CN101005959A - 用于生产平版印刷印版的方法 - Google Patents

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Abstract

用于对成像的平版印刷印版进行后处理的方法，包括(a)提供平版印刷印版，其在平版印刷基材上包含成像区和非成像区；(b)使步骤(a)的平版印刷印版与包含亲水性聚合物的溶液接触，所述亲水性聚合物包含衍生自以下化合物的结构单元：(i)包含聚环氧烷链和至少一种可自由基聚合的结构单元的化合物，和(ii)能与(i)中的所述可自由基聚合的结构单元共聚并且进一步含有至少一种pKs＜5的酸性官能团的单体，其中所述酸性官能团可以以游离酸基团或盐的形式存在；(c)干燥。

Description

用于生产平版印刷印版的方法
本发明涉及用于生产平版印刷印版的方法，特别涉及用亲水有机聚合物处理显影的平版印刷印版的方法。本发明进一步涉及根据这种方法制备的平版印刷印版。
平版印刷技术领域基于油和水的不混溶性，其中含油材料或者印刷油墨优选由成像区接受，水或者润湿液优选由非成像区接受。当用水润湿适当制备的表面并且施加印刷油墨时，背景或非成像区接受水而排斥印刷油墨，而成像区接受印刷油墨而排斥水。随后，成像区中的印刷油墨被转印到将在其上形成图像的材料表面上，所述材料比如纸张和织物等。但是，一般而言，印刷油墨首先被转印到中间材料(被称作橡皮布)上，然后其进而将印刷油墨转印到将在其上形成图像的材料表面上；这种技术被称作胶印。
常用类型的平版印刷印版前体(在上下文中，术语“印版前体”是指曝光和显影前的涂布的印版)包括施加在(通常基于铝的)基材上的辐射敏感涂层。如果涂层对辐射做出反应，从而使曝光的部分变得可以溶解以至于在显影过程中被去除，则所述印版被称作阳片(positive working)。另一方面，如果该涂层的曝光部分被辐射硬化以至于在显影过程中保留在基材上，则该印版被称作阴片(negativeworking)。在这两种情况下，剩下的成像区接受印刷油墨，即具有亲油性，而非成像区(背景)接受水，即具有亲水性。成像区和非成像区的差异出现在曝光期间。通常，使用pH值通常为9-13.5的含水碱性显影液来除去涂层多余的可溶部分。
通常，在施加辐射敏感层之前，在基材特别是带有氧化铝层的铝基材上提供亲水性保护层(也称为“中间层”)。该中间层可施加在基材的一或两侧上；根据施加的数量，所述基材的一或两侧的表面可以被完全覆盖或仅仅部分覆盖。该亲水性层可以例如改进由氧化铝层所引起的平版印刷印版的(非印刷)背景区域对水的接受性，或在这些区域中对印刷油墨的排斥性，从而使印刷期间获得的背景区域尽可能干净。中间层进一步用于保护金属基材，抵御由强碱性显影剂所引起的腐蚀，并抵御例如用于辐射敏感层的染料发生的永久性吸附(这被称为“沾污”)。
在铝基材的情况下，中间层还可以保护氧化层，以抵御强碱性显影剂(pH值＞11.5)的攻击，不然这种攻击会导致显影剂浴发生淤泥化(sludging)。中间层的另一个目的是提供良好的妥协，在一方面使该辐射敏感层被良好地粘合(这对于长印刷行程而言是重要的)，而在另一方面使得可以在显影期间无残留物地除去背景区域中的辐射敏感层。
文献DE 25 327 69 A1公开了一种具有硅酸钠中间层的基于负性重氮树脂的平版印刷印版前体。虽然成像区对中间层的粘合是良好的，但是已经发现这种印版的光敏性极大地受到在高温和高湿下贮存的影响。在US 4,153,461中建议在平版印刷印版前体中使用聚乙烯基膦酸或其盐以及带有丙烯酸单体的乙烯基膦酸共聚物作为中间层。
为了获得干净的印刷图像，必须使成像区(即以成像方式留下的涂层)良好地接受印刷油墨，而非成像区(即以成像方式曝光的基材如铝基材)不接受印刷油墨。为保护以成像方式曝光的基材如铝基材，以抵御指印、形成氧化铝和腐蚀、以及抵御机械损伤如将印版装在印刷机上时导致的刮痕，即为了维持，也许改进非成像区的亲水性，对显影的印版通常进行“涂胶”(gumming)处理(也称为“整饰”)。在贮存以前或在印刷机长期停工以前进行涂胶保证了该非成像区保留其亲水性。在印刷期间，涂胶必须能被所用的润湿溶液迅速除去，以便成像区能立即接受墨水。涂胶溶液是早已知晓的，其常常基于阿拉伯树胶(例如DE 29 26 645 A1)。
US 4,880,555公开了一种用于平版印刷印版的“整饰剂”，其包含通过酶促水解多元醇、烃、长链醇和激励的醇硫酸盐的混合物、取代的苯氧基聚氧乙烯乙醇和乙醇胺而制备的麦芽糖糊精。
US 4,033,919公开了一种涂胶水溶液，其包含的聚合物含有衍生自丙烯酰胺的单元和1-25重量％带有羧基的单元。该溶液进一步包含酸性物质如膦酸、柠檬酸和酒石酸。文献US 4,143,021和DE 25 045 94 A1也公开了一种涂胶水溶液，其包含基于聚丙烯酰胺的聚合物或共聚物。
文献EP 0 985 546 A1建议在用于平版印刷印版的涂胶溶液中或在润湿溶液中使用下式的化合物：
Figure A20058002802200081
其中，a和b代表1-50的整数，R是8-22个碳原子的烷基。
EP 1 260 866 A2指出，有可能冲冼掉用于显影平版印刷印版的显影剂并同时进行涂胶。为此，使印版与冲洗水接触，冲洗水包含：(a)至少一种成膜的水溶性聚合物和(b)至少一种膦酸衍生物：
Figure A20058002802200082
EP0 943 967 A2和DE 29 25 363 A1公开了乳剂型涂胶溶液。
本发明的目的是提供一种用于制备平版印刷印版和用于对(显影的)平版印刷印版进行后处理的方法，从而增加成像区对基材的粘合，使得在印刷期间灵敏度更高而网点增益更低，不会干扰印刷油墨和水之间的微妙平衡，不会导致诸如在印刷机重启动时产生色调变化(toning)的问题。
这个目的通过这样的方法实现，其中在以成像方式曝光和显影后施加一种溶液，该溶液包含一种亲水聚合物，该亲水聚合物包含衍生自以下化合物的结构单元：
(i)包含聚环氧烷链和至少一种可自由基聚合的结构单元的化合物，和
(ii)能与(i)中的所述可自由基聚合的结构单元共聚并且进一步含有至少一种pKs＜5的酸性官能团的单体，其中所述酸性官能团可以以游离酸基团或盐的形式存在。
所述目的也通过一种备选方法实现，其中将亲油性成像区以成像方式施加在平版印刷基材上，随后施加上述溶液。
在本发明中所用的术语“印版前体”是指未成像的印版(即没有以成像方式曝光和显影的印版)，从其可以通过以成像方式曝光并任选显影而制备出印版。用于本发明的术语“印版”是指由印版前体产生的成像的印版(也称为“印刷版”)。
图1和2图解说明了作为色调值的函数的校准印版的网点增益，其由对比实施例1(图1，中间层：PVPA，用涂胶溶液850 S整饰)和实施例18(图2；无中间层；用聚合物S4d进行后处理；涂胶)测得。图3和4说明了作为色调值的函数的网点增益，其由实施例45(图3)和对比实施例4(图4)测得。
