CN101205614A - 用于铝及铝合金的化学蚀刻溶液 - Google Patents

用于铝及铝合金的化学蚀刻溶液 Download PDF

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Abstract

本发明公开一种用于铝及铝合金的化学蚀刻溶液,该化学蚀刻溶液由盐酸、硝酸、三价铁离子化合物及水组成,其中盐酸的重量百分比浓度为1-3%、硝酸的重量百分比浓度为4-6%及三价铁离子的浓度为30-70g/l。该化学蚀刻溶液添加一种氧化性溶液如氯酸钠溶液以使化学蚀刻液可循环使用。本发明的化学蚀刻溶液具有蚀刻速度快、蚀刻均匀性好、能循环利用、蚀刻后无灰色残留物及生产成本低等优点。

Description

用于铝及铝合金的化学蚀刻溶液
技术领域
本发明是关于一种化学蚀刻液,特别是关于一种适用于铝及铝合金的化学蚀刻溶液。
背景技术
化学蚀刻是通过利用化学溶液的腐蚀作用将不需要的金属快速溶解除掉的过程。化学蚀刻的基本流程是:将初始金属件进行常规的清洗和除油使其表面清洁,进而在其表面涂覆遮蔽层,按照需加工的图样采用激光或其他雕刻方式去除部分遮蔽层,遮蔽层若为光刻胶则采用曝光的方式去除光刻胶,利用化学蚀刻溶液腐蚀暴露的金属,待蚀刻过程结束后,再将表面的遮蔽层去掉,最后用水清洗干净得到蚀刻加工工件产品。
目前市面上常见的铝及铝合金化学蚀刻液一般采用醋酸、磷酸及硝酸等组成的水溶液匹配,此种蚀刻溶液的缺点是蚀刻速度慢、蚀刻均匀性较差、蚀刻液利用率低,一般蚀刻溶液利用一次之后即不再可用、蚀刻后留有灰色残留物且成本较高。
发明内容
鉴于上述内容,有必要提供一种蚀刻速度快、蚀刻均匀性好、蚀刻后无灰色残留物且成本低的铝及铝合金的化学蚀刻溶液。
一种用于铝及铝合金的化学蚀刻溶液,由盐酸、硝酸、三价铁离子化合物及水组成,其中盐酸的重量百分比浓度为1-3%、硝酸的重量百分比浓度为4-6%及三价铁离子的浓度为30-70g/l。
本发明的化学蚀刻溶液具有蚀刻速度快、蚀刻均匀性好、蚀刻后无灰色残留物且生产成本低等优点。该化学蚀刻溶液还加入一种氧化性溶液如氯酸钠溶液,该氧化性溶液可使该化学蚀刻溶液能够多次循环利用。
具体实施方式
本发明的化学蚀刻溶液由盐酸、硝酸、三价铁离子化合物及水组成,其中盐酸的重量百分比浓度为1-3%,最佳重量百分比浓度为2%;硝酸的重量百分比浓度为4-6%,最佳重量百分比浓度为5%,三价铁离子化合物能溶于水,优选为三价铁离子卤化物如氯化铁、溴化铁及碘化铁等,三价铁离子浓度为30-70g/l,最佳浓度为50g/l。在使用本发明的化学蚀刻溶液进行铝及铝合金蚀刻时,该化学蚀刻溶液的温度为38-48℃,最佳值为43℃。
将盐酸(重量百分数30-32%)、硝酸(重量百分数68-70%、)及FeCl3溶液配成一定量溶液,该溶液中盐酸的重量百分比浓度为2%,硝酸的重量百分比浓度为5%,三价铁离子的浓度为50g/L。将该溶液按现有的蚀刻工艺对铝合金进行化学蚀刻,加热该溶液到43℃,将工件浸泡于该溶液中,蚀刻暴露的金属部分,蚀刻深度0.1mm所需时间为1.8min左右,且蚀刻后的表面平整细腻其均匀性在0.02mm以内。
为使所述化学蚀刻溶液能充分蚀刻工件且能循环利用,往所述溶液中加入氧化性溶液如氯酸钠溶液可使该化学蚀刻溶液充分有效,且能反复利用,加入氯酸钠溶液的浓度可不做管控,其根据溶液的ORP值添加,ORP值是溶液氧化还原能力的测试指标,其由ORP计检测而来。ORP计是测试溶液中氧化还原电位的专用仪器,本实施例中,当ORP值低于550mv时,需往所述化学蚀刻溶液中增加氯酸钠溶液。该化学蚀刻溶液中加入的氧化性溶液也可为其他氧化酸盐如氯酸钾溶液等。
工件蚀刻后,从溶液中取出工件,为除去蚀刻处的残留物,首先对蚀刻处进行酸洗,酸洗后对工件进行多次水洗,其水洗次数刻根据具体需要而定,经过6-10s后,再对工件蚀刻处进行碱洗,再对工件进行多次水洗,最后溢流水洗以完全去除工件蚀刻表面残留物,得到细腻均匀且无灰色残留物的蚀刻表面。
本发明该化学蚀刻溶液可以广泛应用于电子工业,光学仪表工业,石化工业,制药设备工业和半导体加工业等的重要元器件和结构件的化学蚀刻加工过程中。

