CN101163959B - 分析装置、该分析装置中的测光机构的清洁方法和清洁用具 - Google Patents

分析装置、该分析装置中的测光机构的清洁方法和清洁用具 Download PDF

Info

Publication number
CN101163959B
CN101163959B CN2006800132184A CN200680013218A CN101163959B CN 101163959 B CN101163959 B CN 101163959B CN 2006800132184 A CN2006800132184 A CN 2006800132184A CN 200680013218 A CN200680013218 A CN 200680013218A CN 101163959 B CN101163959 B CN 101163959B
Authority
CN
China
Prior art keywords
light
analytical equipment
cleaning
measuring mechanism
cleaning appliance
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN2006800132184A
Other languages
English (en)
Other versions
CN101163959A (zh
Inventor
藤原稔典
丹治秀树
宇佐川顺之
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Arkray Inc
Original Assignee
Arkray Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Arkray Inc filed Critical Arkray Inc
Publication of CN101163959A publication Critical patent/CN101163959A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN101163959B publication Critical patent/CN101163959B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/01—Arrangements or apparatus for facilitating the optical investigation
    • G01N21/15—Preventing contamination of the components of the optical system or obstruction of the light path
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/75—Systems in which material is subjected to a chemical reaction, the progress or the result of the reaction being investigated
    • G01N21/77—Systems in which material is subjected to a chemical reaction, the progress or the result of the reaction being investigated by observing the effect on a chemical indicator
    • G01N21/78—Systems in which material is subjected to a chemical reaction, the progress or the result of the reaction being investigated by observing the effect on a chemical indicator producing a change of colour
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/8483—Investigating reagent band
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/01—Arrangements or apparatus for facilitating the optical investigation
    • G01N21/15—Preventing contamination of the components of the optical system or obstruction of the light path
    • G01N2021/152—Scraping; Brushing; Moving band
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T436/00—Chemistry: analytical and immunological testing
    • Y10T436/11—Automated chemical analysis

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Molecular Biology (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Investigating Or Analysing Materials By The Use Of Chemical Reactions (AREA)
  • Optical Measuring Cells (AREA)
  • Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
  • Automatic Analysis And Handling Materials Therefor (AREA)

Abstract

本发明涉及一种分析装置(1)，其具备用于对滴附有试样的分析用具的试剂座进行测光的测光机构(6)，和具有用于载置分析用具的载置部(41)的载置台(4)。该分析装置构成为：清洁用具(22)载置在载置台(4)上，对测光机构(6)中的来自发光元件(66)的光的出射面(68)或入射面(68)进行清洁。本发明还涉及用于对分析装置(1)的测光机构(6)进行清洁的清洁用具(22)。