用于根据本发明对平版印刷印版进行后处理的亲水性聚合物包含衍生自以下化合物的结构单元：
(i)包含聚环氧烷链和至少一种可自由基聚合的结构单元的化合物，和
(ii)能与(i)中的所述的可自由基聚合的结构单元共聚并且进一步含有至少一种pKs＜5的酸性官能团的单体，其中所述酸性官能团可以以游离酸基团或盐的形式存在。
任选地，所述聚合物还可以包括衍生自不同于单体(ii)的共聚单体(iii)的结构单元，其优选具有亲水性，并包含至少一种可自由基聚合的基团。借助于共聚单体(iii)，可以调整物理性能如在H2O中的溶解度。
所述化合物(i)优选包括聚环氧乙烷和/或聚环氧丙烷链；在本发明的范围内，前缀“聚”也包括低聚物。
化合物(i)的所述可自由基聚合的结构单元优选衍生自丙烯酸和/或甲基丙烯酸。术语“(甲基)丙烯酸”包括丙烯酸和甲基丙烯酸两者；类似地，“(甲基)丙烯酸酯”的情况也如此。
化合物(i)的适宜的例子包括：
聚甲基丙烯酸乙二醇酯，
聚丙烯酸乙二醇酯，
聚甲基丙烯酸丙二醇酯，
聚丙烯酸丙二醇酯，
丙烯酸或甲基丙烯酸与环氧乙烷和环氧丙烷的嵌段共聚物形成的单酯，
2，4-甲苯二异氰酸酯封端的聚乙二醇、聚丙二醇、聚乙二醇和聚丙二醇的嵌段共聚物或统计聚(乙二醇-丙二醇)共聚物与丙烯酸羟烷基酯或甲基丙烯酸羟烷基酯(例如丙烯酸羟乙酯或甲基丙烯酸羟乙酯)或烯丙醇的反应产物，
丙烯酸异氰酸根合烷基酯或甲基丙烯酸异氰酸根合烷基酯(特别是丙烯酸异氰酸根合乙基酯或甲基丙烯酸异氰酸根合乙基酯)与聚乙二醇、聚丙二醇、聚乙二醇和聚丙二醇的嵌段共聚物或统计聚(乙二醇-丙二醇)共聚物的单反应产物，
聚丙烯酸烷二醇酯和聚甲基丙烯酸烷二醇酯(特别是聚丙烯酸乙二醇酯和聚甲基丙烯酸乙二醇酯)的酯或醚衍生物。
化合物(i)的尤其优选的例子包括：聚丙烯酸乙二醇酯、聚甲基丙烯酸乙二醇酯、聚丙烯酸乙二醇酯的烷基醚、聚甲基丙烯酸乙二醇酯的烷基醚、聚丙烯酸丙二醇酯、聚甲基丙烯酸丙二醇酯和聚(甲基)丙烯酸乙二醇酯磷酸单酯。
除可自由基聚合的基团之外，单体(ii)包括至少一种pKs＜5的酸性官能团。该至少一种酸性官能团优选选自羧基、磺酸基、膦酸基、磷酸基和其混合物。所述酸性官能团可以以游离酸基团或盐的形式存在。
单体(ii)的适宜例子包括：丙烯酸、甲基丙烯酸、巴豆酸、用C1-C6烷醇开环的马来酸酐、乙烯基苯甲酸、乙烯基膦酸、乙烯基磺酸、乙烯基苯磺酸、磷酸与(甲基)丙烯酸羟烷基酯(特别是甲基丙烯酸羟乙酯和丙烯酸羟乙基酯)或烯丙醇形成的单酯，和磺丙基(甲基)丙烯酰基乙基二烷基铵氢氧化物。
尤其优选的单体(ii)是：(甲基)丙烯酸、乙烯基膦酸、磷酸与(甲基)丙烯酸羟乙酯形成的单酯、和(甲基)丙烯酰基二甲基-(3-磺丙基)-氢氧化铵。
任选的可自由基聚合共聚单体(iii)优选通过均聚形成亲水性均聚物。共聚单体(iii)的适宜例子包括：(甲基)丙烯酰胺、N-乙烯基吡咯烷酮、(甲基)丙烯酸羟烷基酯(特别是丙烯酸羟乙酯和甲基丙烯酸羟乙酯)；烯丙醇和N-乙烯基咪唑。
不具体限制化合物(i)、(ii)和任选的(iii)的摩尔比。基于所有的结构单元，优选衍生自(i)的结构单元占所述亲水聚合物的5-95重量％，尤其优选20-80重量％。
基于所有的结构单元，优选衍生自(ii)的结构单元占所述亲水聚合物的5-95重量％，尤其优选20-80重量％。
基于所有的结构单元，优选衍生自(iii)的任选的结构单元占所述亲水聚合物的0-50重量％，尤其优选0-30重量％。
化合物(i)、单体(ii)和任选的共聚单体(iii)的共聚优选在溶液中进行。为此可以使用有机溶剂或溶剂混合物、水或水与可溶混于水的有机溶剂的混合物。优选起始组分(i)、(ii)和任选的(iii)以及产物都可溶于其中。
根据一个优选实施方案，使用具有可以忽略不计的蒸气压(即蒸气压不能通过市售渗压计来测量)的溶剂(这样的溶剂也称为“未加工溶剂(green solvent)”)，如离子液体；有关“未加工溶剂”的更多信息，参见“Ionic Liquids as Green Solvents：Progress andProspects”，Robin D.Rogers和Kenneth R.Seddon，ACS SymposiumSeries No.856，以及“Ionic Liquids in Synthesis”，Peter Wasserscheid和Thomas Welton，Wiley-VCH 2003。
已发现通过在具有可忽略不计的蒸气压的溶剂(例如离子液体)中聚合而制备的聚合物的性质不同于通过在具有可测量蒸气压的溶剂中进行溶剂聚合同样的单体而制备的聚合物。根据一个实施方案，通过在离子液体中聚合而制备的具有如上定义的结构单元的聚合物被用作亲水性聚合物。对于聚合物在本发明的平版印刷印版中的应用，不必将所述离子液体从所述聚合物中完全除去。也可以不用离子液体而制备所述亲水性聚合物，随后将所得到的聚合物与离子液体混合。
例如以下离子液体可用于聚合：
通式(A)的咪唑盐：
Figure A20058002802200111
其中X-例如选自BF4 -、PF6 -、二甲基磷酸根、甲苯磺酸根、甲基硫酸根和
Figure A20058002802200112
(n≥1，Z＝H或烷基)，
R1和R3例如选自烷基取代基和
Figure A20058002802200121
(n≥1，Z＝H或烷基)
R2、R4和R5独立地例如选自烷基取代基、
Figure A20058002802200122
（n≥1，Z＝H或烷基)
和H，
通式(B)的吡啶盐：
Figure A20058002802200123
其中X-例如选自BF4 -、PF6 -、二甲基磷酸根、甲苯磺酸根、甲基硫酸根和
Figure A20058002802200124
(n≥1，Z＝H或烷基)，
R1例如选自烷基取代基和
Figure A20058002802200125
(n≥1，Z＝H或烷基)和
R2、R3、R4、R5和R6独立地例如选自烷基取代基、
Figure A20058002802200126
(n≥1，Z＝H或烷基)
和H，
通式(C)的磷盐：
其中X-例如选自BF4 -、PF6 -、二甲基磷酸根、甲苯磺酸根、甲基硫酸根和
Figure A20058002802200132
(n≥1，Z＝H或烷基)，
R1、R2、R3和R4独立地例如选自烷基取代基和
Figure A20058002802200133
(n≥1，Z＝H或烷基)和
以及通式(D)的铵盐：
Figure A20058002802200134
其中X-例如选自BF4 -、PF6 -、二甲基磷酸根、甲苯磺酸根、甲基硫酸根和
(n≥1，Z＝H或烷基)
R1、R2、R3和R4独立地例如选自烷基取代基和
Figure A20058002802200136
(n≥1，Z＝H或烷基)。
