CN101087695B - 包括电有源层的光学可变器件 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种包括至少一个光学可变元件的安全元件。根据本发明，可嵌入至少一层所述光学可变元件作为电子元件和/或电子开关电路的电有源层(13，14)。

Description

包括电有源层的光学可变器件
技术领域
本发明涉及一种安全元件，它具有至少一个光学可变器件(OVD)。
背景技术
OVD可用作钞票、安全凭证或商品标签的安全元件。因为它们的光学效果基于光学微结构处的光折射或光衍射，所以它们无法用彩色复印工艺来伪造。
已提出光学可变安全元件，这种安全元件可在多层中提供不同的光学效果。
WO 01/03945A1描述了一种安全元件，它具有透明的基板，该基板的一侧涂敷了一层薄膜，根据观察的角度该薄膜呈现出可观察到的色差。在透明基板的另一侧涂敷了一种衍射图案，以进一步增强复制保护。该衍射图案用作一种衍射光栅，从而可以籍助于该二维图案为观察者产生出三维图案的立体感觉。这使得在光学可变安全元件的任何位置处，薄膜层所产生的光学效果和衍射图案所产生的光学效果叠加在一起，并由此提供了这两种效果组合起来的整体光学效果。
WO 02/00445A1提出了用于使光学可变安全元件的多个层中所产生的多种光学效果彼此分离开的手段。为此，所提出的一种可能性是：在用于籍助于衍射产生全息图像的凹凸结构以及用于产生色变的薄膜之间涂敷一层不透明的层。所提出的另一种选择是：设置一层或多层高折射层以及一层粘合层，来替代上述不透明的中间层。在用于产生全息图像的凹凸结构的区域中，上述这些层增大了反射和光强，并因此全息图像与薄膜的色差效果相比是很明显的。
还知道，将射频识别元件(RFID)用作防窃手段并用于商品识别。RFID基于应答器(可分配给物体或人)和读取器件之间的无线射频通信。应答器通常包括连接着半导体芯片的天线。应答器和读取器件之间的通信常常包括将标识代码从应答器传输到读取器件。
例如，US 4220956描述了RFID应答器的RF天线的制造方法，其中通过蚀刻在薄基板一侧所涂敷的厚度小于125微米的导电层，便产生了天线。这种情况下，蚀刻工艺就像电子工业中印刷电路的生产工艺那样。
发明内容
现在，本发明的目的是提供一种具有光学可变器件的安全元件，特别适合于防伪。
本发明的目的是用具有至少一个光学可变器件的安全元件来实现的，其中光学可变器件中的至少一层可采用电子元件和/或电子电路的电有源层的形式。
光学可变器件呈现出一种根据观察方向和/或照明种类和/或照明方向而变化的光学效果。这些效果可以通过特殊的表面凹凸(衍射光栅、全息图)和/或通过特殊的薄层(干涉层系统)排列方式来产生。
按这种方式，光学可变器件和电子元件和/或电子电路形成了一个不可分离的单元。光学可变器件或电子元件处的操纵可以改变这两个元件部分，并且导致这两个元件部分中的一个或两个遭到破坏。
作为示例，RFID应答器可以具有信息存储器，这种信息存储器可以通过激光消融来写入。在该工艺中，存储器基底的各元件(不是必需的)利用激光作用来破坏。这种存储器基底可以采用如下形式：带有诸如有机场效应晶体管这样的有机元件的膜体。现在，当使用本发明的解决方案时，存储器基底处的任何操纵都会导致存储器基底中被操纵的电有源层的光学特性发生变化，并且以该方式变得可见。
