酸盐14ml，润湿剂丙三醇14ml，抗氧化剂亚硝酸钠0.5ml，消泡剂矿物油1ml和pH值调节剂硼砂0.5ml。

配制步骤如下：

步骤1、将10ml(3.57％)触变剂有机膨润土加入到240ml(85.71％)去离子水中，在室温下搅拌1小时，得到悬浮液；

步骤2、将14ml(5％)分散剂乙二胺四乙酸盐加入到步骤1得到的悬浮液中，在室温下搅拌0.5小时；

步骤3、将14ml(5％)润湿剂丙三醇加入到步骤2得到的悬浮液中，在室温下搅拌0.5小时；

步骤4、将0.5ml(0.18％)抗氧化剂亚硝酸钠加入到步骤3得到的悬浮液中，在室温下搅拌1小时；

步骤5、将1ml(0.36％)消泡剂矿物油加入到步骤4得到的悬浮液中，在室温下搅拌0.5小时；

步骤6、将0.5ml(0.18％)pH值调节剂硼砂加入到步骤5得到的悬浮液中，在室温下搅拌1小时并将液体的pH值调节到10，从而得到水基复配载液；

步骤7、将130ml(88％)平均粒径为5μm的羰基铁粉、6ml(4.0％)平均粒径为50nm的纳米铁粉和12ml(8.0％)平均粒径为0.5um的抛光粉金刚石微粉组成的添加组分与上述步骤得到的280ml水基复配载液混合，加入球磨罐中，按1∶10质量比加入钢球，以30转/分钟的速度球磨3小时，分离出钢球，得到水基磁流变抛光液，装入干燥的塑料瓶中密封保存。

实施例3

配制水基磁流变抛光液，其添加组分为：平均粒径为0.5um的抛光粉氧化铈33ml，平均粒径为5μm的羰基铁粉570ml和平均粒径为50nm的纳米铁粉67ml。

其水基复配载液为：去离子水240ml，触变剂羧甲基纤维素钠10ml，分散剂乙二胺四甲基磷酸盐14ml，润湿剂丙三醇14ml，抗氧化剂亚硝酸钠0.5ml，消泡剂矿物油1ml和pH值调节剂碳酸钠0.5ml。

配制步骤如下：

步骤1、将10ml(3.57％)触变剂羧甲基纤维素钠加入到240ml(85.71％)去离子水中，在室温下搅拌1小时，得到悬浮液；

步骤2、将14ml(5％)分散剂乙二胺四甲基磷酸盐加入到步骤1得到的悬浮液中，在室温下搅拌0.5小时；

步骤3、将14ml(5％)润湿剂丙三醇加入到步骤2得到的悬浮液中，在室温下搅拌0.5小时；

步骤4、将0.5ml(0.18％)抗氧化剂亚硝酸钠加入到步骤3得到的悬浮液中，在室温下搅拌1小时；

步骤5、将1ml(0.36％)消泡剂矿物油加入到步骤4得到的悬浮液中，在室温下搅拌0.5小时；

步骤6、将0.5ml(0.18％)pH值调节剂碳酸钠加入到步骤5得到的悬浮液中，在室温下搅拌1小时并将液体的pH值调节到10，从而得到水基复配载液；

步骤7、将570ml(85％)平均粒径为5μm的羰基铁粉、67ml(10％)平均粒径为50nm的纳米铁粉和33ml(5.0％)平均粒径为0.5um的抛光粉氧化铈组成的添加组分与上述步骤得到的280ml水基复配载液混合，加入球磨罐中，按1∶10质量比加入钢球，以30转/分钟的速度球磨3小时，分离出钢球，得到水基磁流变抛光液，装入干燥的塑料瓶中密封保存。

对本发明所配制的水基磁流变抛光液的流变性能进行测试得到其流变性能结果如图2所示，衡量磁流变抛光液流变性的指标是其在磁场作用下的剪切应力以及剪切应力随磁场变化的明显程度。在相同的磁场强度条件下，磁流变抛光液的剪切应力越大，其流变性越好。本图表示根据实施例3配制的磁流变抛光液分别在120mT、250mT、370mT强度的磁场中剪切应力和剪切应变率变化曲线。可以看到在磁场强度为120mT时，磁流变抛光液的剪切应力为8kPa左右，说明配制的磁流变抛光液在磁场强度较小的情况下也有较高的剪切应力值；在磁场强度为250mT、370mT时，其剪切应力相应增加为22kPa和34kPa，剪切应力随磁场的增加变化非常明显。测试结果表明，本发明所配制的磁流变抛光液具有良好的流变性能。

