CN101209527A - 立式加工中心光机中的床身结构 - Google Patents

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饶佩明
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Abstract

本发明涉及一种立式加工中心光机中的床身结构,包括:床身主体(1)、与底盘的连接面(2)以及后侧导流口(3);在所述的连接面(2)设有若干个有间隔的结合脐子面(21);在连接面(2)的周边还设置了回流沟槽(22);本发明的有益效果是:保证了大护罩与床身连接平整密封;冷却液和润滑油只能渗漏在床身的回流沟槽内,而漏不到地面上。

Description

立式加工中心光机中的床身结构
技术领域
本发明涉及一种立式加工中心光机,尤其涉及该立式加工中心光机的床身结构。
背景技术
随着我国汽车、模具、航空、航天、电子、塑料、合金工业的飞速发展,传统的手动铣床已不能满足加工制造业的需求。虽然我国数控铣床和加工中心进口数量都在逐年递增,但仍然满足不了国内加工业的需求。因此,加速开发性价比较高的国产数控铣床、加工中心,是国内各专业制造商的当务之急和重点发展方向。
国内外生产立式加工中心的厂家较多,国外有瑞士的MIKRON公司、德国的DECKEL公司、日本马扎克株式会社等;国内知名厂家有北京第一机床厂、济南第一机床厂,大连、长征、桂林机床厂等。但它们生产的大多数都是大、中规格的产品,这些产品由于受规格限制,机床外形尺寸大,重量重,占地面积大,价格高。
虽然国内外立式加工中心规格、性能、用途和售价有很大的差异,但在结构上都大同小异,同类规格的产品比较,主要是在整机刚性和稳定性方面,加工精度和切削速度方面,排屑和防漏方面,外观造型和控制系统的配置等方面进行不断的探索研究,改进和提高,中小型规格的产品,目前普遍存在精度的稳定性较低,防泄漏性能、冷却液和润滑油的回收效果都存在不同程度的缺陷。
光机的定义、用途及使用范围:
该光机属于二轴线性导轨结构形式,泛指X,Y轴导轨采用直线滚动导轨副,Z轴导轨采用滑动导轨副(铸铁高频淬火+贴塑),无任何电机、电器、控制箱、水箱及外围板金护罩配置的主机。
该光机经过配置电机、控制系统、刀库、气路控制、液路控制和外围板金护罩,就可成为一台完整的立式加工中心。
该产品广泛适用于机械制造业、模具制造业及其它行业加工箱体类、盘类件、壳体及模具等复杂零件。工件在一次装夹后,可连续完成铣、钻、镗、铰等多种工序的加工。可单台使用,亦可多台组成生产流水线加工零件。
由图1可见:立式加工中心光机由床身1、滑鞍4、工作台5、立柱6、主轴箱7、滑轮8、机床垫铁9、以及三轴传动部件、三轴润滑系统、配重和运输紧固等组成。
床身是加工中心最重要的基础大件之一,它的刚性好坏,直接决定整个机床的机械精度和稳定。床身不但是其它基础大件的承载基体,同时还肩负着与外围板金护罩的连接。这就带来了机床在使用过程中所产生的冷却液和润滑油的混合物的排放和防漏问题。
但现有的床身在与外围板金护罩的连接、以及混合物的排放和防漏几个问题中没有得到有效的解决。
发明内容
本发明需要解决的技术问题是提供了一种立式加工中心光机中的床身结构,旨在解决上述的问题。
为了解决上述技术问题,本发明是通过以下技术方案实现的:
本发明包括:床身主体、与底盘的连接面以及后侧导流口;在所述的连接面设有若干个有间隔的结合脐子面;在连接面的周边还设置了回流沟槽。
与现有技术相比,本发明的有益效果是:保证了大护罩与床身连接平整密封;冷却液和润滑油只能渗漏在床身的回流沟槽内,而漏不到地面上。
附图说明
图1是立式加工中心光机光机结构示意图;
图2是图1中本发明的结构示意图;
具体实施方式
下面结合附图与具体实施方式对本发明作进一步详细描述:
由图2可见:本发明包括:床身主体1、与底盘的连接面2以及后侧导流口3;在所述的连接面2设有若干个有间隔的结合脐子面21;在连接面2的周边还设置了回流沟槽22;
在所述的床身主体1内侧有一前高后低、呈凹形的面23。
本发明在床身与底盘连接处,设计了有间隔的结合脐子面,保证大护罩与床身连接平整密封,在床身周边设有排水回流沟槽,使冷却液和润滑油只能渗漏在床身的回流沟槽内,而漏不到地面上。床身内侧设计成凹面,前高后低成倾斜状,既防止了油水的渗漏,又可将油水混合物顺床身倾斜面向后导流,最终由后侧导流口,及时排向油水分离容器内。

Claims (2)

1.一种立式加工中心光机中的床身结构,包括:床身主体(1)、与底盘的连接面(2)以及后侧导流口(3);其特征在于在所述的连接面(2)设有若干个有间隔的结合脐子面(21);在连接面(2)的周边还设置了回流沟槽(22)。
2.根据权利要求1所述的立式加工中心光机中的床身结构,其特征在于:在所述的床身主体(1)内侧有一前高后低、呈凹形的面(23)。
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PB01 Publication
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SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication