CN101224556A - 光学零件磁流变精密抛光系统和方法 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种光学零件磁流变精密抛光系统和方法，储液缸中流出的磁流变液体，经蠕动泵加压以后，通过旋转接头和导管进入抛光头，工件和抛光头之间的间隙被磁流变液体充满，在电磁场的作用下，磁流变液体从流体状态变为半固体状态，形成柔性磨头进行抛光。本发明中抛光头不直接接触工件，根据被加工工件形状更换不同形状和规格的抛光头，通过计算机自动控制装置可实现磁流变液体的粘度控制和温度控制，改变磁场和转速等因素可以获得不同的抛光效率和精度；此方法可加工不同形状的曲面和平面的工件，特别是大平面光学零件的超精密抛光；此系统具有加工效率高、运用范围广、加工精度高的、操作方便的优点。

Description

光学零件磁流变精密抛光系统和方法

技术领域

本发明涉及磁流变流体精密抛光技术领域，特别涉及一种用于高性能光学零件的高效率磁流变精密抛光方法及装置。

背景技术

现代科学技术的不断发展对光学零件的表面质量提出了越来越高的要求，要求光学零件的表面不但有完美的几何形貌，还要有良好的物理力学性能。因此，作为终极加工工序的表面光整加工技术得到了很快的发展，它是集机械加工、材料学、物理学、电磁学、化学等多学科为一体的新型边缘学科，正日益受到人们的重视。

光学透镜的迅速发展也给光学零件的超精密加工技术提出了更高的要求，面形精度、表面粗糙度的要求日益提高。通常传统的高质量光滑表面的抛光方法是以沥青或纤维等粘弹性材料作研磨盘，配以抛光液或研磨膏来传递压力和速度，达到抛光的技术要求，但是已经不能满足日益迫切的大平面和非球面超精密加工的要求。而且在实际加工中，这种加工方法必须按光学零件的形状制作专用的固定、精磨和抛光用磨具，降低了通用性，使小批量生产和样品制造的成本高昂，同时还要依赖熟练的技术工人不断检测和修磨面形，经过复杂的多道工序才能加工出一个合格的光学零件，因而在降低了成品合格率的同时还需要多个工位和大量的工序间协调工作，带来排队等候延迟和附带的管理问题。此外，采用沥青抛光会在光学零件下表面产生破坏层，从而使表层结构和力学性能发生变化，同时为了清除沥青材料对光学表面的污染，还需要采用对环境有害的溶剂。抛光过程是一个复杂的过程，影响因素也很复杂，因此难于保证现代超精密加工技术的要求。

磁流变抛光是由美国Rochester大学在上世纪90年代提出的一种精整加工技术，他们和QED公司研发制造出的磁流变抛光机床在光学零件的精密抛光方面取得了很好的效果，中国专利ZL96198445.7公开了美国罗切斯特大学发明专利的详细说明，它主要叙述了一种磁流变流体精整加工的方法，是通过转动的抛光头侧面带动磁流变液到加有磁场的抛光区域，通过磁化后的磁流变液体形成瞬时加工磨头对光学零件进行抛光，它主要是通过形成一个可控的小魔头去除工件部分材料，达到所需的面形精度和表面粗糙度。中国专利ZL03124557.9公开了一种确定性磁射流精整加工方法，它主要是在喷嘴外面施加磁场，磁流变液通过喷嘴形成射流喷射到工件上，通过控制利用磁流变液的粘度和喷射角度来保证具有稳定的去除函数，实现光学零件表面的定量研抛。中国专利200410044076.0公开了一种超声波磁流变复合抛光的方法，它主要是在柔性抛光工具头上同时施加超声振动，达到材料去除的目的。中国专利200610043079.1公开了一种磁流变柔性精磨抛光的设备和方法，它主要采用了环带状的柔性精磨抛光磨具，工件被加持在主轴装置上并由主轴带动运动，实现工件表面与柔性精磨抛光磨具自适应吻合的加工方法。

在磁场的作用下，上述加工方法都是用具有一定硬度的柔性小磨头代替散粒磨料进行抛光，但是由于工件安装方式和磨头形状的固定，它们只能加工较小的平面和曲面，并且是单点小磨头抛光，材料的去除效率较低，对于不同形状和大小的零件还需要设计专门的夹具，制造成本较高。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是提供一种能够加工大平面和曲面，具有较高加工效率，操作方便、工件夹持简单、易于自动化并且能够具有较大柔性的的磁流变精密抛光装置。