所述平版印刷基材是一种尺寸稳定的印版或箔形材料。优选用作尺寸稳定的印版或箔形材料的材料已用作印刷物的基材。这种基材的例子包括纸、涂有塑料材料(如聚乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯)的纸、金属板或箔例如铝(包括铝合金)、锌和铜板、塑料膜，其由例如二乙酸纤维素、三乙酸纤维素、丙酸纤维素、乙酸纤维素、乙酸丁酸纤维素、硝酸纤维素、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚乙烯、聚苯乙烯、聚丙烯、聚碳酸酯和聚乙酸乙烯酯而制备、以及由纸或塑料膜与上述金属之一制备的层压材料、或通过汽相沉积金属化的纸/塑料膜。在这些基材中，尤其优选铝板或铝箔，因为其具有高程度的尺寸稳定性并且便宜。此外，可以使用复合膜，其中铝箔被层压到塑料膜例如聚对苯二甲酸乙二醇酯膜或纸或通过汽相沉积已经在其上沉积有铝的塑料膜之上。
金属基材特别是铝基材优选进行选自磨版(例如通过在干燥状态下进行刷磨(brushing)或用磨料悬浮体进行刷磨，或电气化学磨版，例如借助于盐酸或HNO3来进行)和阳极化(例如在硫酸或磷酸中进行)的至少一种处理。
平版印刷基材还可以包括一个普通的中间层；然而这在本发明中不是必须的。
上述基材预处理的细节是所属技术领域的专业人员已知的。
优选厚0.1-0.7mm，更优选0.15-0.5mm的铝箔是尤其优选的基材。优选对所述铝箔进行磨版(优选电化学磨版)，从而使平均粗糙度为0.2-1μm，尤其优选0.3-0.8μm。
根据一个尤其优选的实施方案，将磨版后的铝箔再进行阳极化。所得氧化铝的层重优选是1.5-5g/m2，尤其优选2-4g/m2。
根据本发明对平版印刷印版的后处理适用于各种平版印刷印版，即同时适用于由阳片前体产生的印版和由阴片前体产生的印版，其中所述印版前体可以是UV/VIS敏感的或者是热敏的(如IR敏感的)。所述前体可以是单层前体或者具有多层结构的前体。
所述辐射敏感涂层可以例如是：基于负重氮树脂的阴片UV敏感涂层，尤其如EP 0 752 430 B1所述；对约405nm的辐射敏感的阴片光聚合物层(参见例如DE 103 07 451.1)；对光谱可见区的辐射敏感的阴片光聚合物体系(例如EP 0684522 B1)；或基于自由基聚合的阴片IR敏感层(例如DE 199 06 823 C2)。
此外，所述辐射敏感涂层可以是基于醌二叠氮化物和线型酚醛清漆的阳片UV敏感层，如US 4,594,306所述；或基于线型酚醛清漆和IR染料的混合物的阳片IR敏感层(也参见EP 0 887 182 B1和EP 1 101607 A1)。
此外，用于生产印版的所述印版前体可以是阴片单层IR敏感元件，其中通过IR辐照使辐射敏感层不溶于含水碱性显影剂或不能透过含水碱性显影剂，优选其包含(i)至少一种在加热时形成酸的化合物(在下文中也被称为“潜布朗斯台德酸”)，和
(ii)通过酸(在下文中也被称为“交联剂”)可交联的组分或其混合物，和任选的
(iii)粘合剂树脂或其混合物。
这种体系例如描述在EP 0 625 728 B1和EP 0 938 413 B1中。
阳片双层元件也可以用作印版前体，其包含：在基材亲水性表面上的可溶于含水碱性显影剂中的第一层，其溶解度不因IR辐照而变化；以及在该层顶部上的不溶于含水碱性显影剂中的顶层，其在IR辐照时，可溶于所述显影剂或可透过所述显影剂。
已知的原则可用于所述顶层：
(a)使用不溶于强碱性含水显影剂(pH＞11)的聚合物，其通过IR辐照可溶于所述显影剂或可透过所述显影剂；这种体系例如描述在US 6,352,812中。
(b)使用可溶于强碱性含水显影剂(pH＞11)的聚合物，通过同时存在溶解度抑制剂使其溶解度大幅度降低，以致于该层在显影条件下不可溶或不可渗透；聚合物和抑制剂之间的相互作用通过IR辐射而削弱，削弱程度使得该层的受照射(受热)区域可溶于所述显影剂或可透过所述显影剂。这种体系例如描述在US 6,352,811和US 6,358,669中。聚合物和溶解度抑制剂不必是两种分开的化合物，而可以使用同时具有溶解度抑制作用的聚合物，例如官能化树脂，如US2002/0,150,833A1、US6,320,018B和US6,537,735B所述，例如官能化的线型酚醛清漆。
(c)使用不溶于pH＜11(但在pH＞11时可溶)的含水碱性显影剂的聚合物，其在IR辐照时变成可溶于pH＜11的显影剂，并且将受过辐照的元件用pH＜11的碱性显影剂进行显影。这种体系例如描述在WO 02/14071中。
根据本发明的一个实施方案，根据一种方法制备了一种平版印刷印版，所述方法包括：
(a)提供平版印刷基材，
(b)在所述基材上施加至少一种辐射敏感组合物并干燥，
(c)以成像方式辐照在步骤(b)获得的平版印刷印版前体，
(d)借助于显影剂溶液从以成像方式辐照的前体上除去非成像区，
(e)用如上所述的亲水性聚合物的溶液处理所述显影的印版。
任选地，在步骤(c)获得的以成像方式辐照的平版印刷印版前体在用所述显影剂处理前可以被加热。
借助于常规方法如旋涂、浸涂、喷涂和刮涂，可将所述辐射敏感组合物施加到基材的表面上。可以在所述基材的两侧上施加所述辐射敏感组合物；然而优选仅在基材的一侧上施加。
所述基材优选不包含中间层；尤其优选没有中间层的磨版并阳极化的铝箔。
取决于用于所述组合物的敏化剂，用UV/VIS辐射(约320-750nm)或IR辐射(750以上-1,600nm，优选750以上-1,350nm)使所述印版前体以成像方式曝光。对于具有UV/VIS辐射的辐照，可使用常规的灯如碳弧灯、汞灯、氙灯和金属卤化物灯、或激光或激光二极管。发射405nm左右(例如405±10nm)的UV辐射的UV激光二极管和在约532nm放射的倍频Nd：YAG激光是特别值得关注的辐射源。适宜的IR辐射源包括例如半导体激光或激光二极管，其优选在750-1,350nm的波长内发射。
取决于所述层是阳片辐射敏感层或是阴片辐射敏感层，曝光或非曝光区域随后用显影剂除去，从而产生印刷用成像区和非印刷用背景区域。优选用碱性含水显影剂作为显影剂；尤其优选pH值为9-13.5的。
根据一个备选实施方案，也可能将印刷用亲油性区域以成像方式施加到所述基材上(例如借助于喷墨方法、热转移方法和调色剂转移方法)，以便不再需要进行成像方式辐照和显影剂。
为后处理本发明的图像化平版印刷印版，要制备亲水性聚合物溶液，基于溶剂优选其浓度为0.01-10重量％，更优选0.05-5重量％，尤其优选0.1-1重量％。然后使用常规涂覆工艺例如浸涂、辊涂、喷涂、刮涂和用窄缝涂布机进行涂覆来施加这种溶液。用于这种工艺的溶剂的温度优选为20-90℃。本发明的后处理还可以在印版显影机中进行。除亲水性聚合物和涂胶试剂之外，所述溶液还可以包含常规添加剂如增稠剂、表面活性剂、杀菌剂、杀真菌剂等等。