电子元件可以整合到采用本发明解决方案的光学可变器件中，使得单独将光学可变器件后续应用于电子元件因生产-工程容差而变得很困难。电子元件必须结合光学作用，因此它相对于光学可变器件的定位容差须在微米范围中。在普通生产工艺中，这只在合理的复杂程度和花费下才是可能的。
本发明的其它有利结构在所附的权利要求书中得到阐明。
电有源层可以采用光学可变器件形式的各类电子元件都是不同的和变化的。
电有源层可以采用RFID应答器的RF天线的形式。也可以按该方式对这种天线结构进行光学评价。螺旋结构的RF天线可以按该方式形成图形表示，或者是这种表示的一部分。此外，由于电有源层的微结构化，这种RF天线可以具有比常规RF天线(采用平面薄层的形式)更好的电学特性。
电有源层的形式可以是电感器和/或电容器的电有源层。特别是，如果电有源层的形式是电振荡器电路(即电感器和电容器的互连)的电有源层，则根据本发明电有源层表面的微结构化可以显著地影响按上述方式形成的电振荡器电路的谐振频率。然后，不再有可能仅根据电有源层(或多层)的宏观几何尺寸来确定振荡器电路的谐振频率。振荡器电路的这种特殊性质可以进一步增强防伪性。
电有源层的形式可以采用电子元件电极的方式，特别是光学显示元件。这可以包括由RFID应答器所激活的光学显示元件。在激活时，光学显示元件可以产生附加的光学效果，这种附加的光学效果可以与形式为光学可变器件的电极所产生的光学效果叠加在一起。光学显示元件可以是有机发光二极管，其形状为图案或数字。该图案或数字与电极所产生的光学可变背景图案一起形成了特定的光学效果。然而，以点为形式的有机发光二极管还可以排列成像素光栅，这在平面屏幕中是已知的。这样，便有可能产生高分辨率的图形表示。此外，光学显示元件有可能具有电致变色元件，电致变色元件可根据所加的电压而呈现出不同的颜色。光学显示元件还有可能使多个颜色不同的或黑白的且荷电不同的粒子可移动地排列在两个电极层之间。在电极层两端施加电压时，有可能改变一个或其它电极层附近的一种或其它粒子的浓度，使得显示元件的光学印象可根据所加电压的大小和/或极性而变化。以这种方式设置的状态基本上是不变的，直到施加一个刷新电压。光学显示元件也可以是个性化的，例如，其形式是序号、图像或名字。通过在生产工艺中使电极层的表面微结构化，例如通过金属电极层的微去金属化或微金属化，便可以获得上述效果。
电有源层的形式也可以是电连接元件。因此，电路结构或开关电路的引线版图设计也有可能采用光学可变器件的形式。例如，连接着电路结构或开关电路的接地电位的大面积导体轨迹都可以嵌入光学配置中。其它不具电功能的区域可以排列在各个电功能元件之间，以便改善光学印象。
电有源层可以采用金属层的形式.金属层可以采用结构层形式的印刷来涂敷，例如，其形式是在聚合物层的两侧进行印刷以产生有机光学显示元件.然而，它们也可以通过溅射而涂敷到表面区域上，然后，通过去除工艺使之结构化.然后，通过成型滚筒，便可以使金属层的表面微结构化.然而，金属层下面排列的层也可以是成型的，并且将金属层加到其上面.金属层可以是不透明的、半透明的或透明的，这取决于层厚度.
