CN101221316B - 显示面板 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种显示面板,包括一第一基板包括:一第一底板;以及至少一反射结构位在该第一底板上;一第二基板;以及一光感性封合胶,设置于该第一基板以及该第二基板之间以接合该第一基板以及该第二基板,其中该至少一反射结构位于该光感性封合胶以及该第一底板之间。本发明主要在提供一显示面板及其制造方法,在固化光感性封合胶的工艺中,可增加光利用率以降低需提供以固化光感性封合胶的光线能量。

Description

显示面板 
技术领域
本发明涉及一种显示面板,显示面板具有光感性封合胶以及反射结构,反射结构用以反射用以固化该光感性封合胶的光线,用以降低需提供以固化光感性封合胶的光线能量。 
背景技术
平面显示器因为具有轻薄、短小以及低辐射的特性,目前已被广泛应用。目前被广泛应用的液晶显示器通常具有两基板,其间夹设一液晶层,一封合胶位于该两基板之间,以接合两基板,并将液晶层密封地封合在两基板之间。 
一般而言,封合胶使用热固性或光感性胶体。在液晶显示面板制作过程中,在涂布胶体于其中的一基板上后,液晶可以利用滴入式方式设置在该基板上,然后,将该基板与另一基板组立,接下来,固化该胶体,若该胶体为热固性,则利用热能将该胶体固化,若该胶体为光感性,则视胶体,利用紫外光或其它波段光线将该胶体固化,如此一来,便可封合该两基板。 
但是在固化光感性胶体时,若提供的光线能量太小、曝光时间太短或是因为基板上的导线结构阻挡了部份的光线,则无法顺利固化光感性胶体,让液晶层中的液晶分子与尚未固化的光感性胶体接触,胶体中的杂质或是溶剂渗入了液晶层,导致液晶层遭受污染,影响显像质量,或是固化工艺中,曝光时间太长,让液晶层中的液晶分子接受过长时间的光线照射而使得液晶分子劣化,也会导致显像过程有不良纹路(mura)的发生。 
故在现有技术的固化光感性胶体制作过程中,如何避免破坏或影响到液晶分子变成为一重要课题。 
发明内容
本发明所要解决的技术问题在于提供一种显示面板,在固化该显示面板的光感性封合胶制作过程中,可增加光利用率以降低需提供以固化光感性封合胶 的光线能量。 
本发明所要解决的另一技术问题在于提供一种制造显示面板的方法,可降低需提供以固化光感性封合胶的紫外光光线能量。 
本发明提供一种制造显示面板的方法,该方法包括提供一显示面板半成品,该显示面板半成品包括一光感性封合胶;以及提供一光线于该光感性封合胶,其中该光线的能量为60瓦至70瓦。 
本发明提供一种制造显示面板的方法,该方法包括提供一显示面板半成品,该显示面板半成品包括一光感性封合胶;以及提供一光线于该光感性封合胶,其中提供该光线的时间约为30秒至35秒。 
本发明是用以利用本发明的实施例所提供的反射结构,在曝光固化光感性封合胶制作过程时,缩短紫外光照射能量、避免液晶分子劣化并使光感性封合胶内的转化率更高。 
在本发明的一实施例中,一种显示面板,包括一第一基板包括:一第一底板;以及至少一反射结构位在该第一底板上;一第二基板;以及一光感性封合胶,设置于该第一基板以及该第二基板之间以接合该第一基板以及该第二基板,其中该至少一反射结构位于该光感性封合胶以及该第一底板之间,且该反射结构全部被该光感性封合胶覆盖。 
在本发明的一实施例中,该反射结构包括:位于该第一底板上的多个第一调整结构,位于部分该第一调整结构上的第二调整结构,以及将该第一调整结构及第二调整结构全面覆盖或部分覆盖的反射层。 
综上所述,本发明主要在提供一显示面板及其制造方法,在固化光感性封合胶的工艺中,可增加光利用率以降低需提供以固化光感性封合胶的光线能量。 
以下结合附图和具体实施例对本发明进行详细描述,但不作为对本发明的限定。 
附图说明
图1A至图1F为本发明的概要图; 
图2为本发明的第一实施例的显示面板剖面图; 
图3为本发明的第二实施例的显示面板剖面图; 
图4为本发明的第三实施例的显示面板剖面图; 
图5为本发明的第四实施例的显示面板剖面图; 
图6为本发明的第五实施例的显示面板剖面图; 
图7为本发明的第六实施例的显示面板剖面图;及 
图8A至图8G为本发明的反射结构的剖面图。 
其中,附图标记: 
10、20、30、40、50、60、70:显示面板 
100:第二基板 
104a、104b1、104b2:主动元件 
105a、105b:扫描线 
106a:数据线 
106b:信号线 
107:像素电极 
108:电激发光元件 