用该溶液处理的印版随后被干燥，例如在空气中或借助于热空气干燥机或红外线干燥器。干燥优选在20-120℃，尤其优选20-80℃的温度下进行。
如果希望，在用亲水性聚合物进行后处理之后可以进行常规涂胶方法，例如借助于常规方法(例如辊涂)施加包含阿拉伯树胶的水溶液。
然而，根据备选实施方案，用于后处理的亲水性聚合物的溶液可另外包含阿拉伯树胶或其它涂胶试剂，以便后处理和涂胶可在一个步骤中进行。
在下列实施例中更详细地描述了本发明；然而实施例不以任何方式限制本发明。
制备实施例
1.合成工艺S1(共聚物S1-a到S1-d的制备)
在正丙醇和水的混合物(4∶1体积份)中溶解x1克a1和x2克a2，得到15重量％的溶液。所得溶液用氮气吹扫并加热到70℃。在继续用氮气吹扫并保持反应温度的同时，在70℃加入x3摩尔％偶氮二异丁腈AIBN(基于单体)。2小时后，再次将相同数量的AIBN加到聚合混合物中。在相同反应温度下再搅拌反应混合物10小时，同时继续用氮气吹扫。然后将混合物冷却到室温并蒸掉过量的溶剂。将所得的油状产物加入10倍过量的石油醚中，从而沉淀出非常粘稠的产物。在减压下蒸掉石油醚直到最终产物恒重。最终产物随后在真空中在50℃干燥24小时。借助于差示热分析(DTA)、差示量热器(DSC)、IR-光谱、元素分析和凝胶渗透色谱法(GPC)检验所得的共聚物，并且通过滴定测定酸值。表1总结了用于制备共聚物S1-a到S1-d的离析物及其数量。
表1
  共聚物     a1   x1(g)   a2     x2(g) x3(摩尔％)
  S1-a     AA1)   35   PEGMA3)     15 0.2
  S1-b     AA   15   PEGMA     35 0.2
  S1-c     MAA2)   35   PEGMA     15 0.2
  S1-d     MAA   15   PEGMA     35 0.2
1)丙烯酸
2)甲基丙烯酸
3)Mn＝526克/摩尔的聚甲基丙烯酸乙二醇酯
2.合成工艺S2(共聚物S2-a和S2-b的制备)
将x1克a1和x2克a2溶于甲基乙基酮，得到15重量％的溶液。所得溶液用氮气吹扫并加热到70℃。
在继续用氮气吹扫并保持反应温度的同时，在70℃加入x3摩尔％AIBN(基于单体)。聚合物开始沉淀。2小时后，再次将相同数量的AIBN加到聚合混合物中，并在2小时后，又一次将相同数量的AIBN加到聚合混合物中。在相同反应温度下再搅拌反应混合物10小时，同时继续用氮气吹扫。分离出沉淀的共聚物，用石油醚洗，然后在50℃在真空中干燥24小时。借助于DTA、DSC、IR-光谱、元素分析和GPC检验所得的共聚物，并且通过滴定测定酸值。表2总结了用于制备共聚物S2-a和S2-d的离析物及其数量。
表2
  共聚物     a1     x1(g)   a2     x2(g)   x3(摩尔％)
  S2-a     VPA4)     35   PEGMA     15     0.13
  S2-b     VPA     15   PEGMA     35     0.13
4)乙烯基膦酸
3.合成工艺S3(共聚物S3-a到S3-h的制备)
将x4重量％溶剂A加入反应烧瓶中，用氮气吹扫并加热到70℃。在整个反应时间中连续用氮气吹扫。
将x1克a1、x2克a2和x3摩尔％AIBN(基于单体)溶于溶剂B中，得到50重量％的溶液。将溶液转移到滴液漏斗中，并逐滴缓慢加入反应烧瓶中的溶剂A中。在所有溶液都被加入后，搅拌反应混合物10小时，同时使反应混合物慢慢冷却到室温。在真空中除去过量溶剂。通过重复溶于适宜溶剂并沉淀来纯化产物。该产物随后在真空中在50℃干燥24小时。借助于DTA、DSC、IR-光谱、元素分析、NMR谱和GPC检验所得的共聚物，并且通过滴定测定酸值。
表3总结了用于制备共聚物S3-a到S3-h的离析物及其数量，以及所用的溶剂。
表3
共聚物  a1     x1(g)  a2     x2(g) x3(摩尔％) x4(重量％)  A  B
S3-a  AA     35  PEGMA     15 0.6 85  PROH-W8)  MEK9)
S3-b  AA     15  PEGMA     35 0.6 85  PROH-W  MEK
S3-c  MAA     35  PEGMA     15 0.6 85  PROH-W  MEK
S3-d  MAA     15  PEGMA     35 0.6 85  PROH-W  MEK
S3-e  MEP5)     35  PEGMA     15 0.6 85  PROH-W  PROH-W
S3-f  MPEP6     15  PEGMA     35 0.6 85  PROH-W  PROH-W
S3-g  MEDMSPA7)     35  PEGMA     15 0.6 85  PROH-W  PROH-W
S3-h  MEDMSPA     15  PEGMA     35 0.6 85  PROH-W  PROH-W
5)磷酸甲基丙烯酰基乙基酯
6)磷酸甲基丙烯酰基聚乙二醇酯
7)甲基丙烯酰基乙基二甲基磺丙基-氢氧化铵
8)正丙醇和水的混合物(4∶1体积份)
9)甲基乙基酮
4.合成工艺S4(共聚物S4-a到S4-d的制备)
将x5重量％溶剂A加入反应烧瓶中，用氮气吹扫并加热到70℃。在整个反应时间中连续用氮气吹扫。
将x1克a1、x2克a2和x3摩尔％AIBN(基于单体)溶于溶剂B中，得到50重量％的溶液。将溶液转移到滴液漏斗中，并逐滴缓慢加入反应烧瓶中的溶剂A中。在所有溶液都被加入后，搅拌反应混合物10小时，同时使反应混合物慢慢冷却到室温。在真空中除去过量溶剂。通过重复溶于适宜溶剂并沉淀来纯化产物。
最后，产物在真空中在50℃干燥24小时。借助于IR-光谱、元素分析、NMR谱和GPC检验所得的共聚物，并且通过滴定测定酸值。
表4总结了用于制备共聚物S4-a到S4-h的离析物及其数量，以及所用的溶剂。
表4
共聚物  a1   x1(g)  a2   x2(g)   a3   x3(g) x4(摩尔％)   x5(重量％)  A  B
S4-a  VPA   35  PEGMA   15   -   - 0.6   85  PROH-W  MEK
S4-b  VPA   15  PEGMA   35   -   - 0.6   85  PROH-W  MEK
S4-c  MEDMSPA   35  PEGMA   15   -   - 0.6   85  PROH-W  MEK
S4-d  AA   25  PEGMA   15   AAM   10 0.6   85  PROH-W  MEK
5.合成工艺S5(共聚物S5-a到S5-i的制备)