如上所述，电有源层的形式也可以是微去金属化层，该层可允许看到其下面排列的层。
电有源层的形式也可以是非金属层，例如，由氧化铟锡制成。如果电有源层需要是透明的，则可以提供一层氧化铟锡。
导电层的形式也可以是有机层。这对生产有机电子元件(比如，有机场效应晶体管)特别有利，由这些有机场效应晶体管可以形成有机电路。
电有源层还可以被至少一个覆盖层覆盖。该层可以是保护性的层，例如，用于保护有机电子元件不受环境影响。然而，覆盖层还可以采用透明衍射结构的形式。这种覆盖层可以产生一种光学效果，该光学效果可以与形式为光学可变器件的电有源层所引起的光学效果叠在一起。然而，这也包括互补效应，例如，可产生分图像，在共同观察时该分图像引起用于模仿运动的图像变化。
覆盖层也可以采用宏观结构的形式，例如，采用微透镜阵列和/或微棱镜阵列的形式。这种覆盖层可以引起附加的光学效果。这种宏观结构是特别的结构，其横向尺寸是处于100微米或小于100微米的范围中。微透镜阵列，特别是会聚透镜所构成的微透镜阵列，可以将环境光聚焦到光学显示元件上。这样，基于电致变色元件的原理，可以改进显示元件的光学作用，这些电致变色元件包括OLED(有机发光二极管)或具有移动的彩色粒子的元件。然而，微透镜阵列也可以与像宏观会聚透镜这样的第二微透镜阵列叠加在一起，即它以放大的尺度再现微透镜阵列下面的像素。通过折叠配有这种安全元件的安全凭证，便可以使第二微透镜阵列置于第一微透镜阵列之上。这样，有可能形成望远镜或显微镜中已知的透镜组件。由此，例如，将微透镜阵列所构成的发散透镜和会聚透镜组合起来，便有可能产生所谓的伽利略望远镜，像观剧用望远镜那样。
作为示例，利用微棱镜阵列，便可以使光学显示元件发出的光按特定瞄准的方式分布。例如，可以使所发出的光偏折，使得即使斜着看也能清晰地观察到。
本文所称为覆盖层的层也可以排列在光学显示元件的下面。这种覆盖层可以采用正弦光栅或类正弦线性光栅或交叉光栅的形式，该区域中的线条数目约为200-2000条/毫米。如果光学显示元件采用LED的形式，则光学显示元件下面发出的光可以被反射。为此，也有可能提供反射式菲涅珥透镜。
本发明的解决方案包括：光学可变器件仅在其部分区域中采用电有源层的形式。如果光学可变器件覆盖光学显示元件，则只有排列在显示元件上的那部分光学可变器件采用电有源层的形式。电有源层也可以包括其它电子元件的电极和/或电感器和/或电容器和/或导体轨迹。
附图说明
下文参照附图通过许多实施方式对本发明进行描述。其中：
图1示出了聚合物显示元件的第一实施方式的横截面图，该聚合物显示元件带有形式为光学可变器件的电有源层，
图2示出了聚合物显示元件的第二实施方式的横截面图，
图3示出了聚合物显示元件的第三实施方式的横截面图，
图4示出了聚合物显示元件的第四实施方式的横截面图，
图5示出了聚合物显示元件的第五实施方式的横截面图，
图6示出了聚合物显示元件的第六实施方式的横截面图，
图7示出了安全凭证的第一实施方式的横截面图，该安全凭证带有形式为光学可变器件的电有源层，
图8示出了图7的安全凭证的平面图VIII，
图9示出了聚合物显示器的实施方式的平面图，该聚合物显示器带有形式为光学可变器件的电有源层，
图10示出了图9的放大的部分X，
图11示出了图10的另一个放大部分XI，
图12示出了安全凭证的第二实施方式的示意图，
图13示出了图12的放大的部分XIII，
图14示出了图13的放大的部分XIV，以及
图15示出了图14的放大的部分XV。
具体实施方式
图1是聚合物显示元件10的第一实施方式的截面图，该聚合物显示元件10包括聚合物显示层12、排列在其上的上电极层13和排列在其下的下电极层14。上电极层13可以采用10纳米厚的透明金属层的形式，而下电极层14可以采用10纳米厚的不透明金属层的形式。
聚合物显示层12由发光聚合物、电致变色或电子墨水构成。在这种情况下，当聚合物显示层12采用OLED(有机发光二极管)的形式时，它可以由三层互相叠加的子层构成，其厚度分别为200-300纳米、20纳米以及200-300纳米。