Description

分析装置、该分析装置中的测光机构的清洁方法和清洁用具
技术领域
本发明涉及在构成为利用测光机构通过光学方法进行试料分析的分析装置中，清洁测光机构的技术。
背景技术
如图17和图18所示，分析装置9构成为：在载置台90的载置部91上载置试验片92，将试验片92输送到测光机构93，根据测光机构93中的测光结果，对试样进行分析(例如参照专利文献1)。测光机构93构成为：发光元件95和受光元件96被保持在盒94中，盒94的下部开口97由透明板98塞住。
透明板98是使由发光元件95发射的光和在试验片92的试剂座99反射的光透过的部分。因此，在透明板98的表面98a有污渍的情况下，透过透明板98时，光会被吸收或被反射，因此优选频繁清洁透明板98的表面98a。
但是，在分析装置9中，为使受光元件96不接收外部光，将载置台90的上面90a和测光机构93的透明板98的表面98a之间的距离设定得较小，将测光机构93配置在装置深处的位置。因此，透明板98的清洁，是通过例如用手电照射测光机构93和载置台93之间的间隙，在该间隙中插入在棉花部分含浸有清洗液的棉签，用棉签的棉花部分擦拭透明板98而进行。因此，透明板98的清洁并不是件容易的工作。此外，由于清洁作业不容易，有时用户惰于进行透明板98的清洁作业。这种情况下，分析结果的可信度差。并且，由于透明板98配置在深处部位，且清洁作业为手工作业，因此，由于用户的不同，清洁程度会产生差异。该差异表现为分析精度的差异。
专利文献1：日本专利第2561509号公报
发明内容
本发明的课题在于在清洁分析装置的测光机构时，减轻用户的负担并提高分析精度。
本发明的第一方面提供一种分析装置，具备用于对滴附有试样的分析用具的试剂座进行测光的测光机构，和具有用于载置上述分析用具的载置部的载置台，其特征在于，清洁用具载置在上述载置台上，在上述测光机构中的光的出射面或入射面由上述清洁用具的按压部按压的状态下，对上述出射面或上述入射面进行清洁。
本发明的分析装置优选构成为：能够利用清洁用具的按压部，对测光机构的出射面或入射面进行擦拭。
测光机构例如能够相对于载置台进行相对的上下移动。相对于载置台的测光机构的相对的上下移动，可以通过仅有测光机构上下移动，或仅有载置台上下移动，或测光机构和载置台两者上下移动而达到。
优选，本发明的分析装置构成为：在载置部载置清洁用具，对上述出射面或上述入射面进行清洁。此时的分析装置优选构成为：在将清洁用具载置在载置部上的状态下，使测光机构位于与载置部对应的位置时，清洁用具的按压部对上述出射面或上述入射面进行按压。
载置台构成为：例如具备沿该载置台的移动方向延伸并具有凹部的导向件。在此情况下，测光机构例如具备与导向件接触的接触部，且接触部构成为：在载置部位于能够对试剂座测光的位置时，进入凹部。
本发明的分析装置优选构成为，在将含浸有清洗液的清洁用具的按压部按压在测光机构的出射面或入射面上的状态下，能够使出射面或入射面升温。
本发明的分析装置也可构成为：利用已知反射率的基准板对测光机构的出射面或入射面的污渍程度进行检查。此时，上述出射面或上述入射面的污渍检查优选在例如电源导通时，或出射面或入射面清洁后即刻实施。作为基准板，使用例如在对测光机构的光源的输出进行检查时，被光源发出的光照射的基准板。
本发明的第二方面，提供分析装置中的测光机构的清洁方法，用于在本发明的第一方面的分析装置中对上述出射面或上述入射面进行清洁，其特征在于，包括在上述清洁用具的按压部含浸有清洗液的状态下，利用上述按压部对上述出射面或上述入射面进行擦拭的第一步骤，且还包括下述第二和第三步骤中的至少一个步骤。
在此，第二步骤是先于第一步骤实施的，为在按压测光机构的出射面或入射面按压含浸有清洗液的清洁用具的按压部的状态下，对出射面或入射面进行加热的步骤；第三步骤是在第一步骤之后实施的，为利用反射率已知的基准板，确认出射面或入射面的污渍程度的步骤。
本发明的第三方面提供一种清洁用具，其特征在于，用于在分析装置中，对测光机构的光的出射面或入射面进行清洁，其中，该分析装置具备：用于对滴附有试样的分析用具的试剂座进行测光的测光机构，和具有用于载置上述分析用具的载置部的载置台，该清洁工具具备：基材，和由该基材支撑的1个或多个按压部。
基材与例如用于支撑分析用具中的试剂座的基材实质上呈同样的形状，1个或多个按压部设在例如至少与分析用具中的试剂座对应的位置。优选1个或多个按压部与分析用具中的试剂座呈同样的俯视形状，且设置在与试剂座对应的位置。
按压部还优选形成的比分析用具的试剂座厚。这种情况下，按压部的厚度为例如试剂座的厚度的2～30倍，优选为3～20倍。
按压部优选构成为：还具备弹性及吸水性中的至少一种。在赋予按压部弹性的情况下，例如部分或全部的按压部可由橡胶等非多孔质材料形成；在赋予按压部吸水性的情况下，例如部分或全部按压部可由棉纤维等吸水性高的材料形成的布、或微纤维(分割糸)等极细纤维形成的布形成。此外，在赋予按压部弹性和吸水性的情况下，也可将具有弹性的材料和具有吸水性的材料组合形成按压部，或使用发泡树脂(海绵)等多孔质材料形成整个按压部。
按压部还可以采用在弹性层的表面叠层吸水层的结构。这种情况下的弹性层例如可由硅橡胶或硅海绵构成；吸水层由例如尼龙或聚酯的微纤维(极细纤维)形成的布构成，或以聚酯、尼龙或人造丝等树脂为原料的无纺布构成，或由例示的树脂形成的网状物利用丙烯酸系等树脂粘接的无纺布构成。
按压部并不一定要形成座状，例如也可以形成由多个线条部形成的刷子状，或涵盖比试剂座更广范围形成延伸带状。
附图说明
图1为本发明的分析装置一例的整体立体示意图。
图2为沿图1的II-II线的剖面图。
图3为图1所示分析装置的载置台的立体图。