将由有机阳离子和阴离子组成的x4重量％的离子液体、x1克a1和x2克a2加入反应烧瓶中，用氮气吹扫并加热到70℃。在整个反应时间中连续用氮气吹扫。然后加入x3摩尔％AIBN，以2小时的间隔重复两次。然后连续搅拌10小时。分离出沉淀的共聚物，如果要求则用乙腈洗，然后在50℃在真空中干燥24小时。借助于IR-光谱、元素分析、NMR谱和GPC检验所得的共聚物，并且通过滴定测定酸值。
表5总结了用于制备共聚物S5-a到S5-i的离析物及其数量，以及所用的溶剂。
表5
共聚物   a1   x1(g)  a2     x2(g) x3(摩尔％) x4(重量％)  阳离子 阴离子 亲水性聚合物中的离子液体(重量％)
S5-a   AA   35  PEGMA     15     0.13     85  MBIM10) BF4 -     28
S5-b   AA   35  PEGMA     15     0.13     85  MBIM+ PF6 -     15
S5-c   AA   35  PEGMA     15     0.13     85  MBIM+ (CH3O)2P(O)O-     58
S5-d   MAA   35  PEGMA     15     0.13     85  MBIM+ BF4 -     62
S5-e   MAA   35  PEGMA     15     0.13     85  MBIM+ PF6 -     67
S5-f   MAA   35  PEGMA     15     0.13     85  MBIM+ (CH3O)2P(O)O-     56
S5-g   VPA   35  PEGMA     15     0.13     85  MBIM+ BF4 -     51
S5-h   VPA   35  PEGMA     15     0.13     85  MBIM+ PF6 -     23
S5-i   VPA   35  PEGMA     15     0.13     85  MBIM+ (CH3O)2P(O)O-     15
10)甲基-3-丁基咪唑盐
基材1的制备
(无中间层的基材)
制备进行电化学磨版(用HCl，平均粗糙度为0.6μm)并阳极化的铝箔(氧化物层的重量为3.2克/米2)；没有施加中间层。
基材2的制备
(带有聚乙烯基膦酸中间层的基材)
在50℃下，将进行电化学磨版(用HCl，平均粗糙度为0.6μm)并阳极化的铝箔(氧化物层的重量为3.2克/米2)用1.5克/升聚乙烯基膦酸(PVPA)的水溶液进行后处理10秒钟，从而在铝基材上形成带有15毫克/米2PVPA的中间层。
实施例1-44和对比实施例1-3
(带有UV敏感性光聚合物层的平版印刷印版前体)
将表6所述的UV敏感性滤光涂层溶液施加到表7所列的基材上，并在90℃干燥4分钟。光聚合物层的干层重量为约1.5克/米2。
由此获得的样品通过用聚乙烯醇(水解度为88％)的水溶液涂覆而具有外涂层；在90℃干燥4分钟后，该外涂层的干层重量为约3克/米2。
印版前体用图像设定机(AndromedaA750M，来自Lithotech，装备有在405nm发射的激光二极管(P＝30mW，cw))进行曝光。将具有规定色调值(所有数据被线性化以便约获得希望的色调值)的UGRA灰度标V2.4曝光在上述印版前体上。另外，印版的敏感性使用具有全程曝光的UGRA胶印检验标尺1982来测定。曝光后立即在烘箱中将印版加热2分钟，达到90℃。
然后该曝光和热处理过的印版用pH值为约12并包含作为碱性组分的KOH和聚氧乙烯-2-萘基醚的显影剂溶液处理30秒。
然后使用棉球将显影剂溶液再次在表面上摩擦30秒钟，然后用水漂洗整个印版。该处理后曝光的部分仍然留在印版上。
表6
1.02g 通过聚合470重量份苯乙烯、336重量份甲基丙烯酸甲酯和193重量份甲基丙烯酸而制备的三元共聚物，在丙二醇单甲醚中的30％溶液
0.1g Kayamer PM-2(用1.5摩尔甲基丙烯酸羟乙酯酯化的1摩尔磷酸)
0.2 巯基-3-三唑
3.92g 通过使Desmodur N 100与丙烯酸羟乙酯和三丙烯酸季戊四醇酯反应而制备的脲烷丙烯酸酯的80％甲基乙基酮溶液；双键量：当所有异氰酸酯基完全与含羟基的丙烯酸酯反应时，每100克有0.5个双键
0.45g 双三羟甲基丙烷四丙烯酸酯
1.25g 在丙二醇单甲醚中的分散体，含有7.25重量％铜酞菁和7.25重量％聚乙烯醇缩醛粘合剂，该粘合剂含有39.9摩尔％乙烯醇基团、1.2摩尔％乙酸乙烯酯基团、15.4摩尔％衍生自乙醛的缩醛基团、36.1摩尔％衍生自丁醛的缩醛基团和7.4摩尔％衍生自3-甲酰基苯甲酸的缩醛基团
0.25g  2-苯基-4-(2-氯苯基)-5-(4-二乙基氨基苯基)-唑
0175g  2，2-二(2-氯苯基)-4，5，4’，5’-四苯基-2’H-[1，2’]-联咪唑基
20ml 丙二醇单甲醚
16ml 甲醇
25ml 甲基乙基酮
如下进行实施例1-27：
显影的印版根据本发明用聚合物溶液进行处理；为此，使用由相应的聚合物溶液润湿的棉球小心地摩擦整个印版，即成像区和非成像区，然后在室温下干燥。然后使用标准工艺施加含水涂胶溶液(0.5％H3PO4，6％阿拉伯树胶)。有关用于各个实施例的聚合物溶液和涂胶的基材、聚合物、溶剂的详细内容以及有关敏感性、相对网点增益和色调变化的结果可以参见表7。聚合物溶液包含2重量％的各种聚合物。
如下进行实施例28-44：
用还包含聚合物溶液的涂胶溶液处理该显影的印版，也就是说，在单个步骤中进行后处理和涂胶。
细节也可以参见表7。
相对网点增益和敏感性如下测定：
将印版装在单张纸胶印机上并用磨料印刷油墨(来自SunChemical的Offset S7184，包含10％CaCO3)来印刷。
术语“网点增益”描述了在印刷期间线性化的印版的色调值的变化。线性化是指将数字化印版曝光，使得大致获得预定的一组色调值(STV)。可到达的测定值是色调值(TV)。它们以不同的量级(在式1中的指数i)曝光在线性化的印版上，导致显影后图像的色调值有区别，这取决于对所述量级的选择。因此，获得了印前色调值(TVB)的系列数据。将线性化的、显影的和根据本发明后处理过的印版用于印刷机中，印版10,000次，净化然后再次进行色调值检测，其给出印后色调值(TVA)。使用方程式(1)计算网点增益。
Figure A20058002802200231
该网点增益可以是正或负的。对于实际印刷应用而言人们所关注的仅是其绝对值，其在理想情况下应趋向于零。
换句话说，网点增益越低，则印版越好。
对比实施例1的印版(即在印刷期间在不同色调值具有严重网点增益的印版)用作参照物。使用以下方程式(2)计算相对网点增益：
Figure A20058002802200241
图1和2图解说明了由对比实施例1和实施例18所获得的网点增益。
