CN101131369B - 一种薄样和厚样兼容测量的x射线能谱仪 - Google Patents
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Abstract
本发明所述的一种薄样和厚样兼容测量的X射线能谱仪，包括X射线出射窗口、安全光闸机构、X射线管、干扰光阻断结构、探测器、薄样品插槽。其中X射线出射窗口与X射线光束同轴，薄样品插槽设于X射线出射窗口与X射线管之间，干扰光阻断结构设于X射线管与探测器之间，安全光闸机构设于X射线管以及探测器与X射线出射窗口之间。本发明所述一种薄样和厚样兼容测量的X射线能谱仪的优点在于：它有效的结合了薄、厚样技术检测仪的长处，既能满足一般工矿单位对样品进行简单方便快捷的测量，又可以得到更高精度的测量结果，满足实验研究的需要。
Description
技术领域
本发明涉及一种薄样和厚样兼容测量的X射线能谱仪。
背景技术
传统能谱仪主要的特点是反射式收集X射线荧光，并且采用厚样技术，即，将样品用液压压样装置制成5mm以上厚度的板状然后进行测量。其缺点是：由于厚样的原因导致康普顿散射效应，灵敏度降低；试验时间长，要等待充气与收气，并且耗气量较大，试验不方便。但由于厚样技术不需要复杂的化学前处理，广泛应用于对测量精度要求不高的各个领域。
现有薄样技术检测仪的原理，对通过化学前处理获得的薄样进行测量，可减小一般能谱仪的本底增强效应以提高测量灵敏度，可满足实验室精确测量的需要。
由于传统能谱仪采用厚样技术，虽然能够方便，广泛的选择样品，但测量精度受到限制。而单纯使用现有薄样技术的能谱仪需要对试样进行复杂的前处理，因此需要在较为严格的实验条件下进行，虽保证了测量精度，但也使应用领域受到限制。
发明内容
本发明的目的在于提供一种薄样和厚样兼容测量的X射线能谱仪，可以兼容测量薄样或者厚样。
本发明所述的一种薄样和厚样兼容测量的X射线能谱仪，包括X射线出射窗口、安全光闸机构、X射线管、干扰光阻断结构、探测器、薄样品插槽。其中X射线出射窗口与X射线光束同轴，薄样品插槽设于X射线出射窗口与X射线管之间，干扰光阻断结构设于X射线管与探测器之间，安全光闸机构设于X射线管以及探测器与X射线出射窗口之间。
其工作过程如下，对厚样进行测量时，可以在薄样品插槽中灵活设置不同类型衰减片，便于随时改变测量不同元素的灵敏度范围；此时设备工作过程是：仪器工作时安全光闸打开，X射线从X射线管射出穿过光闸窗口和博样插槽处的衰减片射到样品上，散射光线被探测器接收。
在需要对样品成分进行更为精确分析时，只需在对样品进行必要的前处理之后制成样品薄片，将样品片插入薄样品插槽中，此时设备工作过程是：将经前处理后获得的样品片插入薄样品插槽中，同时将原有X射线出射窗口屏蔽，使X射线直接照射在薄样品后，产生散射光线被接收，由于没有过厚的样品而减低本底增强效应，可以获得较高的灵敏度。
本发明所述一种薄样和厚样兼容测量的X射线能谱仪的优点在于：它有效的结合了薄、厚样技术检测仪的长处，既能满足一般工矿单位对样品进行简单方便快捷的测量，又可以得到更高精度的测量结果，满足实验研究的需要。
下面结合附图对本发明温度控制电路的具体实施方式作进一步说明。
附图说明
图1：本发明的结构示意图
具体实施方式
实施例一：本实施例所述的薄样和厚样兼容测量的X射线能谱仪，其结构见附图1，其中1为X射线出射窗口，2为安全光闸机构，3为X射线管，4干扰光阻断结构，5为探测器，6为薄样品插槽、7为厚样。其中X射线出射窗口1与X射线光束同轴，薄样品插槽6设于X射线出射窗口1与X射线管3之间，干扰光阻断结构4设于X射线管3与探测器5之间，安全光闸机构2设于X射线管3以及探测器5与X射线出射窗口1之间。本实施例中所采用的薄样品插槽6为一厚2～3mm的插槽，有两种作用：在进行厚样测量时，可以灵活设置不同类型衰减片插入槽中，利用不同类型的衰减片改变测量不同元素的灵敏度范围，达到测量厚样的目的；而在需要测量薄样时，可以将需要准确定量的微量样品经过前处理后，用特制的样品片处理成薄样，插入槽中，同时遮住原来的测试平面，可以按照薄样技术的试验方法完成试验。
Claims (2)
1.一种薄样和厚样兼容测量的X射线能谱仪，其特征在于包括X射线出射窗口、安全光闸机构、X射线管、干扰光阻断结构、探测器、薄样品插槽；其中X射线出射窗口与X射线光束同轴，薄样品插槽设于X射线出射窗口与X射线管之间，干扰光阻断结构设于X射线管与探测器之间，安全光闸机构设于X射线管以及探测器与X射线出射窗口之间。
2.如权利要求1所述的一种薄样和厚样兼容测量的X射线能谱仪，其特征在于所述的薄样品插槽为一厚2～3mm的插槽。
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Publications (2)
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| CN101131369A CN101131369A (zh) | 2008-02-27 |
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