图4～图7示出了利用本发明实施例3配制的水基磁流变抛光液对K9材料的光学零件进行磁流变抛光，其去除函数在初始时刻、12小时、24小时、36小时的稳定性测试结果。对去除函数的评价主要有两个方面：形状和效率，而效率又分为峰值去除效率(um/min)和体积去除效率(um³/min)。磁流变抛光液性能的稳定性表现为磁流变抛光去除函数在长时间下的形状稳定性和效率稳定性，通过图4～图7所示的去除函数的大小可以看出，其外观形状具有长时间的一致性；通过去除函数的颜色深浅可以看出，其效率大小具有长时间的恒定性。由此可见，本发明配制的磁流变抛光液具有长时间的性能稳定性。

实施例4

配制水基磁流变抛光液，其添加组分为：平均粒径为0.5um的抛光粉金刚石微粉25ml，平均粒径为5μm的羰基铁粉530ml和平均粒径为50nm的纳米铁粉47ml。

其水基复配载液为：去离子水240ml，触变剂羧甲基纤维素钠10ml，分散剂乙二胺四乙酸盐14ml，润湿剂丙三醇14ml，抗氧化剂亚硝酸钠0.5ml，消泡剂矿物油1ml和pH值调节剂硼砂0.5ml。

配制步骤如下：

步骤1、将10ml(3.57％)触变剂羧甲基纤维素钠加入到240ml(85.71％)去离子水中，在室温下搅拌1小时，得到悬浮液；

步骤2、将14ml(5％)分散剂乙二胺四乙酸盐加入到步骤1得到的悬浮液中，在室温下搅拌0.5小时；

步骤3、将14ml(5％)润湿剂丙三醇加入到步骤2得到的悬浮液中，在室温下搅拌0.5小时；

步骤4、将0.5ml(0.18％)抗氧化剂亚硝酸钠加入到步骤3得到的悬浮液中，在室温下搅拌1小时；

步骤5、将1ml(0.36％)消泡剂矿物油加入到步骤4得到的悬浮液中，在室温下搅拌0.5小时；

步骤6、将0.5ml(0.18％)pH值调节剂硼砂加入到步骤5得到的悬浮液中，在室温下搅拌1小时并将液体的pH值调节到10，从而得到水基复配载液；

步骤7、将530ml(88％)平均粒径为5μm的羰基铁粉、47ml(7.8％)平均粒径为50nm的纳米铁粉和25ml(4.2％)平均粒径为0.5um的抛光粉金刚石微粉组成的添加组分与上述步骤得到的280ml水基复配载液混合，加入球磨罐中，按1∶10质量比加入钢球，以30转/分钟的速度球磨3小时，分离出钢球，得到水基磁流变抛光液，装入干燥的塑料瓶中密封保存。

表1为使用上海安德仪器设备有限公司生产的NDJ-1型旋转粘度计，测试本发明的四种实施例的水基磁流变抛光液粘度和长期稳定性结果。磁流变抛光液的粘度用Pa·s表示，数值越大，则粘度越大。本表列出了不同体积分数的抛光粉与羰基铁粉配制成的磁流变抛光液的粘度值，描述了静置48小时后液体的状态。一般来说，粘度越低，表明磁流变抛光液的流动性能越好，而其流动性能的好坏决定着磁流变抛光液在光学加工中是否能够进行长时间稳定顺畅的循环。本发明的四个实施例所配制的磁流变液的粘度均在1Pa·s以下，说明其流动性能较好，能够保证光学加工中的磁流变抛光液的长时稳定循环。对静置的磁流变抛光液观察其变化状态，以得到其沉降性能。将四个实施例所配制的磁流变抛光液静置48小时后，其仅有少许沉淀，不分层或者分层不明显，并且稍加搅拌即能分散均匀，表明该磁流变抛光液在进行长时间磁流变抛光循环的过程中，不会因为沉降而改变磁流变抛光液的性能特征，从而保证其去除能力的恒定。

表1

图3示出了本发明的四种实施例所得水基磁流变抛光液，在250mT强度的磁场中的流变性能测试比较结果。可以看出，抛光粉对磁流变抛光液的流变性能影响很小，图中表现为含金刚石微粉比含氧化铈的抛光液的流变性能稍好；另外，铁粉浓度对抛光液的流变性能起着重要的作用，在保持抛光液其他性能基本一致的情况下，铁粉含量越高，抛光液流变性能越好。本发明的四种实施例得到的水基磁流变抛光液，都能满足进行磁流变抛光所要求的流变性能，且可以通过改变铁粉含量来改变其流变性能从而满足不同的光学加工需要。

Claims (8)