图1和2显示了印前和在印刷机上运行10,000次(即10,000次拷贝)后在不同色调值的网点增益。
图1(对比实施例1)中的相对网点增益假设为100％；则图2(实施例18)中的相对网点增益计算为5％，这是可忽略不计的。
对实施例1-44的印版前体还进行了储藏稳定性实验；为此将所述印版前体在88℃储藏了90分钟。发现它们在敏感性和印刷性能方面与新制印版没有区别。
表7
实施例   基材 后处理1) 溶剂2) 整饰3)     敏感性4) 相对网点增益(相对区域)5)和其它印刷性能
对比实施例1   基材2 无 - 涂胶溶液     4 100，无油墨接收问题，无色调变化问题；低敏感性
对比实施例2   基材1 PVPA 水 涂胶溶液     6 在图像区域的油墨接收差，在背景区域有色调变化
对比实施例3   基材1 无 - 涂胶溶液     6 有色调变化
1   基材1 S1a PROH-W 涂胶溶液     6 5，无油墨接收问题，无色调变化
2   基材1 S1b PROH-W 涂胶溶液     6 4，无油墨接收问题，无色调变化
3   基材1 S1c PROH-W 涂胶溶液     6 6，无油墨接收问题，无色调变化
4   基材1 S1d PROH-W 涂胶溶液     6 5，无油墨接收问题，无色调变化
5   基材1 S2a 水 涂胶溶液     6 3，无油墨接收问题，无色调变化
6   基材1 S2b 水 涂胶溶液     6 4，无油墨接收问题，无色调变化
7   基材1 S3a PROH-W 涂胶溶液     6 6，无油墨接收问题，无色调变化
8   基材1 S3b PROH-W 涂胶溶液     6 5，无油墨接收问题，无色调变化
9   基材1 S3c PROH-W 涂胶溶液     6 4，无油墨接收问题，无色调变化
10   基材1 S3d PROH-W 涂胶溶液     6 7，无油墨接收问题，无色调变化
11   基材1 S3e 水 涂胶溶液     6 4，无油墨接收问题，无色调变化
12   基材1 S3f 水 涂胶溶液     6 3，无油墨接收问题，无色调变化
13   基材1 S3g PROH-W 涂胶溶液     6 6，无油墨接收问题，无色调变化
14   基材1 S3h PROH-W 涂胶溶液     6 4，无油墨接收问题，无色调变化
15   基材1 S4a 水 涂胶溶液     6 8，无油墨接收问题，无色调变化
16   基材1 S4b 水 涂胶溶液     6 6，无油墨接收问题，无色调变化
17   基材1 S4c PROH-W 涂胶溶液     6 8，无油墨接收问题，无色调变化
18   基材1 S4d 水 涂胶溶液     6 5，无油墨接收问题，无色调变化
实施例   基材  后处理1) 溶剂2)  整饰3)   敏感性4) 相对网点增益(相对区域)5)和其它印刷性能
19   基材1  S5a PROH-W  涂胶溶液     6 4，无油墨接收问题，无色调变化
20   基材1  S5b PROH-W  涂胶溶液     6 7，无油墨接收问题，无色调变化
21   基材1  S5c PROH-W  涂胶溶液     6 5，无油墨接收问题，无色调变化
22   基材1  S5d PROH-W  涂胶溶液     6 4，无油墨接收问题，无色调变化
23   基材1  S5e PROH-W  涂胶溶液     6 6，无油墨接收问题，无色调变化
24   基材1  S5f PROH-W  涂胶溶液     6 7，无油墨接收问题，无色调变化
25   基材1  S5g 水  涂胶溶液     6 7，无油墨接收问题，无色调变化
26   基材1  S5h PROH-W  涂胶溶液     6 5，无油墨接收问题，无色调变化
27   基材1  S5i PROH-W  涂胶溶液     6 6，无油墨接收问题，无色调变化
28   基材1  无 PROH-W  S1a+涂胶溶液     6 11，无油墨接收问题，无色调变化
29   基材1  无 PROH-W  S1b+涂胶溶液     6 10，无油墨接收问题，无色调变化
30   基材1  无 PROH-W  S1c+涂胶溶液     6 12，无油墨接收问题，无色调变化
31   基材1  无 PROH-W  S1d+涂胶溶液     6 13，无油墨接收问题，无色调变化
32   基材1  无 水  S2a+涂胶溶液     6 10，无油墨接收问题，无色调变化
33   基材1  无 PROH-W  S3a+涂胶溶液     6 9，无油墨接收问题，无色调变化
34   基材1  无 PROH-W  S3b+涂胶溶液     6 6，无油墨接收问题，无色调变化
35   基材1  无 PROH-W  S3c+涂胶溶液     6 12，无油墨接收问题，无色调变化
36   基材1  无 PROH-W  S3d+涂胶溶液     6 11，无油墨接收问题，无色调变化
37   基材1  无 水  S3e+涂胶溶液     6 10，无油墨接收问题，无色调变化
38   基材1  无 水  S3f+涂胶溶液     6 9，无油墨接收问题，无色调变化
39   基材1  无 PROH  S3g+涂胶溶液     6 8，无油墨接收问题，无色调变化
实施例   基材 后处理1) 溶剂2)  整饰3)  敏感性4) 相对网点增益(相对区域)5)和其它印刷性能
40   基材1 无 PROH  S3h+涂胶溶液     6 13，无油墨接收问题，无色调变化
41   基材1 无 PROH  S4a+涂胶溶液     6 12，无油墨接收问题，无色调变化
42   基材1 无 PROH  S4b+涂胶溶液     6 14，无油墨接收问题，无色调变化
43   基材1 无 PROH  S4c+涂胶溶液     6 14，无油墨接收问题，无色调变化
44   基材1 无 PROH  S4d+涂胶溶液     6 12，无油墨接收问题，无色调变化
表7的脚注
1)“后处理”是指显影的印版用2重量％的所列聚合物的溶液进行处理。
2)所列溶剂用于所述后处理所用的溶液。
3)“整饰”是指这是印版的最终处理步骤；使用了从KodakPolychrome Graphics获得的涂胶溶液850S，或者1体积份该涂胶溶液和1体积份所列亲水性聚合物在“溶剂”一栏中所列的溶剂中的2重量％溶液的混合物。
4)在新制印版曝光后显影而获得的UGRA胶印检验标尺1982的阶数。
5)相对网点增益使用上述方程式(2)来计算。
实施例45和对比实施例4