109:电源线 
110:第一基板 
111、201、211、301、311、401、411、501、511、601、611、701、711:底板 
120、220、320、420、520、620、720:光感性封合胶 
125、225、325、425、525、625、725:反射结构 
130:介质 
202a、202b、302a、302b、402a、402b、502a、502b、602a、602b、702a、702b:导线层 
225a、325a、425a、525a、625a、725a:第一调整结构 
225b、325b、425b、525b、625b、725b:第二调整结构 
225c、325c、425c、525c、625c、725c:反射层 
230、330、430、530:液晶层 
212a、212b:遮光层 
具体实施方式
图1A至图1F为本发明的概要图,先概要叙述用以达到本发明述目的的原理及简要结构。 
图1A为本发明的显示面板爆炸图。显示面板10包括第一基板110以及第二基板100,第一基板110上设置有光感性封合胶120用以接合第一基板110以及第二基板100,而第一基板110以及第二基板100之间为一介质130,介质130举例为空隙、胶体填充物或是液晶层。光感性封合胶120举例为紫外线胶或其它光固化胶。 
图1B为图1A沿剖面线AA’所绘制的剖面图。第一基板110包括第一底板111以及位于第一底板111上的反射结构125,光感性封合胶120位于第一基板110以及第二基板100之间用以接合第一基板110以及第二基板100。值得注意的是,反射结构125位于第一底板111以及光感性封合胶120之间,举例来说,反射结构125可全部或部份被光感性封合胶120覆盖,在图1B中,以反射结构125全部被光感性封合胶120覆盖为例,但并不用以局限本发明。 
在制造显示面板的方法中,包括下列步骤:提供一显示面板半成品,该显示面板半成品包括一光感性封合胶120;以及提供一光线L于该光感性封合胶120,如图1B所示,光线L从第二基板100的下表面被提供至光感性封合胶120,然后被反射结构125反射为光线L’,再次被提供至光感性封合胶120以固化,而不会直接穿过底板111而直接离开显示面板半成品,如此一来,光的利用率增加。光感性封合胶120具有固化反应转化率,固化反应转化率越高表示光感性封合胶120固化反应越完全,通常固化反应转化率与曝光时间、能量或温度以及胶体成份有关系,本发明的结构及方法可有效提高光感性封合胶120的固化反应转化率,如图1B所示,可减少所需的曝光能量及时间,举例而言,光线L为紫外光,能量约为70瓦(W)至90瓦(W),且曝光时间约为30秒至40秒,或者是,光线L为紫外光,能量约为60瓦至70瓦,且曝光时间约为30秒至35秒。曝光时间及能量视光感性封合胶120材料特性及曝光机台设备而定,参数条件并不局限。 
图1C至图1D为图1B的第一基板110的上视图,仅着重于光感性封合胶120的设置方式,第一基板110的其余部分请参照后续图示及对应说明。如图1C所示,光感性封合胶120设置在第一底板111的周边上,反射结构125为一连续结构设置于该第一底板111的周边上,详细而言,反射结构125直接位 于光感性封合胶120上并可与光感性封合胶120共形。如图1D所示,光感性封合胶120设置在第一底板111的周边上,与图1C不同的是,反射结构125为多个,分散设置于光感性封合胶120上。反射结构125的反射率约为70至90%。 
举例而言,光感性封合胶120可呈一具有开口H的连续结构,如图1C所示,用以执行液晶面板的液晶灌入工艺。光感性封合胶120可呈一密闭式连续结构,位于第一底板111的周边上,如图1D所示,适用于液晶面板10的液晶滴入工艺。 
图1E及图1F为第一基板110或第二基板100的显示区域的局部放大上视图,为方便起见,仅显示一个或两个像素。如图1E所示,第一基板110或第二基板100为一主动阵列基板,包括多个扫描线105a、与扫描线105a相交的数据线106a、像素电极107,以及与扫描线105a、与扫描线105a以及像素电极107连接的主动元件104a,主动元件104a举例为薄膜晶体管。如图1F所示,第一基板110或第二基板100为一电激发光阵列基板,包括扫描线105b、信号线106b、开关主动元件104b1、驱动主动元件104b2、电激发光元件108以及电源线109。电激发光元件108举例而言为有机发光二极管或是无机发光二极管,与驱动主动元件104b2连接,驱动主动元件104b2与开关主动元件104b1和电源线109连接,开关主动元件104b1与扫描线105b和信号线106b连接。驱动主动元件104b2与开关主动元件104b1例如为薄膜晶体管。 