Claims (8)

1.一种用于铝及铝合金的化学蚀刻溶液,其特征在于由盐酸、硝酸、三价铁离子化合物及水组成,其中盐酸的重量百分比浓度为1-3%、硝酸的重量百分比浓度为4-6%及三价铁离子的浓度为30-70g/l。
2.如权利要求1所述的化学蚀刻溶液,其特征在于:所述盐酸的重量百分比浓度为2%。
3.如权利要求1所述的化学蚀刻溶液,其特征在于:所述硝酸的重量百分比浓度为5%。
4.如权利要求1所述的化学蚀刻溶液,其特征在于:所述三价铁离子的浓度为50g/1。
5.如权利要求1所述的化学蚀刻溶液,其特征在于:所述化学蚀刻溶液使用的温度范围为38-48℃。
6.如权利要求1所述的化学蚀刻溶液,其特征在于:所述三价铁离子化合物能溶于水,该三价铁离子化合物包括三价铁离子卤化物。
7.如权利要求1所述的化学蚀刻溶液,其特征在于:所述化学蚀刻溶液还添加一种氧化性溶液,该氧化性溶液包括氯酸盐。
8.如权利要求7所述的化学蚀刻溶液,其特征在于:所述氧化性溶液的添加通过ORP计检测判断。
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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102181866A (zh) * 2011-04-14 2011-09-14 惠州中京电子科技股份有限公司 铝基板表面粗化处理方法
CN102326235A (zh) * 2009-02-23 2012-01-18 关东化学株式会社 金属层积膜用蚀刻液组合物
CN103774148A (zh) * 2011-12-31 2014-05-07 聚灿光电科技(苏州)有限公司 半导体工艺常温铝蚀刻制程
CN105925981A (zh) * 2016-05-30 2016-09-07 苏州安洁科技股份有限公司 一种用于制备双面铝材电路板的蚀刻液
CN110512210A (zh) * 2019-09-28 2019-11-29 立邦涂料(重庆)化工有限公司 一种无氟低温腐蚀剂及制备方法
CN110662605A (zh) * 2017-05-30 2020-01-07 先技精工(日本)有限公司 催化剂或吸附材料载持体的制造方法、以及催化剂或吸附材料载持体
CN113755840A (zh) * 2021-08-16 2021-12-07 合肥本源量子计算科技有限责任公司 一种刻蚀液及刻蚀方法

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CA2716144A1 (en) 2009-10-02 2011-04-02 University Of Windsor Method of surface treatment of aluminum foil and its alloy and method of producing immobilized nanocatalyst of transition metal oxides and their alloys
JP5767796B2 (ja) * 2010-09-28 2015-08-19 林純薬工業株式会社 エッチング液組成物およびエッチング方法
CN102800575B (zh) * 2011-05-26 2015-01-28 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 铝衬垫的晶体缺陷去除方法

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1353960A (en) * 1971-09-21 1974-05-22 Rolls Royce Method of etching a partially masked surface
NL7509341A (nl) * 1975-08-06 1977-02-08 Philips Nv Werkwijze voor de vervaardiging van elektrisch geleidende indiumoxide patronen op een isole- rende drager.
US4060097A (en) * 1975-09-17 1977-11-29 Oxford Keith E Automatic etching system
GB1521783A (en) * 1976-04-27 1978-08-16 Rolls Royce Method of and mixture for alloy coating removal
SU1425252A1 (ru) * 1985-09-30 1988-09-23 Предприятие П/Я Г-4517 Реактив дл вы влени макродефектов
CN100383282C (zh) * 2005-09-23 2008-04-23 祁佰伟 生产标牌用的腐蚀液的综合利用方法

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102326235A (zh) * 2009-02-23 2012-01-18 关东化学株式会社 金属层积膜用蚀刻液组合物
US9039915B2 (en) 2009-02-23 2015-05-26 Kanto Kagaku Kabushiki Kaisha Etching solution compositions for metal laminate films
CN102181866A (zh) * 2011-04-14 2011-09-14 惠州中京电子科技股份有限公司 铝基板表面粗化处理方法
CN103774148A (zh) * 2011-12-31 2014-05-07 聚灿光电科技(苏州)有限公司 半导体工艺常温铝蚀刻制程
CN103774148B (zh) * 2011-12-31 2016-03-16 聚灿光电科技股份有限公司 半导体工艺常温铝蚀刻制程
CN105925981A (zh) * 2016-05-30 2016-09-07 苏州安洁科技股份有限公司 一种用于制备双面铝材电路板的蚀刻液
CN110662605A (zh) * 2017-05-30 2020-01-07 先技精工(日本)有限公司 催化剂或吸附材料载持体的制造方法、以及催化剂或吸附材料载持体
CN110512210A (zh) * 2019-09-28 2019-11-29 立邦涂料(重庆)化工有限公司 一种无氟低温腐蚀剂及制备方法
CN113755840A (zh) * 2021-08-16 2021-12-07 合肥本源量子计算科技有限责任公司 一种刻蚀液及刻蚀方法

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