下电极层14采用完全金属化层的形式，其中形成有光学活性表面结构。下电极层14由此形成了完全金属化的OVD(光学可变器件，例如，衍射光栅或全息图)，并且包括铜、铝、银或铬。上电极层13包括透明的导电层(例如导电的氧化物，比如氧化铟锡)或非常精细的金属光栅。
这样，在上方观察方向18o上，聚合物显示层12是可见的；而在下方观察方向18u上，它是不可见的。环境光18l基本上是从上方到达聚合物显示元件10上的。
透明的OVD 15可以覆盖在上电极层13上。透明的OVD 15可以采用电介质层的形式，该电介质层具有高折射材料，比如TiO2或ZnS。这样，透明的OVD 15也可以延伸到至少一个与聚合物显示元件10相邻的区域。
上述这些层可以产生一些光学效果，这些光学效果形成安全特征和/或装饰效果。另外，两层协作便可以产生多种效果，例如，其形式为波纹效果，或者显现出的多层结合方式可以形成许多特征，以增加防伪性。
图2示出了聚合物显示元件20的第二实施方式.为了清晰，相似的层都用相同的标号来表示.聚合物显示元件20由三层相互叠加的层构成.聚合物显示层12排列在下电极层14上，下电极层14可以采用完全金属化OVD的形式；上电极层13排列在聚合物显示层12上.在本实施方式中，上电极层13采用金属电极层13的形式，其中金属电极层13具有透明的微去金属化区域13d.区域13d也可以采用在厚度方面不同于金属电极层13的微金属化区域的形式.微去金属化区域13d对应于发光显示的显示区域12d，这些显示区域12d可嵌入聚合物显示层12中.显示区域12d最好能以像素为形式发光和/或变色，由此再现光学信息，比如文本或标识.显示区域12d可以是静态启动的，使之再现不变的信息.然而，显示区域12d也可以是动态启动的，使之输出变化的信息，例如脉冲色变.如果聚合物显示元件20被集成到RFID(RFID＝射频标识)应答器中，则可以输出变化的信息.RFID应答器在处于针对其调谐的电磁高频场中时发射(调制后的)高频信号.
然而，显示区域12d也可以包括并不与聚合物显示层12的其余部分相分开的区域，这些区域是由透过上微结构化电极层13入射的光所构成的并且处于这种状态发光。在图3、5和6所示实施方式中，也可以提供这种结构。
上电极层13可以具有微结构化的表面，例如，它可以采用全息图的形式。这样，显示区域12d所再现的信息可以嵌入全息图像中。
图3示出了聚合物显示元件30，它类似于图2所示的聚合物显示元件20，它由三层相互叠加的层14、12和13构成。发光显示的显示区域12d可嵌入聚合物显示层12中。在所示实施方式中，上电极层13和下电极层14都具有微去金属化区域13d和14d，这些区域与显示区域12d对应排列。这样，相互叠加的区域14d、12d和13d可以形成图案，从下方方向18u看到的图案与从上方方向18o看到的图案呈镜像关系。然而，区域13d和14d也可以提供不同的图案，例如互补的图案。该图案可以采用标识的形式，或采用字母符号序列的形式。
例如，有可能通过提供如下区域来产生完全互补的图像：
-区域13d采用透明的金属化区域的形式，而周围的区域13采用不透明的金属化区域的形式，以及
-区域14d采用不透明的金属化区域的形式，而周围的区域14则采用透明的金属化区域的形式。
通过用金属来涂敷聚合物显示层12的两侧，利用互补图案以套准关系使区域13d和14去金属化，并且用透明的金属层来涂敷两侧，由此便可以产生这种结构。
当涉及互补排列时，通过使聚合物显示元件作快速旋转移动，从上方(观察方向18o)和下方(观察方向18u)能够看见的子图案就可以产生两个子图案所构成的整个图案的光学印象。这种整个图案可以采用图形标识附加一段文字的形式。通过显示区域12d的脉冲照明，区域13d和14d的形式可以是交互式图案。