图4为图1所示分析装置中使用的试验片的整体立体图。
图5A为图1所示分析装置中使用的清洁用具的整体立体图，图5B为其侧视图。
图6为图1所示分析装置中的测光机构的整体立体图。
图7为图6所示测光机构的分解立体图。
图8A为沿图6的VIIIa-VIIIa线的剖面图，图8B为沿图6的VIIIb-VIIIb线的剖面图。
图9为用于说明图1所示分析装置的动作的流程图。
图10为用于说明图1所示分析装置中的污渍检查处理的流程图。
图11为用于说明污渍检查处理中分析装置的动作的重要部分的剖面图。
图12为用于说明图1所示分析装置中的清洁处理的流程图。
图13为用于说明清洁处理中分析装置的动作的重要部分的剖面图。
图14为用于说明清洁处理中分析装置的动作的重要部分的剖面图。
图15为用于说明图1所示分析装置中的分析处理的流程图。
图16为用于说明分析处理中分析装置的动作的重要部分的剖面图。
图17为用于说明现有分析装置的重要部分的立体图。
图18为图17所示分析装置的重要部分的剖面图。
符号说明
1分析装置
20、21试验片(分析用具)
20A、21A(试验片的)基材
20B、21B(试验片的)试剂座
22清洁用具
22A(清洁用具的)基材
22B(清洁用具的)清洁座(按压部)
22Ba(清洁座的)弹性层
22Bb(清洁座的)吸水层
4试验片载置台(载置台)
41(试验片载置台的)第一槽(载置部)
43导向部(导向件)
43Bb(导向部的)第二凹部(凹部)
45A黑色基准板(基准板)
45B白色基准板(基准板)
6测光机构
62(测光机构的)辊(接触部)
68(测光机构的)透明板(具有出射面和入射面的板)
具体实施方式
图1和图2所示的分析装置1构成为：使用试验片20、21进行血液中特定成分的浓度分析，具备：筐体3、试验片载置台4、分注装置5和测光机构6。
筐体3用于规定分析装置1的外观形状，并收容各种部件，具有开口30、31。
开口30是用于容许试验片载置台4的一部分突出到筐体3的外部的开口，设置于筐体3的前面33。该开口30利用盖34选择开放状态或关闭状态。能够选择：在开口30呈开放状态时，筐体3的内部与外部连通，试验片载置台4收容在筐体3的内部的状态；和试验片载置台4的大部分突出到筐体3的外部的状态。在试验片载置台4突出到筐体3的外部的状态下，后述的试验片载置台4中的第一和多个第二槽41、42呈露出状态。
开口31是在架35相对于筐体3出入时使用的开口。该开口31设置在筐体3的侧面36，利用架35选择开放状态或关闭状态。在此，架35不仅用于保持触头52和收容试样和/或清洗液的容器(图示略)，还用于收容使用完毕的触头52。
筐体3上还设置有操作面板37和显示器38。操作面板37设置有各种操作按钮37A，这些操作按钮37A用于设定测定条件或用于规定分析装置1的动作。显示器38用于表示测定结果、操作按钮37A的操作结果等，或用于进行出错信息等各种报告。
如图1和图3所示，试验片载置台4不仅用于载置试验片20、21，还用于使试验片20、21移动到目标位置，可相对于筐体3沿D1、D2方向往复移动。该试验片载置台4具有第一槽41、多个(在本实施方式中为6个)第二槽42、一对导向部43、传动部44、黑色和白色基准板45A、45B，整体形成为例如黑色。
第一槽41用于保持图4A所示的多成分测定用试验片20或图5A所示的清洁用具22，沿D3、D4方向延伸形成。
如图4A所示，多成分测定用试验片20是在基材20A上设置有多个(本实施方式中为6个)试剂座20B的机构。基材20A呈与第一槽41对应的形状，由例如非吸水性或难吸水性的树脂材料形成。各试剂座20B分别构成为：在纺布、滤纸等吸水性载体上载持有与葡萄糖、白蛋白、钙等特定成分反应并显色的试剂。
如图5A所示，清洁用具22用于对后述的测光机构6的透明板68(参照图8B)进行清洁。该清洁用具22在基材22A上设有六个清洁座22B。基材22A与试验片20同样，呈与第一槽41对应的形状，由例如非吸水性或难吸水性的树脂材料形成。各清洁座22B形成于与试验片20的试剂座20B对应的位置，其厚度比试剂座20B的厚度大。各清洁座22B的厚度为例如试剂座20B的厚度的2～30倍，优选为3～20倍。这一方面是因为清洁座22B的厚度过小时，不能充分按压测光机构6的透明板68(参照图8B)，达不到充分的清洁效果，另一方面是因为清洁座22B的厚度过大时，赋予测光机构6的透明板68(参照图8B)的按压力增大，会造成透明板68受损，或使清洁座22B(清洁用具22)难以相对于透明板68移动(擦拭)。
清洁座22B由具有弹性和吸水性的材料形成。该清洁座22B既可以形成一层具有弹性和吸水性的结构，也可以如图5B所示，形成在具有弹性的弹性层22Ba上叠层具有吸水性的吸水层22Bb的双层结构。这种情况下，弹性层22Ba除了具有弹性，还可以具有吸水性。
作为用于形成清洁座22B的材料，在例如清洁座22B采用单层结构时，可使用棉、发泡树脂(海绵)、编布等。在清洁座22B采用双层结构时，作为用于形成弹性层22Ba的材料，可使用硅橡胶等弹性体，或硅海绵等树脂发泡体；作为用于形成吸水层22Bb的材料，可使用滤纸、纺布或无纺布。更具体而言，吸水层22Bb由使用了作为聚酯和尼龙的微纤维的极细纤维的布，以聚酯、尼龙或人造丝等树脂为原料的无纺布，或利用丙烯酸系等树脂将例示的树脂形成的网状物粘接而得的无纺布形成。此外，在清洁座22B上，还可以预先载持トリトンX-100(聚氧乙烯-对叔辛基苯基醚)等表面活性剂。
与之相对，图1和图3所示的各第二槽42是用于保持单一成分测定用的试验片21的机构，沿D1、D2方向延伸而形成。单一成分测定用试验片21如图4B所示，在基材21A上设置有1个试剂座21B。试剂座21B由例如纺布或滤纸等吸水性载体载持有与葡萄糖、白蛋白、钙等特定成分反应并显色的试剂。