本发明解决其技术问题所采用的技术方案是：提供一种光学零件磁流变精密抛光系统，包括主轴装置、机体、数控装置、磁场发生装置和液体循环装置，所述的主轴装置通过机体与数控装置固连，电主轴和抛光主轴通过主轴连接装置固连在一起，抛光头安装于抛光主轴上，动力源带动电主轴转动，其转动通过皮带传动传给抛光装置；所述的机体包括机架及其上的工作台，工作台包括X轴工作台和Y轴工作台，主轴装置与Z轴滑台配合；环绕在抛光头周边的磁场发生装置与主轴装置连接，电磁线圈与可控直流电源连接；所述的液体循环装置与抛光主轴和数控工作台连接，包括含有温度控制装置和搅拌装置的储液缸及与其相连的液体循环用导管，将液体输入或输出储液缸的蠕动泵；控制液体粘度的粘度控制装置；补充缺失液体的液体补给装置；用于回收经过抛光区域的磁流变液体的液体收集装置；被加工光学零件固定在数控工作台上。

所述的主轴装置通过旋转接头连接软管和抛光主轴，实现磁流变液体顺利进入与抛光主轴连接的抛光头，抛光主轴由双层金属管制成，具有磁场屏蔽作用，减弱抛光主轴中的磁场。

所述的磁场发生装置由两个电磁线圈组成，电磁线圈材料为漆包线，由直流电源控制磁场，磁路结构采用相对磁导率为6000的DT4型电工纯铁制成，并与抛光头形状相匹配。

所述的抛光头用于抛光的工作表面与工件的形状相配合，为平面、凸球面、凹球面或曲面，端面上导液孔为单点或多点。

所述的温度控制装置包括环绕储液缸的调温水套和计算机控制装置，温度检测装置将温度值反馈到计算机系统，通过计算机控制调温水套来改变液体温度。

所述的蠕动泵包括驱动器、泵头和外控接口，外控接口与计算机连接；流量要求增大时，可串联两个泵头。

所述的液体循环用导管采用中流量型的硅胶软管。

所述的机体工作台，表面开有标准T形槽，并配有标准的装夹元件。

一种光学零件磁流变精密抛光方法，包括下列步骤：

(1)在具有温度控制装置和搅拌装置的储液缸中加入用于抛光的磁流变液体，并启动电机进行混合搅拌；

(2)将工件固定于加工平台的工作台上，根据被加工工件形状更换抛光头；

(3)启动蠕动泵，磁流变液体经泵加压以后，通过旋转接头和导管进入抛光头，充满抛光头和工件之间的间隙，调整工作台的位置，启动电主轴，同时给电磁铁通电，在外加电磁场的作用下使磁流变液体变成半固体状态的柔性抛光磨头进行抛光；

(4)经过抛光区域的磁流变液体由液体收集装置回收，经蠕动泵抽取送回储液缸中。

被加工光学零件位于抛光头端面的下方，并与抛光头轮的底面(即端面)形成一个很小的固定不变(可调)的距离，于是在被加工的工件与抛光头端面之间形成了一个很小的间隙。磁极位于工件上方并与抛光头相贴合，在工件与抛光头轮所形成的狭小空隙中形成一个梯度磁场。当磁流变液体到达磁场范围时，高梯度磁场使它凝聚、变硬，与工件接触的地方形成一柔性突起磨头，成为粘性的Bingham介质，这种具有较高运动速度的介质在狭小空隙运动时时，对工件表面与之接触的区域产生较大的剪切应力，从而使工件的表面材料被去除，达到工件抛光的目的。

本发明的实现在于可选择不同形式和大小的抛光头进行抛光，抛光头底面可为平面、凹(凸)曲面或其他面形，底面出液口可为单点或多点圆形及其他形状通孔，如加工大平面光学零件可先选用底面为平面的大尺寸多点扇形抛光头进行抛光，再选用底面为凸曲面的小尺寸单点圆形抛光头进行局部修正，达到抛光精度要求；加工大曲面光学零件可先选用底面为凸曲面的大尺寸单点园形抛光头进行抛光，再选用底面为凸曲面的小尺寸单点圆形抛光头进行局部修正，达到抛光精度要求；加工小尺寸光学零件可先选用底面与零件面形相吻合的抛光头进行抛光，达到抛光精度要求。