本发明的显示面板的详细构件如下述文字所示,并佐以图示详细说明: 
第一实施例
图2为本发明的第一实施例的显示面板剖面图。如图2所示,显示面板20包括彩色滤光片基板210、主动阵列基板200以及位于其间的液晶层230。显示面板20具有显示区T以及接合区C,显示区T被接合区C沿周边环绕。 
彩色滤光片基板210包括基底211,遮光层212a、212b位于基底211上,在显示区T中,彩色滤光层R、G、B位在基底211上,可部份覆盖遮光层212a,绝缘层223覆盖于遮光层212a以及彩色滤光层R、G、B上,绝缘层223的材料举例为有机材料,共通电极224位于绝缘层223上,反射结构225包括第一调整结构225a、位于第一调整结构225a上的第二调整结构225b以及将其全面覆盖或部分覆盖的反射层225c。第一调整结构225a以及/或第二调整结构 225b的材料举例为染料树脂或其它有机、无机材料、光刻胶、氧化硅、氮化硅或氮氧化硅等等,反射层225c的材料举例为铝、银或铜。反射结构225举例为在形成彩色滤光层R、G、B的同时或之后,利用半调光掩模或灰阶光掩模将位在接合区的彩色滤光层曝光显影而成第一调整结构225a及第二调整结构225b,之后,沉积反射材料于第一调整结构225a及第二调整结构225b上,接下来,蚀刻反射材料以形成反射层225c。 
主动阵列基板200包括基底201,导线层202a、202b、绝缘层203设置于导线层202a、202b上,在主动阵列基板200中,像素的设置可参考图1E,其各层结构可参考习知主动阵列基板,在此不再赘述。遮光层212a以及导线层202a位于显示区T中,遮光层212b以及导线层202b位于接合区C中。 
液晶层230以及光感性封合胶220位于彩色滤光片基板210和主动阵列基板200之间。反射结构225位于接合区C中并位在光感性封合胶220以及基底211之间。共通电极224与主动阵列基板200的多个像素电极107之间可形成不同的电压差以影响液晶层230中的液晶分子转向或移动,借此产生显示画面。在后续的实施例中,相同的元件所使用的材料可与本实施例相同,之后不再赘述。 
在进行固化光感性封合胶220工艺时,光线L从主动阵列基板200侧被提供至光感性封合胶220内,之后,被反射结构225第一次反射而成光线L’,然后被导线层202a第二次反射而成光线L”,再次进入光感性封合胶220以固化光感性封合胶220。 
第二实施例
图3为本发明的第二实施例的显示面板剖面图。如图3所示,与第一实施例不同处在于,反射结构325位于主动阵列基板300,其余元件大致相同,在此不再赘述。当进行固化光感性封合胶320工艺时,光线L从彩色滤光片基板310侧被提供至光感性封合胶320内,之后,被反射结构325反射而成光线L’,再次进入光感性封合胶320以固化光感性封合胶320。 
第三实施例
图4为本发明的第三实施例的显示面板剖面图。如图4所示,液晶面板40包括彩色滤光片于主动阵列上基板(color filter on array,COA)400,对向基板410以及位于其间的液晶层430。与第一实施例不同之处在于,液晶 面板40使用彩色滤光片于主动阵列上基板400,故对向基板410便不需要彩色滤光层。在彩色滤光片于主动阵列上基板400中,遮光层412b以及彩色光层R、G、B位于绝缘层403上。反射结构425的制造过程可以直接形成第一调整结构425a、第二调整结构425b以及反射层425c于基底411上,或者是形成金属材料反射结构于基底412上即可。其余元件及工艺大致与第一实施例相同,在此不再赘述。 
第四实施例
图5为本发明的第四实施例的显示面板剖面图。如图5所示,与第三实施例不同处在于,反射结构525位于彩色滤光片于主动阵列上基板500,其余元件大致相同,在此不再赘述。用于固化光感性封合胶520的光线L从基底511进入,通过反射结构525反射成为光线L’,之后便用于完成光感性封合胶520的固化作用。 
第五实施例
图6为本发明的第五实施例的显示面板剖面图。如图6所示,显示面板60为一电激发光显示面板。显示面板60包括电激发光阵列基板600、基底611以及光感性封合胶620位于电激发光阵列基板600以及基底611之间。 