如图3所示，各导向部43是在使试验片载置台4沿D1、D2方向移动时，使后述测光机构6的辊62转动的部分(参照图11、图13、图14和图16)，在试验片载置台4的D3、D4方向的端部沿着D1、D2方向延伸设置。各导向部43具有：由多个导轨部43A规定的第一～第三凹部43Ba、43Bb、43Bc。第一凹部43Ba设置在与黑色和白色基准板45A、45B对应的位置，第二凹部43Bb设置在与第一槽41对应的位置，第三凹部43Bc设置在与第二槽42对应的位置。
如图2所示，传动部44是用于将电动机46的旋转驱动力输入试验片载置台4的部分。该传动部44具有用于与固定在电动机46的输出轴47上的传动部48卡合的多个齿(图示略)。因此，试验片载置台4根据电动机46的输出轴47的旋转方向，可相对于筐体3沿D1方向或D2方向(参照图1和图3)进行往复移动。
如图3所示，黑色和白色基准板45A、45B是在检查后述测光机构6的发光元件66的输出时，或在检查测光机构6的透明板68的清洁状态时，被由发光元件66发出的光照射的部分。这些基准板45A、45B是反射率已知的部件，由例如玻璃或树脂形成。各基准板45A、45B通过嵌入设置在试验片载置台4上的凹部49中而与试验片载置台4形成一体。此外，也可省略黑色基准板45A和白色基准板45B中的一方，或者在将试验片载置台4形成为黑色时，也可将试验片载置台4的表面代替黑色基准板45A使用。此外，也可使用由表面反射率高的材料(例如金属)形成的基准板代替白色基准板45B。
图2所示的分注装置5是用于将试样滴附在图4A和图4B所示的试验片20、21的试剂座20B、21B上，或将清洗液滴附在图5A或图5B所示的清洁用具22的清洁座22B上的装置。在此，作为分析装置1中的使用对象的试样，可举出例如血液、尿液等。作为清洗液，可使用例如水、有机溶剂、含有表面活性剂的溶液等。但是，在使用清洁用具22的清洁座22B中预先含浸有表面活性剂的清洁用具时，作为清洗液没有必要使用含有表面活性剂的溶液。
该分注装置5具备喷嘴50和抽吸单元51，利用抽吸单元51对喷嘴50施加吸附力或排出力。
图2所示的喷嘴50是前端部安装有触头52而使用的机构，可沿水平方向和垂直方向移动。该喷嘴50可选择：能够利用来自抽吸单元51的动力吸引空气的状态，和能够排出空气的状态。即，在喷嘴50中，在安装有触头52的状态下，通过进行能够吸引空气的动作，可将试样抽吸到触头52内部并将试样保持，另一方面，通过进行能够排出空气的动作，可将保持在触头52中的试样排出。
抽吸单元51构成为：利用脉冲电动机53使直动轴54上下运动。直动轴54与活塞56连接，活塞56通过直动轴54的上下运动相对于汽缸55上下运动。即，抽吸单元51通过控制脉冲电动机53使活塞56上下运动，将液体吸引到安装在喷嘴50上的触头52中，使保持在触头52中的液体排出。
图2所示的测光装置6用于把握试验片20、21的试剂座20B、21B(参照图1)的显色状态。该测光装置6如图6～图8所示，具有盒60、支架61和一对辊62。
盒60具有整体上在D3、D4方向伸长的形态，具有上壁63、一对倾斜壁64A、64B，和下部开口65。
上壁63沿D3、D4方向水平延伸，支撑在D3、D4方向上并列的多个(图中为6个)发光元件66。多个发光元件66对应于试验片20中的多个试剂座20B的配置而设置，各发光元件66以竖直向下出射光、向试验片20、21的试剂座20B、21B或基准板45A、45B垂直照射光(参照图8B和图11B)的方式被支撑。作为发光元件66，可使用例如LED灯等。
各倾斜壁64A、64B在相对于上壁63呈45度倾斜的状态下，沿D3、D4方向延伸，倾斜壁64A支撑多个(图中为6个)受光元件67。各受光元件67以接收由试验片20、21的试剂座20B、21B或基准板45A、45B中反射的光中从45度角反射而来的光(参照图8B和图11B)的方式被支撑。作为受光元件67，可使用例如光电二极管。
下部开口65用于允许由发光元件66发射的光由盒60出射，且允许试验片20、21的试剂座20B、21B中反射的光入射到盒60的内部。在该下部开口65处，固定有透明板68。透明板68由透明树脂或玻璃形成。
支架61用于使包括盒60的测光机构6能够上下移动，具有用于保持盒60的贯通孔61A。该支架61还在D3、D4方向的端部设有开口61B、61C和槽61D。开口61B用于允许辊62的旋转。开口61C如图2所示，是销39插通的部分，由销39引导测光机构6的上下移动。槽61D是用于在测光机构6移动到下方时，避免支架61干扰试验片载置台4的导向部43的机构。
如图2、图6～图8所示，一对辊62设置在盒60的长度方向(D3、D4方向)的端部，其中一部分以在支架61的下方突出、并可相对于盒60旋转的方式而被支撑。各辊62设在与试验片载置台4的导向部43(参照图3)对应的位置，在使试验片载置台4相对于测光机构6沿D1、D2方向相对移动时，在导向部43上转动。其中，各导向部43具有第一～第三凹部43Ba、43Bb、43Bc。为此，测光机构6在辊62位于导轨部43A上时，整体位于高位；在辊62位于凹部43Ba～43Bc时，整体位于低位。即，通过使辊62沿着导向部43在D1、D2方向上相对移动，使测光机构6可沿上下方向移动，在位于与黑色和白色基准板45A、45B对应的位置、与第一和第二槽41、42对应的位置时，位于低位。