抛光磨头的大小主要由抛光头形成，而抛光磨头的强度则由磁场的强度控制，磁场发生装置主要由磁路结构和电磁线圈组成，所产生的磁场环绕抛光主轴和加工区域形成闭合回路，磁路结构固定在磁场固定装置上，能实现Z轴上下移动和伸缩运动，适应工件不同位置的加工，磁轭形状厚度逐渐收缩，具有聚集磁场的作用，在磁轭顶端磁场强度达到最大，并且磁轭顶端的形状与抛光头的形状相一致，根据抛光头的不同形式可方便更换。电磁铁磁路结构如图9所示。为了使电磁铁效率更高，铁芯利用高磁导率材料纯铁制造。线圈缠绕在两侧立柱上，形成串联磁路结构。为了更好的贴合抛光头，电磁铁的两磁轭设计成圆弧形状，在两磁轭之间形成气隙，抛光工作区域位于气隙的漏磁空间内，利用气隙的漏磁进行工作。磁轭这一特殊结构，使得一部分磁力线穿过磁轭表面，在其空隙处形成一个梯度方向垂直于抛光头表面的高梯度磁场，因而利用此梯度磁场进行抛光加工。

除电主轴带动工件主轴的转动和移动外，数控平台还具有移动和摆动装置，并可控制其摆动的角度和移动的距离，成功解决了工件空间的三维运动，保证工件上各点与磁流变液体充分接触，通过抛光主轴的转动、工作台的移动和摆动有效的实现了光学零件表面的抛光加工。

本发明的实现还在于抛光装置具有保证磁流变液体循环稳定可靠的系统，它主要由储液缸、液体循环用导管、蠕动泵、粘度控制装置、温度控制装置、液体补给装置、液体收集装置和搅拌装置组成，从储液缸中流出的磁流变液体，经蠕动泵加压以后，通过粘度控制装置，由旋转接头进入抛光头，然后充满抛光头和工件之间的间隙，在外加电磁场的作用下使磁流变液体变成半固体状态进行抛光，由工作台运动带动磁流变液体经加工区域后由收集器回收，经蠕动泵抽取送回储液缸中，完成整个液体循环过程。

根据上述方法，其抛光步骤如下：将光学零件安装到工作台上，调整工件位置，选择合适的装夹方法定位并夹紧光学零件；根据工件的形状和大小选择并更换抛光头，调节数控平台各移动轴，使抛光头到达初始加工位置，并调节抛光主轴到工件之间的距离；关闭截止阀，将磁流变液体添加到储液缸中，打开截止阀并启动输送蠕动泵，磁流变液体通过硅胶软管和旋转接头进入抛光头，然后进入回收装置，启动回收蠕动泵回收到储液缸，实现磁流变液体循环；启动电主轴，通过带轮带动抛光主轴旋转；开启电磁铁电源，电磁铁被磁化，在抛光区域产生一定强度的梯度磁场，使处于抛光区的磁流变液体磁化变成半固体状态，并在工件和抛光头之间形成柔性小磨头，通过抛光主轴的旋转带动小磨头与工件接触摩擦抛光；调节改变数控平台各运动轴的位置和角度，并根换不同形式抛光头，适应不同位置和形状光学零件的抛光，重复以上步骤进行抛光，最终达到要求的加工精度。

有益效果

本发明的抛光系统和方法采用大尺寸多点抛光头进行多磨头抛光加工，由多点接触代替单点接触，提高了大尺寸光学零件的加工效率，装置与数控平台相结合，具有三维空间运动形式，可加工平面和曲面光学零件，根换不同的抛光头还可加工曲率半径较小的深凹(凸)曲面的加工，具有装置结构简单、工件装夹方便、加工效率高、通用性好、操作方便和加工精度高等特点。