在表8的基材上涂覆表6所述的制剂，并提供实施例1-44所述的外涂层。然后，将所述印版用装备有在405nm发射的二极管(P＝30mW)的Heidelberg Prosetter曝光。实验图像以在20μFM屏(Heidelberg Diamond)中有2540 dpi的分辨率被曝光在所述印版上。然后用类似于实施例1-44所述的碱性显影剂显影该印版，然后进行整饰处理，这两个工艺步骤在一个市售处理机中进行。10,000次印刷后，实施例45的印版的色调值变化(参见图3)比对比实施例4的印版(参见图4)低得多。
表8
实施例 基材   后处理   整饰   相对网点增益
对比实施例4 基材2   无   涂胶850S   100
45 基材1   无   S4-d+)涂胶850S1)   15
1)将1体积份从Kodak Polychrome Graphics获得的涂胶溶液850S和1体积份亲水性聚合物S4-d的4重量％溶液在水中混合
观察到实施例45相对于对比实施例4，即使小的结构元件出现在所述20μFM屏上，其在印刷期间也显示出有利得多的性能。

Claims (28)

1.用于生产平版印刷印版的方法，包括
(a)提供平版印刷基材；
(b)在步骤(a)中提供的所述基材上施加至少一种辐射敏感组合物并干燥；
(c)以成像方式辐照在步骤(b)获得的平版印刷印版前体；
(d)借助于显影剂溶液从以成像方式曝光的前体上除去非成像区；
(e)用包含亲水性聚合物的溶液处理在步骤(d)中获得的所述平版印刷印版，所述亲水性聚合物包含衍生自以下化合物的结构单元：
(i)包含聚环氧烷链和至少一种可自由基聚合的结构单元的化合物，和
(ii)能与(i)中的所述可自由基聚合的结构单元共聚并且进一步含有至少一种pKs＜5的酸性官能团的单体，其中所述酸性官能团可以以游离酸基团或盐的形式存在；
(f)干燥。
2.权利要求1的方法，其进一步包括
(g)用涂胶溶液处理在步骤(f)获得的平版印刷印版。
3.权利要求1的方法，其中用于步骤(e)的所述亲水性聚合物的溶液进一步包含涂胶试剂。
4.权利要求1到3任一项的方法，其中在步骤(c)获得的以成像方式曝光的平版印刷印版前体在用所述显影剂处理前被加热。
5.用于生产平版印刷印版的方法，包括
(a)提供平版印刷基材；
(b)以成像方式施加干燥状态的亲油性组合物，形成印刷用成像区；
(c)用包含亲水性聚合物的溶液处理在步骤(b)中获得的所述平版印刷印版，所述亲水性聚合物包含衍生自以下化合物的结构单元：
(i)包含聚环氧烷链和至少一种可自由基聚合的结构单元的化合物，和
(ii)能与(i)中的所述可自由基聚合的结构单元共聚并且进一步含有至少一种pKs＜5的酸性官能团的单体，其中所述酸性官能团可以以游离酸基团或盐的形式存在；
(d)干燥。
6.权利要求5的方法，其进一步包括
(e)用涂胶溶液处理在步骤(d)获得的平版印刷印版。
7.权利要求5的方法，其中用于步骤(c)的所述亲水性聚合物的溶液进一步包含涂胶试剂。
8.权利要求1到7任一项的方法，其中存在于溶液中的亲水性聚合物的浓度为0.01-15重量％。
9.权利要求1到8任一项的方法，其中所述平版印刷基材是铝箔或铝板、由塑料膜或纸和铝箔制备的层压材料或其上已经借助于汽相沉积沉积有铝的塑料膜。
10.权利要求9的方法，其中在步骤(b)前，所述铝进行选自机械磨版、电化学磨版和阳极化的至少一种处理。
11.权利要求1到10任一项的方法，其中所述平版印刷基材不包含中间层。
12.权利要求1到11任一项的方法，其中所述亲水性聚合物进一步包含衍生自不同于单体(ii)的共聚单体(iii)并包含至少一种可自由基聚合的基团的结构单元，该共聚单体可用于调整所述聚合物的物理性能。
13.权利要求1到12任一项的方法，其中化合物(i)是选自以下的至少一种化合物：
聚甲基丙烯酸乙二醇酯，
聚丙烯酸乙二醇酯，
聚甲基丙烯酸丙二醇酯，
聚丙烯酸丙二醇酯，
丙烯酸或甲基丙烯酸与环氧乙烷和/或环氧丙烷的嵌段共聚物形成的单酯，
2，4-甲苯二异氰酸酯封端的聚乙二醇、聚丙二醇、聚乙二醇和聚丙二醇的嵌段共聚物或统计聚(乙二醇-丙二醇)共聚物与丙烯酸羟烷基酯或甲基丙烯酸羟烷基酯或烯丙醇的反应产物，
丙烯酸异氰酸根合烷基酯或甲基丙烯酸异氰酸根合烷基酯与聚乙二醇、聚丙二醇、聚乙二醇和聚丙二醇的嵌段共聚物或统计聚(乙二醇-丙二醇)共聚物的单反应产物，
聚丙烯酸烷撑二醇酯和聚甲基丙烯酸烷撑二醇酯的酯或醚衍生物。
14.权利要求1到13任一项的方法，其中单体(ii)是选自以下的至少一种单体：丙烯酸、甲基丙烯酸、巴豆酸、用C1-C6烷醇开环的马来酸酐、乙烯基苯甲酸、乙烯基膦酸、乙烯基磺酸、乙烯基苯磺酸、磷酸与(甲基)丙烯酸羟烷基酯或烯丙醇形成的单酯，和磺丙基(甲基)丙烯酰基乙基二烷基铵氢氧化物。
15.权利要求12的方法，其中共聚单体(iii)是选自以下的至少一种共聚单体：(甲基)丙烯酰胺、N-乙烯基吡咯烷酮、(甲基)丙烯酸羟烷基酯和烯丙醇。
16.权利要求1到15任一项的方法，其中基于聚合物的结构单元的总数，衍生自(i)的结构单元占5-95重量％，衍生自(ii)的结构单元占5-95重量％，衍生自(iii)的结构单元占0-50重量％。
17.权利要求1到16任一项的方法，其中所述亲水性聚合物通过在离子液体中的溶剂聚合而制备。
18.权利要求1到4任一项的方法，其中辐射敏感层是阳片层。
19.权利要求1到4任一项的方法，其中辐射敏感层是阴片层。
20.权利要求1到4任一项、18或19的方法，其中辐射敏感层是UV/VIS敏感层，其对选自320-750nm波长的辐射敏感。
21.权利要求1到4任一项、18或19的方法，其中辐射敏感层是对选自750以上-1,600nm波长的辐射敏感的层。
22.用于对成像的平版印刷印版进行后处理的方法，包括
(a)提供平版印刷印版，其包含在平版印刷基材上的成像区和非成像区；
(b)使步骤(a)的平版印刷印版与溶液接触，该溶液包含如权利要求1、12和13-17任一项定义的亲水性聚合物；
(c)干燥。
23.权利要求22的方法，其中随后使步骤(c)获得的印版与涂胶溶液接触。
24.权利要求22的方法，其中用于步骤(b)的溶液进一步包含涂胶试剂。
25.权利要求22到24任一项的方法，其中存在于所述溶液中的亲水性聚合物的浓度为0.01-15重量％。
26.权利要求22到25任一项的方法，其中所述平版印刷基材不包含中间层。
27.根据权利要求1-26任一项的方法可获得的平版印刷印版。
28.包含衍生自以下化合物的结构单元的亲水性聚合物在对平版印刷基材上包含成像区和非成像区的平版印刷印版进行后处理中的应用：
(i)包含聚环氧烷链和至少一种可自由基聚合的结构单元的化合物，和
(ii)能与(i)中的所述可自由基聚合的结构单元共聚并且进一步含有至少一种pKs＜5的酸性官能团的单体，其中所述酸性官能团可以以游离酸基团或盐的形式存在。