此外，导轨部43A的高度在辊62位于导轨部43A之上时，设定使后述的测光机构6的透明板68的表面位于比载置在第一槽41的状态下的清洁用具22的清洁座22B的上面更靠上方的位置(参照图13B和图13C)；另一方面，在辊62位于第一～第三凹部43Ba～43Bc时，设定使透明板68的表面位于比清洁用具22载置在第一槽41的状态下的清洁座22B的上面更靠下方的位置，且使透明板68位于比载置在第一和第二槽41、42的试验片20、21的试剂座20B、21B的上面更靠上方的位置(参照图14C和图16)。
接着参照流程图说明分析装置1的动作。
如图9所示，在分析装置1中，在电源导通的情况下(S1)，首先检查测光机构6中的透明板68的污渍(S2)。
如图10所示，在透明板68的污渍的检查处理中(S2)，分析装置1测定黑色基准板45A和白色基准板45B的反射率(S20、S21)。如图11A和图11B所示，黑色和白色基准板45A、45B的反射率的测定(S20、S21)在将测光机构6定位于与黑色或白色基准板45A、45B对应的部分以后，利用测光机构6对基准板45A、45B进行测光而进行。基准板45A、45B的测光通过由发光元件66向基准板45A、45B照射光，由受光元件67接收此时的反射光而进行。在分析装置1中，根据受光元件67中的受光量，计算基准板45A、45B的反射率。
然后，在分析装置1中，判断黑色基准板45A的反射率是否在一定值以下(S22)，当反射率在一定值以下时(S22：YES)，判断白色基准板45B的反射率是否在一定值以上(S23)。分析装置1在S23中判断白色基准板45B的反射率在一定值以上时，判断透明板68上没有污渍(S24)；另一方面，在S22中判断黑色基准板45A的反射率在一定值以上时(S22：NO)，或在S23中判断白色基准板45B的反射率在一定值以下时(S23：NO)，判断透明板68有污渍(S25)。
其中，作为透明板68是否有污渍的判断基准的黑色和白色基准板45A、45B的反射率的阈值，可根据例如照射的光的波长、和该波长下的黑色和白色基准板45A、45B清洁时的反射率(基准板45A、45B的组成等)适当设定。
如图9所示，透明板68的污渍检查(S2)完毕时，在分析装置1中，判断透明板68上是否有污渍(S3)，在透明板68上有污渍的情况下(S2：YES)，报知透明板68有污渍的信息(S4)。
分析装置1在判断透明板68没有污渍的情况下(S3：NO)，或在报知透明板68有污渍的信息(S4)的情况下，由用户判断是否选择清洁模式(S5)。在此，由用户进行清洗模式的选择通过例如由用户操作操作按钮37A来进行。
分析装置1在判断选择清洁模式的情况下(S5：YES)，实施清洁处理(S6)。
如图12所示，在清洁处理中(S6)，首先判断第一槽41是否载置有清洁用具22(S60)。在S60中，在判断未载置清洁用具22的情况下(S60：NO)，判断选择清洁模式后是否经过了一定时间(时间是否已到)(S61)。在分析装置1判断未经过一定时间的情况下(S61：NO)，再次判断是否载置有清洁用具22(S60)。S60、S61的判断反复实施，直至在S60中判断为载置有清洁用具22(S60：YES)或在S61中判断为经过了一定时间(时间已到)(S61：YES)为止。
在S60中，在判断为载置有清洁用具22的情况下(S60：YES)，向清洁用具22的清洁座22B滴附清洗液(例如水、表而活性剂的溶液、溶剂)(S62)。向清洁座22B滴附清洗液通过在分注装置5的喷嘴50上安装触头52的状态下，将清洗液吸引到触头52内以后，将其排出到清洁座22B上而实施(参照图2)。在此，由于清洁座22B如上所述由具有吸水性的材料形成，因此，在将清洗液滴附在清洁座22B上时，清洗液含浸并保持在清洁座22B中。
在对清洁座22B滴附清洗液(S62)完毕时，移动试验片载置台4，使清洁座22B与测光机构6的透明板68紧密接触(S63)。
在该过程中，如图13A～图13C所示，在直到清洁座22B位于透明板68中的发光元件66正下方区域之前为止，测光机构6的辊62位于导向部43的导轨部43A上。因此，在直到清洁座22B位于上述正下方区域为止，整个测光机构6位于高位置，因此，清洁座22B不会干扰测光机构6。另一方面，如图14A～图14C所示，在清洁座22B位于透明板68中的发光元件66的正下方区域时，测光机构6的辊62位于导向部43的第二凹部43Bb内。因此，在清洁座22B位于上述正下方区域时，整个测光机构6位于低位，清洁座22B被压接在透明板68上。此时，由于清洁座22B采用具有柔软性的材料，因此，清洁座22B发生弹性变形，利用其反弹力，维持清洁座22B与透明板68紧密接触的状态。
然后，如图12所示，在分析装置1中，加热透明板68(S63)。透明板68的加热可利用例如在使试验片20、21的试剂座20B、21B的试剂和试样反应时使用的加热器进行，透明板68的加热温度设定为试样与试剂的反应温度(例如30～40℃)。在此，在加热透明板68的情况下，呈透明板68与清洁座22B紧密接触的状态；另一方面，由于清洁座22B中含浸有清洗液，因此清洗液渗透附着在透明板68上的污渍，使污渍浮起。
然后，在分析装置1中，利用清洁座22B擦拭透明板68的污渍(S64)。擦拭污渍的作业如图14C所示，通过将试验片载置台4沿D1、D2方向往复移动规定次数而进行。通过S63中的对透明板68的加热，使透明板68的污渍浮起，因此，利用这样的擦拭操作，可以恰当地从透明板68擦去污渍。
在污渍的擦拭操作(S64)完毕时，进行透明板68的污渍检查(S65)。该污渍检查(S65)与之前说明的S2中的污渍检查处理同样进行(参照图10和图11)。
在S66中判断透明板68有污渍的情况下(S66：YES)，反复实施S64中的擦拭和S65中的污渍检查，至S66中判断透明板68上没有污渍(S66：NO)，或判断仅运行了规定次数的污渍擦拭作业为止(S67：YES)。