附图说明

图1是本发明的磁流变精密抛光方法及机床的原理示意图；

图2是本发明的磁流变精密抛光装置立体图；

图3是本发明所使用平面多点抛光头示意图；

图4是本发明所使用曲面单点抛光头示意图；

图5是本发明液体循环装置的示意图；

图6是本发明液体存储装置示意图；

图7是本发明液体搅拌装置示意图；

图8是本发明粘度控制系统流程图；

图9是本发明磁场发生器结构简图；

图10是本发明中磁场发生器的磁轭示意图；

图11是本发明中电磁铁磁力线分布示意图；

图12是本发明中电磁铁磁矢势模拟图；

图13是本发明的磁流变精密抛光实施例中抛光大平面光学零件示意图；

图14是本发明的磁流变精密抛光实施例中抛光大曲面光学零件示意图；

图15是本发明的磁流变精密抛光实施例中抛光小凹(凸)曲面光学零件示意图。

具体实施方式

下面结合具体实施例，进一步阐述本发明。应理解，这些实施例仅用于说明本发明而不用于限制本发明的范围。此外应理解，在阅读了本发明讲授的内容之后，本领域技术人员可以对本发明作各种改动或修改，这些等价形式同样落于本申请所附权利要求书所限定的范围。

实施例1，如图1所示，用于光学零件磁流变精密抛光的装置主要由主轴装置、数控平台装置和液体循环装置组成，主轴装置通过机体与数控平台固连，包括电主轴和抛光主轴，两轴之间通过主轴连接装置固连在一起，而抛光头被安装于抛光主轴上，动力源带动电主轴转动，其转动通过皮带传动传给抛光装置，根据转速要求选择升速还是降速，主轴装置沿Z轴方向移动调整抛光头与工件之间的相对距离，而环绕在抛光头周边的磁场发生装置与主轴装置连接，电磁线圈与可控直流电源连接，通电后在加工区域产生梯度磁场，通过调整电流强度大小控制磁场强度，所述的抛光主轴旋转速度≥1000转/分，磁场强度≥0.2特斯拉。液体循环装置与抛光主轴和数控工作台连接，被加工光学零件固定在数控工作台上。

液体循环系统主要由储液缸1、液体循环用导管2、蠕动泵3、粘度控制装置5、温度控制装置30、液体补给装置9、液体收集装置14和搅拌装置25组成，如图5所示，从储液缸中流出的磁流变液体，经蠕动泵加压以后，通过粘度控制装置，由旋转接头进入抛光头，然后充满抛光头和工件之间的间隙，在外加电磁场的作用下使磁流变液体变成半固体状态进行抛光，由工作台运动带动磁流变液体经加工区域后由收集器回收，经蠕动泵抽取送回储液缸中，完成整个液体循环过程。两个串联压力传感器测得的压力信号由A/D模块进行转换，转换后的结果送控制系统做压差比较后，由计算机判断两差值信号是否已超过预先设定值，当超过预定的粘度控制范围上限时，控制系统给电磁计量泵发信号，注入经计算的补充载液到液体存储缸中，液体进行混合生成新的再生磁流变液。当目标粘度恢复时，补充率减少到一个平衡值，低速稳定的补充液被提供到混合室来补充磁流变液在工作循环时因蒸发造成流体损失。当预定的粘度超过控制范围下限时，补充率减少或完全停止，使磁流变液进行工作诱发载液蒸发来增加粘度，这样使目标粘度恢复。参见图8的的流程图，其中DF是根据压力传感器求得的平均差值电压，DFH、DFL为确定的差值上下限。当压差值与极限值比较，设定每超出极限值DFH为0.001时，计量泵注入1ml流体。机体平台及数控装置主要由机架11、工作台16、X轴工作台13、Y轴工作台12、Z轴滑台和装夹元件15组成，如图2所示，工件安装在工作台上，主轴装置与Z轴滑台配合，通过它与X工作台和Y工作台的联动，可实现工件空间任何位置的抛光加工。

如图13所示，本实施方式的抛光方法和步骤如下：将大尺寸平面光学零件安装到工作台上，定位并夹紧光学零件；如图3所示，在抛光主轴上安装平面大尺寸多点抛光头，调节数控平台各移动轴，使抛光头到达初始加工位置，并调节抛光主轴到工件之间的距离；关闭截止阀，将磁流变液体添加到储液缸中，打开截止阀并启动输送蠕动泵，磁流变液体通过硅胶软管和旋转接头进入抛光头，然后充满抛光头和工件之间的间隙，最后进入回收装置，启动回收蠕动泵回收到储液缸，实现磁流变液体循环；启动电主轴，通过带轮带动抛光主轴旋转；开启电磁铁电源，电磁铁被磁化，在抛光区域产生一定强度的梯度磁场，使处于抛光区的磁流变液体磁化变成半固体状态，并在工件和抛光头之间形成柔性小磨头，通过抛光主轴的旋转带动小磨头与工件接触摩擦抛光；根据加工工艺要求调节改变数控平台各移动轴的位置，并对不同区域选择不同的驻留时间，重复以上步骤进行高效率材料去除抛光，最终达到要求的加工精度。