上电极层13和/或下电极层14和/或微去金属化区域13d、14d都可以采用衍射层的形式，例如全息图或衍射光栅。这样，有可能产生不同的光学效果，这些光学效果除了有利的光学作用之外，还可以包括防伪安全特征。
图4示出了用透明的微光学层46所覆盖的聚合物显示元件40。在所示实施方式中，这包括其形式为微透镜阵列的宏观结构，其中微透镜的尺寸在100微米范围中并且各个微透镜都是会聚透镜。另外，下电极层14是非透明的金属层，而上电极层13是透明的导电层。
在图4所示实施方式中，透明的微光学层46将环境光18l会聚到电极层13和14之间的聚合物显示层12。例如，这样，有可能使聚合物显示层12的色变特别清楚地看到。这样，有可能提供OLED结构，就像参照图1所描述的那样，其中有源层非常薄(约10纳米)。因此，该层可以排列在微光学层46的微透镜的焦点处或非常接近该焦点处。
图5示出了用衍射OVD层56覆盖的聚合物显示元件50。但在其它方面，聚合物显示元件50类似于图2所示的聚合物显示元件20，即，聚合物显示层12排列在其形式为完全金属化的OVD的下电极层14上，聚合物显示层12上所设置的是其形式为金属层的上电极层13，且上电极层13具有透明的微去金属化区域13d。微去金属化区域13d对应于覆盖显示的显示区域12d，这些显示区域12d嵌入在聚合物显示层12中。
衍射OVD层56可在聚合物显示元件50上产生“水印”，并且以该方式形成特定的特征，该特征只能在高复杂度和高花费的条件下才能伪造。这包括一种设计元件，该设计元件在第一观察方向上发光，而该设计元件的周围区域则在相对于第一观察方向反转180度的第二观察方向上发光。图5所示的箭头58表示发光显示的显示区域12d的光线，衍射OVD层56使这些光线偏折。
图6示出了聚合物显示元件60，其设计原理与图5的聚合物显示元件50相似。衍射OVD层66作为最上层覆盖了聚合物显示元件60。OVD层66具有反射区域66r和衍射区域66d。
反射区域66r反射所入射的环境光18l，并且这样做可以使其分解成彩色光谱的光18c。这就能产生取决于入射环境光18l的成份和入射角的彩色效果。这种物理彩色效果无法用彩色复印工艺来伪造。
图6所示实施方式中的衍射区域16d排列在覆盖显示的显示区域12d之上，并且以这种方式产生了“水印”，如上所述，这可以作为附加的防伪安全特征。
图7是带有本发明的显示元件的安全凭证70的第一实施方式的截面图。安全凭证70可以是钞票、单据、商品标签等。安全凭证70包括塑料材料制成的载体71，其厚度约为100微米。该载体也可以是像身份证那样的塑料材料。
载体71的顶层具有光学可变器件72，其下面排列着聚合物显示元件73。这可以是参照图1到6所描述的显示元件，即，光学可变器件72和聚合物显示元件73可以构成膜元件。光学可变器件72可以采用衍射安全元件的形式，例如，全息图或
Figure G2005800420967D00091
载体71下面排列着RFID应答器74，它由天线74a和电子电路74s所构成。RFID应答器71提供用于聚合物显示元件73的电源电压。在图8中，可以从下方详细看到，按螺旋结构排列的天线74a至少在其部分区域中采用光学可变元件74b的形状，并且以这种方式形成附加的防伪安全特征。其它的层也可以排列在天线74a上，并且当RFID应答器74被电磁高频场激活时会产生色变。因此，在非激活状态中可以看到彩色特征，它们看起来比激活状态中的要更亮，或反之亦然。
图9-11示出了聚合物显示90，它包括八个由天线结构92和集成电路93供电的字母数字显示元件91.在所示实施方式中，各个字母数字显示元件91均由13个单独的显示元件91a所构成，这些显示元件91a连接到逻辑开关系统94.这样，天线结构92和集成电路93所提供的电能可分配到单个显示元件91a，使得所启动的单个显示元件91a各自形成各个字母数字字符.八个字母数字显示元件91所形成的字符可以再现个性化信息项目，比如序列号或名字.