1.一种用于光学加工的水基磁流变抛光液，其特征在于它由下述体积组分组成：

水基复配载液25％～75％和添加组分25％～75％，

其中，所述的添加组分为羰基铁粉、纳米铁粉和抛光粉，按下述体积百分比分配：

羰基铁粉：80％～90％，

纳米铁粉：4％～10％，

抛光粉：4％～10％，

所述的水基复配载液包括下述按体积百分比计的组分，

去离子水：85％～90％，

分散剂：3％～5％，

润湿剂：2％～5％，

和触变剂：3％～5％；

所述分散剂为氨基羧酸盐，或有机磷酸盐；所述羰基铁粉的平均粒径分布为1～10μm，所述纳米铁粉的平均粒径分布为10～50nm，所述抛光粉的平均粒径分布在0.1μm～5μm之间，抛光粉成份为氧化铈、氧化铝或金刚石微粉。

2.根据权利要求1所述的用于光学加工的水基磁流变抛光液，其特征在于所述水基复配载液还包括按体积百分比计的下述组分：pH值调节剂0.1％～0.5％、抗氧化剂0.1％～0.5％和消泡剂0.1％～0.5％；

或所述水基复配载液还包括按体积百分比计0.1％～0.5％的pH值调节剂；

或所述水基复配载液还包括按体积百分比计0.1％～0.5％的抗氧化剂；

或所述水基复配载液还包括按体积百分比计0.1％～0.5％的消泡剂；

或所述水基复配载液还包括按体积百分比计0.1％～0.5％的pH值调节剂和0.1％～0.5％的抗氧化剂；

或所述水基复配载液还包括按体积百分比计0.1％～0.5％的pH值调节剂和0.1％～0.5％的消泡剂；

或所述水基复配载液还包括按体积百分比计0.1％～0.5％的抗氧化剂和0.1％～0.5％的消泡剂。

3.根据权利要求1或2所述的用于光学加工的水基磁流变抛光液，其特征在于所述氨基羧酸盐为乙二胺四乙酸盐或二乙烯三胺五乙酸盐或氨三乙酸钠，所述有机磷酸盐为乙二胺四甲基磷酸盐或二乙烯三胺五甲基磷酸盐或胺三甲基磷酸盐。

4.根据权利要求1或2所述的用于光学加工的水基磁流变抛光液，其特征在于所述润湿剂为丙三醇。

5.根据权利要求1或2所述的用于光学加工的水基磁流变抛光液，其特征在于所述触变剂为羧甲基纤维素钠，或为有机膨润土。

6.根据权利要求2所述的用于光学加工的水基磁流变抛光液，其特征在于所述pH值调节剂为碳酸钠或硼砂，所述抗氧化剂为亚硝酸钠或苯甲酸钠，所述消泡剂为矿物油或石蜡。

7.一种如权利要求1所述的用于光学加工的水基磁流变抛光液的制备方法，其特征在于制备步骤为：

步骤1、按去离子水85％～90％，触变剂3％～5％的体积比例，将触变剂与水混合均匀，在室温下搅拌1～2小时，得悬浮液；

步骤2、将分散剂按照水基复配载液总体积比例的3％～5％加入到步骤1得到的悬浮液中，在室温下搅拌0.5～1小时；

步骤3、将润湿剂按照水基复配载液总体积比例的2％～5％加入到步骤2得到的悬浮液中，在室温下搅拌0.5～1小时，得水基复配载液；

步骤4、按添加组分25％～75％，水基复配载液25％～75％的体积比例，其中添加组分的体积配比为：羰基铁粉占80％～90％，纳米铁粉占4％～10％，抛光粉占4％～10％；将添加组分与水基复配载液混合，加入球磨罐中，按1∶10质量比加入钢球，以20～30转/分钟的速度球磨3～5小时，分离出钢球，得到水基磁流变抛光液。

8.根据权利要求7所述的用于光学加工的水基磁流变抛光液的制备方法，其特征在于在所述步骤3与步骤4之间，

加入步骤3A：按照水基复配载液总体积比例的0.1％～0.5％加入抗氧化剂，在室温下搅拌1～2小时；

或加入步骤3B：按照水基复配载液总体积比例的0.1％～0.5％加入消泡剂，在室温下搅拌0.5～1小时；

或加入步骤3C：按照水基复配载液总体积比例的0.1％～0.5％加入pH值调节剂，在室温下搅拌1～2小时，将液体的pH值调节到9.5～10.5；

或加入上述步骤3A之后加入步骤3B；

或加入上述步骤3A之后加入步骤3C；

或加入上述步骤3B之后加入步骤3C；

或加入上述步骤3A之后加入步骤3B，然后再加入步骤3C。

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