实施例2：本实施例与具体实施例1总体装置与构成相同，不同之处在于用凸曲面小尺寸单点抛光头更换平面大尺寸多点抛光头进行抛光，本实施方式的抛光方法和步骤如下：将大尺寸平面光学零件安装到工作台上，定位并夹紧光学零件；如图4所示，在抛光主轴上安装凸曲面小尺寸单点抛光头，调节数控平台各移动轴，使抛光头到达初始加工位置，并调节抛光主轴到工件之间的距离；关闭截止阀，将磁流变液体添加到储液缸中，打开截止阀并启动输送蠕动泵，磁流变液体通过硅胶软管和旋转接头进入抛光头，然后充满抛光头和工件之间的间隙，最后进入回收装置，启动回收蠕动泵回收到储液缸，实现磁流变液体循环；启动电主轴，通过带轮带动抛光主轴旋转；开启电磁铁电源，电磁铁被磁化，在抛光区域产生一定强度的梯度磁场，使处于抛光区的磁流变液体磁化变成半固体状态，并在工件和抛光头之间形成柔性小磨头，通过抛光主轴的旋转带动小磨头与工件接触摩擦抛光；根据加工工件表面质量检测结果调节改变数控平台各移动轴的位置，有选择性的对不同区域进行抛光，并对不同区域根据检测结果要求选择不同的驻留时间，重复以上步骤进行高精度抛光，直到最终达到要求的加工精度。

实施例3：本实施例与具体实施例1总体装置与构成相同，如图14所示，不同之处在于用曲面大尺寸光学零件代替平面大尺寸光学零件，因此所述的抛光头应为大尺寸曲面单点和小尺寸曲面单点抛光头，所述的机体平台主要由机架、工作台、X轴工作台、Y轴工作台、Z轴滑台和装夹元件组成，工件安装在工作台上，主轴装置与Z轴滑台配合，X工作台和Y工作台除了移动之外，还可实现绕轴线的摆动，通过多自由度的联动可实现工件空间任何位置的抛光加工。

本实施方式的抛光方法和步骤如下：将大尺寸曲面光学零件安装到工作台上，定位并夹紧光学零件；如图14所示，在抛光主轴上安装曲面大尺寸单点抛光头，调节数控平台各移动轴，使抛光头到达初始加工位置，并调节抛光主轴到工件之间的距离；关闭截止阀，将磁流变液体添加到储液缸中，打开截止阀并启动输送蠕动泵，磁流变液体通过硅胶软管和旋转接头进入抛光头，然后充满抛光头和工件之间的间隙，最后进入回收装置，启动回收蠕动泵回收到储液缸，实现磁流变液体循环；启动电主轴，通过带轮带动抛光主轴旋转；开启电磁铁电源，电磁铁被磁化，在抛光区域产生一定强度的梯度磁场，使处于抛光区的磁流变液体磁化变成半固体状态，并在工件和抛光头之间形成柔性小磨头，通过抛光主轴的旋转带动小磨头与工件接触摩擦抛光；根据加工工艺要求调节改变数控平台各坐标轴的移动和摆动，实现不同的角度和位置，并对不同区域选择不同的驻留时间，重复以上步骤进行高效率材料去除抛光。

再用曲面小尺寸单点抛光头更换曲面大尺寸单点抛光头继续抛光，根据加工工件表面质量检测结果调节改变数控平台各坐标轴的移动和摆动，到达要求加工的角度和位置，有选择性的对不同区域进行抛光，并对不同区域根据检测结果要求选择不同的驻留时间，重复以上步骤进行高精度抛光，直到最终达到要求的加工精度。