天线结构92和集成电路93可以形成RFID应答器，其中集成电路93可以提供用于启动逻辑开关系统94的逻辑信息。
天线结构92可以采用衍射光学可变器件的形式，即，衍射图案可以成形在天线结构92的表面上。这样，不仅可以提供很难模仿的安全特征，还可以实现天线结构92的功能改进。更具体地讲，所加的表面结构可显著地增大天线结构的有效表面面积，并由此改善天线结构92的电学性质。
可以用具有衍射结构的膜层来涂敷集成电路93，该膜层形成了光学可变器件。在这种情况下，嵌入在天线结构92中的电路93可以具有不可观察到的表面结构。然而，它也可以从天线结构92中以可见的方式凸显出来，并且与之一起产生有趣的光学效果，例如，其形式是在全息图或
Figure G2005800420967D00101
前面的标识。
从图10和图11中可以看到，字母数字显示元件91是由单个显示元件91a所构成的，其上电极在各种情况下都通过电线路91l而连接到逻辑开关系统94。在这种情况下，显示元件91可以像图2截面所示的显示元件那样，即，单个显示元件91a具有微去金属化区域91d或具有横向结构化透明电极，这就能够看到排列在其下面的聚合物显示层。单个显示元件91a被金属电极层91m环绕着。在图9所示实施方式中，显示元件91的电极层91m彼此划定界线。然而，它们形成了共同的闭合区域。电极层91m可以具有用于形成光学可变器件的衍射表面结构，例如，用于产生彩色效果的衍射光栅，这些彩色效果取决于观察角度和环境光的光谱成份。
现在，图12-15示出了具有本发明的显示元件的安全凭证的另一个实施方式。
在本实施方式中，安全凭证120的真实性可以通过特殊的高频发射器121、无线电话122或无线电钥匙123来检查。为此，排列在安全凭证120上的是RFID应答器(未示出)，它可以采用膜元件的形式。这种膜元件可以隐藏在数值印记124的下面。在所示实施方式中，不可激活的数值印记124n排列在可激活的数值印记124a的旁边。
可激活的数值印记124a(从图14和15中可以特别清晰地看到)采用聚合物显示元件的形式。各个数字142由微去金属化或微金属化区域144d(参照图15)构成，这些区域144d以光栅形式排列并且能够看到其下面以对应关系排列的显示区域，这些显示区域像上文参照图2所描述的那样可以具有发光和/或色变的性质。这也可以包括连续的面显示区域。这些区域144d排列在金属电极层144中，金属电极层144可以具有反射特性。然而，电极层144也可以具有微结构化的衍射表面结构，例如，具有衍射光栅。这样，当改变照明或改变观察方向时，电极层144可以产生变化的彩色效果。
如果安全凭证120的RFID应答器移至高频场中，则可激活的数值印记124a会点亮。可由无线电话122或无线电钥匙123的无线电辐射激活的数值印记特别适用于钞票或带数值的单据，因为任何人都可以很容易地执行这种真实性检查。
上述数值印记可以采用膜元件的形式，其中集成了所有已描述的元件。这种膜元件无法用常规复印工艺来仿制。它也无法由那些可能买到的单个元件放在一起而制成。本发明的安全元件可以采用在10-100微米厚的载体膜上所产生的膜体的形式。该载体膜最好是单轴或双轴拉伸的，以便使载体膜在接下来的生产工艺中的扭曲最小化。
通过印刷工艺，可以将形式为0.5-5微米(最好是1-2微米)厚的复制漆来涂敷形式为光学可变器件的层，在热和压力的作用下将衍射结构复制到该复制漆层中.为此，通过凹板印刷滚筒，将热塑性复制漆层覆盖整个表面区域上，干燥，然后通过冲压模印上衍射结构.