当在污渍的擦拭作业(S64)之后实施污渍检查时(S65)，即使在1次擦拭作业不能充分除去透明板68的污渍时，利用此后实施的擦拭作业(S64)，也可以确保除去透明板68的污渍。此外，即使在假定污渍未充分除去的情况下，也可以向用户告知有可能不能实施精确测定的信息。
在S66中判断为透明板68没有污渍(S66：NO)或仅进行了规定次数的污渍的擦拭作业(S64)的情况下(S67：YES)，报知该信息(S68)。在S68中，在S66中判断为透明板68没有污渍的情况下(S66：NO)，报知透明板68的污渍被恰当地除去的信息；在S67中，在判断为实施了规定次数的擦拭作业(S64)的情况下(S67：YES)，报知透明板68的污渍未被充分除去的信息。这样的报知通过例如在显示器38上根据需要报知的内容以代码表示，或用文字表示需要报知的内容来实施。
然后，在分析装置1中，判断是否从试验片载置台4的第一槽41卸去了清洁用具22(S69)，在判断未卸去清洁用具22的情况下(S69：NO)，直至判断为由S68中的报知经过了一定时间(S70：YES)或判断卸去了清洁用具22为止(S69：YES)，反复实施S69和S70的判断。
然后，在S69中判断卸去了清洁用具22的情况下(S69：YES)，终止清洁处理。此外，在S61中判断为从选择清洁模式经过一定时间后也未载置清洁用具22的情况下(S61：YES)，或在S68中报知经过了一定时间后，判断为未卸去清洁用具22的情况下(S70：YES)，报知该信息(S71)，终止清洁处理。在S71中，在S61中判断为经过一定时间也未载置清洁用具22的情况下(S61：YES)，因未载置清洁用具22报知不能恰当地进行清洁处理；在S61中判断为经过一定时间后也未卸去清洁用具22的情况下(S70：YES)，报知未卸去清洁用具22。
如图9所示，分析装置1在S5中判断为未选择清洁模式的情况下(S5：NO)，或在清洁处理(S6)完毕的情况下，由用户判断是否选择分析模式(S7)。由用户进行分析模式的选择可通过对操作按钮37A的操作进行。
分析装置1在判断为未选择分析模式的情况下(S7：NO)，判断是否选择了清洁模式(S5)或是否选择了分析模式(S7)。
另一方面，分析装置1在判断选择了分析模式的情况下(S7：YES)，进行分析处理(S8)。
如图15所示，在分析处理中(S8)，首先判断分析装置1是否在第一或第二槽41、42载置试验片20、21(S80)。该判断基于由用户对操作按钮37A的操作生成的信号来进行。此外，也可在第一和第二槽41、42中设置传感器，由该传感器判断第一和第二槽41、42中是否载置试验片20、21。
在S80中，在判断为第一和第二槽41、42中载置了试验片20、21的情况下(S80：YES)，将试样滴附在试验片20、21的试剂座20B、21B上(S81)。向试剂座20B、21B滴附试样通过在分注装置5的喷嘴50上安装有触头52的状态下，将试样吸引到触头52内以后，将其排出到试剂座20B、21B上而进行(参照图2)。在此，由于试剂座20B、21B是含有用于与特定成分反应的试剂的机构，因此，在将试样滴附在试剂座20B、21B上时(S81)，在试剂座20B、21B中，试样的特定成分与试剂反应，试剂座20B、21B显示出与特定成分的量对应的颜色。
在试样的滴附(S81)完毕时，如图16所示，试验片载置台4沿D1方向移动，使试验片20、21的试剂座20B、21B位于测光机构6的透明板68的对面，利用发光元件66向试剂座20B、21B照射光(S82)。在分析装置1中，进一步检测在受光元件67中接收的来自试剂座20B、21B的反射光的光量(S83)，根据该检测量，计算试样中的特定成分的浓度(S84)。
浓度计算的结果表示在例如显示器38上，或打印在附图之外的记录纸上。此外，在清洁处理中(S6)，无论是在判断为透明板68的污渍未充分除去(S66：NO)或未实施污渍的擦拭操作即终止了清洁处理的情况下(S61：YES)，或尽管判断为透明板68有污渍(S3：YES)，但未选择清洁模式(S5：NO)，而是选择了分析模式的情况下(S7：YES)，都可以附记对分析结果有可能不正确的担心的信息。
以上说明的分析装置1构成为：电源导通时，检查测光机构6中的透明板68的污渍，在产生了污渍的情况下，报知需要清洁透明板68的信息。即，在分析装置1中，可向用户传达需要清洁的信息(有可能不能实施正确分析的信息)。这样，由于可在透明板68有污渍的状态下，降低用户进行试样分析的可能性，因此可提高进行正确分析的可能性。
此外，透明板68的清洁仅通过对操作按钮37A进行操作等选择清洁模式，将清洁用具22载置在试验片载置台4上，就可以在分析装置1中自动实施。因此，在对透明板68进行清洁时，可降低因用户为减轻负担而惰于进行清洁作业的可能性，并且在利用装置进行自动清洁时，也不会因用户不同造成清洁程度的差异。其结果是，在分析装置1中，与用户通过手工作业对透明板68进行清洁时相比，能够实现分析精度的提高。
本发明并不限于上述实施方式中采用的方案。例如，使测光机构6相对于试验片载置台4上下移动的结构并不限于作为分析装置1说明的例子，也可以采用其它结构，且测光机构6只要可相对于试验片载置台4上下移动，也可以采用例如试验片载置台4上下移动，或者测光机构6和试验片载置台4两者上下移动的结构。
此外，作为清洁用具，也可使用清洗液滴附部分(湿式座)和清洗液未滴附部分(干式座)沿基材的宽度方向并列设置的清洁用具。再者，作为清洁用具，不一定必须形成具有吸水性的多孔质状，且也不必将按压在测光机构的透明板上的部分(按压部)形成座状。例如，按压部也可以由橡胶等形成非多孔质的座状，或形成包括多根线条部的刷子状，或者沿基材的长度方向延伸的非座状。