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Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE602006009936D1 (de) * 2006-09-20 2009-12-03 Eastman Kodak Co Verfahren zur Entwicklung und Abdichtung von Lithografiedruckformen
EP2293144B1 (en) * 2009-09-04 2012-11-07 Eastman Kodak Company Method of drying lithographic printing plates after single-step-processing
JP5509129B2 (ja) * 2011-03-24 2014-06-04 富士フイルム株式会社 平版印刷版用版面処理剤、及び、平版印刷版の処理方法

Family Cites Families (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
ZA6807938B (zh) 1967-12-04
GB1495522A (en) 1974-02-04 1977-12-21 Vickers Ltd Lithographic desensitising compositions
US3902976A (en) 1974-10-01 1975-09-02 S O Litho Corp Corrosion and abrasion resistant aluminum and aluminum alloy plates particularly useful as support members for photolithographic plates and the like
US4143021A (en) 1976-07-23 1979-03-06 The Dow Chemical Company Composition suitable for use as desensitizing gumming solution for lithographic printing plates
US4246843A (en) * 1976-07-23 1981-01-27 The Dow Chemical Company Method for treating imaged lithographic printing plates
US4217242A (en) 1978-07-03 1980-08-12 Polychrome Corporation Process for preparing an improved anti-oxidant gum composition for lithographic plates
DE3410522A1 (de) * 1984-03-22 1985-10-03 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Einbrenngummierung fuer offsetdruckplatten und verfahren zur herstellung einer offsetdruckform
JPH01160692A (ja) * 1987-12-18 1989-06-23 Oji Paper Co Ltd 色インキ印刷法
US4880555A (en) 1988-09-15 1989-11-14 Hoechst Celanese Corporation Enzyme hydrolyzed maltodextrin containing finisher/preserver/cleaner composition for lithographic printing plates
US5262244A (en) * 1990-07-21 1993-11-16 Hoechst Aktiengesellschaft Hydrophilic copolymers and their use in reprography
EP0734151B1 (en) 1995-03-22 2000-06-14 Agfa-Gevaert N.V. Size modulated stochastic screening
JP3808621B2 (ja) 1998-03-18 2006-08-16 富士写真フイルム株式会社 平版印刷版用版面保護剤
JPH11327156A (ja) * 1998-05-07 1999-11-26 Konica Corp 感光性平版印刷版の処理方法及び処理剤並びに該処理剤で処理された感光性平版印刷版
EP1025992B1 (en) * 1999-02-02 2003-07-23 Agfa-Gevaert A method for making positive printing plates
US6399276B1 (en) * 1999-06-29 2002-06-04 Agfa-Gevaert Processless printing plate with cover layer containing compounds with cationic groups
US20020187427A1 (en) * 2001-05-18 2002-12-12 Ulrich Fiebag Additive composition for both rinse water recycling in water recycling systems and simultaneous surface treatment of lithographic printing plates
US20030232288A1 (en) * 2001-11-05 2003-12-18 Yutaka Oka Photothermographic material and method of thermal development of the same
JP4095821B2 (ja) * 2002-04-22 2008-06-04 富士フイルム株式会社 感光性平版印刷版
JP2004205622A (ja) * 2002-12-24 2004-07-22 Konica Minolta Holdings Inc 感光性組成物、感光性平版印刷版材料及び画像形成方法
US6742886B1 (en) * 2003-01-21 2004-06-01 Kodak Polychrome Graphics Lle Ink jet compositions for lithographic printing

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