另外，可辐射交联的漆有可能作为复制漆来涂敷，然后有可能通过UV复制将衍射结构定形到该复制漆层中。
电极层或其它导电层(比如导体轨迹)可以由非常薄的金属层构成，例如金或银。这些层可能已通过印刷或汽相沉积工艺以结构化的形式涂敷过了。然而，电极层也可以涂敷在整个表面区域上，然后通过正/负蚀刻或激光消融按区域方式再次去除电极层。这样，有可能产生微去金属化区域，这种区域能够看到其下面所设置的聚合物显示层。作为金属层的替代，也可以提供由透明导电材料构成的层，例如氧化铟锡或导电聚合物，最好是聚苯胺或聚吡咯。
例如，可以加上聚合物显示元件，它包括位于两个电极层之间的约150纳米厚的电致发光材料，比如PPV或聚(9，9’-二辛基芴(dioctylfluorene))。
本发明的显示和/或安全元件的所有元件都可以组合在膜元件中，并且可以适用于普通的生产工艺中，这一事实提供了高水平对准精确度以及能使电极、导体轨迹等采用光学可变器件的形式的手段。光学可变元件也可以采用内层的形式，例如，其形式为带有衍射电极结构的电极层，该衍射电极结构排列在光学功能层的下面。该光学功能层可以是光会聚和/或光散射宏观结构，例如，其形式为微透镜阵列和/或微棱镜阵列。

Claims (19)

1.一种具有至少一个光学可变器件的安全元件，
其特征在于，
所述光学可变器件的至少一层的形式是电子元件的电有源层(13，14)和/或电子电路的电有源层(13，14)，其中所述电有源层的形式是光学显示元件(10，20，30，40，50，60)的电极。
2.如权利要求1所述的安全元件，其特征在于，所述电有源层的形式是电感器的电有源层和/或电容器的电有源层。
3.如权利要求1所述的安全元件，其特征在于，所述电有源层的形式是电振荡器电路的电有源层。
4.如权利要求3所述的安全元件，其特征在于，所述电有源层的表面结构影响所述振荡器电路的谐振频率和/或质量。
5.如权利要求1所述的安全元件，其特征在于，所述电有源层的形式是RF天线(74a)的电有源层。
6.如权利要求1所述的安全元件，其特征在于，所述电有源层的形式是电连接元件(911)。
7.如前述权利要求1-6中的任一项所述的安全元件，其特征在于，所述电有源层的形式是微去金属化层或微金属化层。
8.如前述权利要求1-6中的任一项所述的安全元件，其特征在于，所述电有源层的形式是金属层。
9.如前述权利要求1-6中的任一项所述的安全元件，其特征在于，所述电有源层的形式是非金属层。
10.如前述权利要求1-6中的任一项所述的安全元件，其特征在于，所述电有源层的形式是有机层。
11.如前述权利要求1-6中的任一项所述的安全元件，其特征在于，所述电有源层形成所述光学可变器件的子区域。
12.如前述权利要求1-6中的任一项所述的安全元件，其特征在于，所述电有源层被至少一个覆盖层(15，46，56，66)覆盖。
13.如权利要求12所述的安全元件，其特征在于，所述覆盖层是具有另一种光学可变器件的衍射表面凹凸的透明层。
14.如权利要求12所述的安全元件，其特征在于，所述覆盖层具有微透镜和/或微棱镜阵列。
15.如权利要求12所述的安全元件，其特征在于，所述覆盖层是其中形成有宏观结构的透明层。
16.如权利要求12所述的安全元件，其特征在于，所述覆盖层(15，46，56，66)排列在所述光学显示元件(10，20，30，40，50，60)的上面。
17.如权利要求12所述的安全元件，其特征在于，所述覆盖层排列在所述光学显示元件(10，20，30，40，50，60)的下面。
18.如权利要求15所述的安全元件，其特征在于，所述覆盖层使所述光学显示元件(10，20，30，40，50，60)所发出的图像作为立体图像而呈现给观察者。
19.如权利要求16所述的安全元件，其特征在于，所述覆盖层使所述光学显示元件(10，20，30，40，50，60)所发出的图像作为立体图像而呈现给观察者。
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