Claims (16)

1.一种分析装置，其特征在于，具备：
为了对滴附有试样的分析用具的试剂座进行测光而对该试剂座照射光的测光机构，和
具有用于载置所述分析用具的载置部的载置台，
所述测光机构能够相对于所述载置台进行相对的上下移动，
该分析装置以下述方式构成：在所述载置台上载置清洁用具，在所述测光机构相对于所述载置台位于低位时，所述测光机构中的光的出射面或入射面成为被所述清洁用具的按压部按压的状态，在该状态下对所述出射面或所述入射面进行清洁。
2.如权利要求1所述的分析装置，其特征在于，所述分析装置以能够利用所述按压部对所述出射面或所述入射面进行擦拭的方式构成。
3.如权利要求1所述的分析装置，其特征在于，所述分析装置以在所述载置部载置所述清洁用具、对所述出射面或所述入射面进行清洁的方式构成。
4.如权利要求3所述的分析装置，其特征在于，所述分析装置以下述方式构成：在将所述清洁用具载置于所述载置部的状态下，使所述测光机构位于与所述载置部对应的位置时，所述清洁用具的按压部对所述出射面或所述入射面进行按压。
5.如权利要求4所述的分析装置，其特征在于，所述载置台具备沿该载置台的移动方向延伸并具有凹部的导向件，
所述测光机构具备与所述导向件接触的接触部，并且
所述接触部以在所述载置部位于能够对所述试剂座进行测光的位置时进入所述凹部的方式构成。
6.如权利要求1所述的分析装置，其特征在于，所述分析装置以下述方式构成：在将含浸有清洗液的所述按压部按压在所述出射面或所述入射面上的状态下，使所述出射面或所述入射面升温。
7.一种分析装置中的测光机构的清洁方法，用于在分析装置中，对所述测光机构的光出射面或入射面进行清洁，其特征在于，
所述分析装置具备：为了对滴附有试样的分析用具的试剂座进行测光而对该试剂座照射光的测光机构，和
具有用于载置所述分析用具的载置部的载置台，
所述测光机构能够相对于所述载置台进行相对的上下移动，
所述清洁方法包括：
在所述清洁用具的按压部含浸有清洗液的状态下，在所述测光机构相对于所述载置台位于低位的状态下利用所述按压部对所述出射面或所述入射面进行擦拭的第一步骤，并且还包括下述第二和第三步骤中的至少一个步骤，
第二步骤：在所述第一步骤之前进行，并且在将含浸有清洗液的所述按压部按压在所述出射面或所述入射面上的状态下，对所述出射面或所述入射面进行加热，
第三步骤：在所述第一步骤之后进行，并且利用已知反射率的基准板，确认所述出射面或所述入射面的污渍的程度。
8.一种清洁用具，用于在分析装置中，对测光机构中的光出射面或入射面进行清洁，其特征在于，
所述分析装置具备：为了对滴附有试样的分析用具的试剂座进行测光而对该试剂座照射光的测光机构，和
具有用于载置所述分析用具的载置部的载置台，
所述测光机构能够相对于所述载置台进行相对的上下移动，
所述清洁用具在所述测光机构相对于所述载置台位于低位时进行所述清洁，
所述清洁用具具备：基材；和由该基材支撑的一个或多个按压部。
9.如权利要求8所述的清洁用具，其特征在于，所述基材采用与用于支撑所述分析用具中的所述试剂座的基材实质上相同的形状，
所述按压部至少存在于与所述分析用具中的试剂座对应的位置。
10.如权利要求9所述的清洁用具，其特征在于，所述一个或多个按压部具有与所述试剂座同样的俯视形状，并且形成于与所述试剂座对应的位置。
11.如权利要求8所述的清洁用具，其特征在于，所述按压部比所述分析用具的试剂座的厚度大。
12.如权利要求11所述的清洁用具，其特征在于，所述按压部的厚度形成为所述试剂座的厚度的2～30倍。
13.如权利要求8所述的清洁用具，其特征在于，所述按压部具有弹性。
14.如权利要求8所述的清洁用具，其特征在于，所述按压部具有吸水性。
15.如权利要求8所述的清洁用具，其特征在于，所述按压部具有弹性和吸水性。
16.如权利要求15所述的清洁用具，其特征在于，所述按压部为在具有弹性的弹性层的表面叠层有具有吸水性的吸水层的结构。
CN2006800132184A 2005-04-20 2006-04-19 分析装置、该分析装置中的测光机构的清洁方法和清洁用具 Active CN101163959B (zh)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP121833/2005 2005-04-20
JP2005121833 2005-04-20
PCT/JP2006/308192 WO2006112470A1 (ja) 2005-04-20 2006-04-19 分析装置、この分析装置における測光機構のクリーニング方法およびクリーニング用具