电激发光阵列基板600包括基底601、导线层602a以及602b,以及电激发光元件阵列609,电激发光元件阵列609与导线层602a连接。反射结构625位在基底611上,反射结构625的形成方式及固化光感性封合胶620工艺可参照第三实施例。从基板601侧进入的光线L,被反射结构625反射成为光线L’,然后被导线层602a再一次反射成为光线L”进入光感性封合胶620,便完成光感性封合胶620的固化反应。 
第六实施例
图7为本发明的第六实施例的显示面板剖面图。如图7所示,显示面板70为一电激发光显示面板。与第五实施例不同处在于反射结构725位于电激发光阵列基板700,其余部份大致与第五实施例相同,在此不再赘述。固化光感性封合胶720工艺及光线L、L’行进方向可参照第四实施例,在此不再赘述。 
图8A至图8G为本发明的反射结构的剖面图,反射结构可为一整体或分散结构,形状可为矩形、三角形、圆形、椭圆形、山形或不规则形,基本上以用 以反射用于固化光感性封合胶的光线,达到此目的均为本发明所属的范围,并不局限反射结构的材质、形状、尺寸大小或是硬度等等。 
综上所述,本发明主要在提供一显示面板及其制造方法,在固化光感性封合胶的工艺中,可增加光利用率以降低需提供以固化光感性封合胶的光线能量。 
当然,本发明还可有其它多种实施例,在不背离本发明精神及其实质的情况下,熟悉本领域的技术人员当可根据本发明作出各种相应的改变和变形,但这些相应的改变和变形都应属于本发明所附的权利要求的保护范围。 

Claims (13)

1.一种显示面板,其特征在于,包括:
一第一基板,包括:
一第一底板;以及
至少一反射结构位在该第一底板上,该反射结构包括:
位于该第一底板上的多个第一调整结构;
位于部分该第一调整结构上的第二调整结构;以及
将该第一调整结构及第二调整结构全面覆盖或部分覆盖的反射层;
一第二基板;以及
一光感性封合胶,设置于该第一基板以及该第二基板之间以接合该第一基板以及该第二基板,其中该至少一反射结构位于该光感性封合胶以及该第一底板之间,且该反射结构全部被该光感性封合胶覆盖。
2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,该反射结构为一连续结构设置于该第一底板的外围上。
3.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,该至少一反射结构的数目为多个,分散设置于该第一底板的外围上。
4.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,该第一基板还包括一遮光层,位于该第一底板以及该些第一调整结构之间。
5.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,还包括一液晶层,设置于该第一基板以及该第二基板之间。
6.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,该第二基板为一电激发光阵列基板。
7.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,该第一基板为一电激发光阵列基板。
8.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,该反射结构的反射率为70%至90%。
9.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,该反射层的材料包括铝、银、铜或上述组合。 
10.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,该第一调整结构的材料包括染料树脂、光刻胶、氧化硅、氮化硅、氮氧化硅或上述组合。
11.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,该反射结构的形状包括矩形、三角形、圆形、椭圆形或不规则形。
12.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,该光感性封合胶包括紫外线胶。
13.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,该第二基板包括至少一导线层,该光感性封合胶位于该导线层以及该反射结构之间。 
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