实施例4：本实施例与具体实施例3总体装置与构成相同，不同之处在于用凹(凸)曲面小尺寸光学零件代替曲面大尺寸光学零件，因此所述的抛光头应为小尺寸凹(凸)曲面多点或单点抛光头，如图15所示，本实施方式的抛光方法和步骤如下：将小尺寸凹(凸)曲面光学零件安装到工作台上，定位并夹紧光学零件；如图4所示，在抛光主轴上安装凹(凸)曲面小尺寸多点或多点抛光头，调节数控平台各坐标轴位置，使抛光头与光学工件外形相吻合，并调节抛光主轴到工件之间的距离；关闭截止阀，将磁流变液体添加到储液缸中，打开截止阀并启动输送蠕动泵，磁流变液体通过硅胶软管和旋转接头进入抛光头，然后充满抛光头和工件之间的间隙，最后进入回收装置，启动回收蠕动泵回收到储液缸，实现磁流变液体循环；启动电主轴，通过带轮带动抛光主轴旋转；开启电磁铁电源，电磁铁被磁化，在抛光区域产生一定强度的梯度磁场，使处于抛光区的磁流变液体磁化变成半固体状态，并在工件和抛光头之间形成柔性小磨头，通过抛光主轴的旋转带动小磨头与工件接触摩擦抛光；根据加工工件要求选择不同的驻留时间，重复以上步骤进行高精度抛光，直到最终达到要求的加工精度。

Claims (9)

1.一种光学零件磁流变精密抛光系统，包括主轴装置、机体、数控装置、磁场发生装置和液体循环装置，所述的主轴装置通过机体与数控装置固连，其中主轴装置的电主轴(24)和抛光主轴(21)通过主轴连接装置(22)固连在一起，主轴装置中的抛光头(31)安装于抛光主轴(21)上，动力源带动电主轴转动，其转动通过皮带(20)传动传给抛光装置；所述的机体包括机架(11)及其上的工作台(16)，工作台包括X轴工作台(13)和Y轴工作台(12)，主轴装置(22)通过滚珠丝杠螺母与机体Z轴滑台配合；环绕在抛光头(31)周边的磁场发生装置(18)与主轴装置(22)连接，电磁线圈(17)与可控直流电源连接；所述的液体循环装置与抛光主轴(21)和数控工作台连接，包括含有温度控制装置(30)和搅拌装置(25)的储液缸(1)及与其相连的液体循环用导管(2)，将液体输入或输出储液缸(1)的蠕动泵(3)；控制液体粘度的粘度控制装置(5)；补充缺失液体的液体补给装置(9)；用于回收经过抛光区域的磁流变液体的液体收集装置(14)；被加工光学零件固定在数控工作台上。

2.根据权利要求1所述的一种光学零件磁流变精密抛光系统，其特征在于：所述的主轴装置(22)通过旋转接头(32)连接软管(2)和抛光主轴(21)，抛光主轴(21)由双层金属管制成。

3.根据权利要求1所述的一种光学零件磁流变精密抛光系统，其特征在于：所述的磁场发生装置由两个电磁线圈组成，电磁线圈材料为漆包线，由直流电源控制磁场，磁路结构采用相对磁导率为6000的DT4型电工纯铁制成，并与抛光头形状相匹配。

4.根据权利要求1所述的一种光学零件磁流变精密抛光系统，其特征在于：所述的抛光头用于抛光的工作表面与工件的形状相配合，为平面、凸球面、凹球面或曲面，端面上导液孔为单点或多点。

5.根据权利要求1所述的一种光学零件磁流变精密抛光系统，其特征在于：所述的温度控制装置包括环绕储液缸的调温水套和计算机控制装置。

6.根据权利要求1所述的一种光学零件磁流变精密抛光系统，其特征在于：所述的蠕动泵包括驱动器、泵头和外控接口，外控接口与计算机连接；流量要求增大时，可串联两个泵头。

7.根据权利要求1所述的一种光学零件磁流变精密抛光系统，其特征在于：所述的液体循环用导管采用中流量型的硅胶软管。

8.根据权利要求1所述的一种光学零件磁流变精密抛光系统，其特征在于：所述的机体工作台，表面开有标准T形槽，并配有标准的装夹元件。

9.根据权利要求1所述的一种光学零件磁流变精密抛光方法，包括下列步骤：

(1)在具有温度控制装置和搅拌装置的储液缸中加入用于抛光的磁流变液体，并启动电机进行混合搅拌；

(2)将工件固定于加工平台的工作台上，根据被加工工件形状更换抛光头；

(3)启动蠕动泵，磁流变液体经泵加压以后，通过旋转接头和导管进入抛光头，充满抛光头和工件之间的间隙，在外加电磁场的作用下使磁流变液体变成半固体状态的柔性抛光磨头进行抛光，

(4)经过抛光区域的磁流变液体由液体收集装置回收，经蠕动泵抽取送回储液缸中。

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