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN101163959A CN101163959A (zh) 2008-04-16
CN101163959B true CN101163959B (zh) 2011-11-16

Family

ID=37115184

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN2006800132184A Active CN101163959B (zh) 2005-04-20 2006-04-19 分析装置、该分析装置中的测光机构的清洁方法和清洁用具

Country Status (5)

Country Link
US (1) US8460616B2 (zh)
EP (1) EP1873515B1 (zh)
JP (1) JP5047794B2 (zh)
CN (1) CN101163959B (zh)
WO (1) WO2006112470A1 (zh)

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8986614B2 (en) * 2010-02-23 2015-03-24 Rheonix, Inc. Self-contained biological assay apparatus, methods, and applications
JP2009007139A (ja) * 2007-06-29 2009-01-15 Brother Ind Ltd 画像記録装置
EP2221608B1 (de) 2009-02-18 2015-08-12 F. Hoffmann-La Roche AG Testverfahren zur Untersuchung einer Körperflüssigkeit
JP5570240B2 (ja) 2010-02-22 2014-08-13 アークレイ株式会社 試料の分析処理におけるデータ出力方法、分析装置、分析システム、前記方法を実施するためのプログラム、およびこのプログラムの記憶媒体
US9102979B2 (en) 2010-02-23 2015-08-11 Rheonix, Inc. Self-contained biological assay apparatus, methods, and applications
US9810622B2 (en) * 2015-04-09 2017-11-07 Gen-Probe Incorporated Sample testing systems and methods with automated cleaning
JP2017032413A (ja) * 2015-07-31 2017-02-09 ソニー株式会社 検出用デバイス、光学的検出用装置及び光学的検出方法
CA3067180C (en) * 2018-04-10 2023-04-11 Illumina, Inc. Optical cleaning cartridge
CN112808693B (zh) * 2021-01-05 2021-12-07 殷智勇 一种钢绞线弯曲绑扎测试设备
CN114798581B (zh) * 2022-06-28 2022-10-28 深圳市帝迈生物技术有限公司 样本分析仪的清洗装置及其清洗方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4702826A (en) * 1986-02-03 1987-10-27 Rotex, Inc. Screen cleaner for particle size analyzer
EP0447888A2 (en) * 1990-03-21 1991-09-25 Miles Inc. Device for wiping a reagent strip
US5993560A (en) * 1991-10-04 1999-11-30 Wasak; Wojciech Optical surfaces cleaning devices, compositions and methods

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CH591078A5 (en) * 1974-11-20 1977-08-31 Jaeggli Mario Testing liq. - purity in photometric analysis by passing light beam through rotating transparent pipe onto photo-electric cell
GB8707299D0 (en) * 1987-03-26 1987-04-29 Secr Social Service Brit Assay apparatus
US5039615A (en) * 1987-04-11 1991-08-13 Kabushiki Kaisha Kyoto Daiichi Kagaku Method for chemically analyzing a test piece
AU1816888A (en) * 1987-06-26 1989-01-05 Gerrard Abdool Rayman Device for testing fluids
US5185531A (en) * 1991-09-26 1993-02-09 Wedgewood Technology, Inc. Window cleaner for inline optical sensors
ATE219835T1 (de) * 1996-05-10 2002-07-15 Sensalyse Holdings Ltd Wiederverwendbares, flaches probenanalysiergerät
US6394952B1 (en) * 1998-02-03 2002-05-28 Adeza Biomedical Corporation Point of care diagnostic systems
US5995236A (en) * 1998-04-13 1999-11-30 Mit Development Corporation Blood fluid characteristics analysis instrument
US6027570A (en) * 1998-05-18 2000-02-22 Bayer Corporation Cleaning method for optical surfaces of urine analyzers
US6261522B1 (en) * 1998-10-13 2001-07-17 Bayer Corporation Spectrophotometric apparatus with reagent strip detection
US6239445B1 (en) * 1999-03-01 2001-05-29 Bayer Corporation Optical inspection apparatus with removable inserts
US6736926B2 (en) * 2001-10-09 2004-05-18 Micron Technology, Inc. Inline monitoring of pad loading for CuCMP and developing an endpoint technique for cleaning
JP2003227752A (ja) * 2002-02-01 2003-08-15 Ricoh Co Ltd 赤外線式非接触型温度センサー

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4702826A (en) * 1986-02-03 1987-10-27 Rotex, Inc. Screen cleaner for particle size analyzer
EP0447888A2 (en) * 1990-03-21 1991-09-25 Miles Inc. Device for wiping a reagent strip
US5993560A (en) * 1991-10-04 1999-11-30 Wasak; Wojciech Optical surfaces cleaning devices, compositions and methods

Also Published As

Publication number Publication date
US8460616B2 (en) 2013-06-11
JP5047794B2 (ja) 2012-10-10
EP1873515A4 (en) 2010-06-16
EP1873515A1 (en) 2008-01-02
EP1873515B1 (en) 2014-07-02
US20090052033A1 (en) 2009-02-26
CN101163959A (zh) 2008-04-16
WO2006112470A1 (ja) 2006-10-26
JPWO2006112470A1 (ja) 2008-12-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN101163959B (zh) 分析装置、该分析装置中的测光机构的清洁方法和清洁用具
EP0779983B2 (en) Optically readable strip for analyte detection having on-strip orientation index
KR100816799B1 (ko) 테스트 부재 분석 시스템 및 그 분석 시스템을 이용한 분석 조사 방법
KR100354581B1 (ko) 광판독스트립
KR910005051A (ko) 건강상태 검사 기능이 구비된 변기장치
US4204767A (en) Automatic cataphoresis apparatus
CN100468043C (zh) 测试片的光学分析组件
EP0487068A1 (en) Device and method for analyzing liquid sample
CN101430286B (zh) 成分测量装置
JP2002022743A (ja) 免疫クロマト試験用具及び免疫クロマト試験片の測定装置
CN212633750U (zh) 一种反应杯清洗测量一体化装置
JP2005189034A (ja) ピペット装置およびこれを備えた分析装置
JP4128730B2 (ja) 免疫クロマト試験片の測定装置
JPS62228933A (ja) 自動化学分析装置
AU2004200781B2 (en) Test strip measuring device
JP2008082898A (ja) 成分測定装置
US6407403B1 (en) Test piece analyzing apparatus having a test piece transfer assembly
JPH04160362A (ja) 余剰尿除去機能を備えた尿データ分析装置
CN114295551A (zh) 一种尿液分析仪器
JPH0395459A (ja) 試験具
JPH04115037A (ja) 尿データ分析機能を備えた便器
JPH0755701A (ja) 液体試料の比重測定装置

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant