CN100434566C - 用于进行cvd涂层的回转式机器 - Google Patents

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Abstract

为了特别有效且快速地实现工件的CVD涂层，本发明规定一种用于处理、尤其是用于CVD涂层的回转式设备，它具有一个输送转塔(3)、处理站(51、52，…，5N)，它们通过输送转塔输送，和至少一个第一泵装置(71-74)；以及，至少一个分配装置(13，15)，用于将处理站(51、52，…，5N)与泵装置(71-74)连接，所述第一泵装置(71-74)通过输送转塔输送；以及，在第一泵装置与一个分配装置(13，15)之间的真空管道的直径d与其长度l之比大于或等于1/15。此外，本发明还涉及一种用于在回转式设备(1)中对工件进行CVD涂层的方法。

Description

用于进行CVD涂层的回转式机器
技术领域
本发明涉及一种用于处理工件的回转式机器和方法，尤其是一种用于通过回转泵装置进行CVD涂层的回转式机器和方法。
背景技术
例如为了保存食品总是经常使用的塑料容器一般具有一个相对较高的气体渗透。因此碳酸随着时间从保存在这种容器中的含有碳酸的饮料中选出，由此使饮料很快地走味。此外，氧气也可以穿过塑料并且使在其中保存的食品处于氧化过程中，这同样明显缩短其可保存时间。另一方面塑料容器显示出许多优点，如很轻的重量、较低的单位价格和由于与玻璃容器相比较高的弹性而产生相对于机械负荷的稳定性。
为了使塑料容器的这些优点与其具有特别良好隔离作用的玻璃容器的优点结合起来，已知使塑料容器配有隔离涂层或防扩散层，它们极大程度地改善了这样的容器的隔离作用。
这种涂层甚至可以有意义地用于玻璃容器，例如在药品包装领域，其中大致可以防止碱离子穿过氧化硅隔离从玻璃容器壁迁移到内腔中。
一种特别有效且经济的用于涂覆这种层的工艺技术是化学汽相沉积(CVD)。对于CVD工艺，一个涂层的沉积通过一个反应的化学气体混合物产生，它包围待涂层的表面。由不同气体的混合物可以产生几乎无限的可能实现的涂层。作为防扩散隔离已经证实另一种氧化层、如上述的SiO2层是有效的。
一种用于CVD涂层的化学反应气体混合物可以加热地或例如通过加入电磁能量使生产气体电离地实现。因为塑料通常在热力学上不是足够地稳定或者具有较低的软化点，因此对于塑料表面的涂层，CVD涂层在温度作用下是不适合的。但是在这里提供了一个等离子支持的CVD涂层(PECVD)方法。因为在这里也通过等离子产生对待涂层表面的加热，因此等离子脉冲CVD涂层(PICVD)也是特别适合的。
为了使这种方法能够工业化地应用，由于工艺时间而需要大量腔室，在其中同时或在时间上错开地进行涂层。因为PICVD涂层在负压条件下进行，在此产生问题，待涂层的工件如塑料空心体被转到一个涂层区域并且使它非常快速地抽真空，因为尤其对于大量物件涂层时必需达到高产量并因此只有微少的抽真空时间供使用。
为了可以达到所需的高产量，一个回转式设备是有利的，其中用于待涂层工件的涂层站在一个圆形轨道上回转。通过这种设备能够实现连续的涂层过程，其中各加工阶段在回转期间配属于确定的扇形或角度区。
此外由WO 00 58631已知这种设备。对于在这个文献中建议的输送转塔，用于通过多个相同的处理站对介电空心体进行等离子处理，所述处理站分别用于容纳至少一个空心体，为了抽真空所述处理站通过分配装置以旋转的气密接头与压力源处于连接。在此，输送转塔具有至少两个独立的且等效的压力源。处理站被分成组，它们分别配属于一个压力源。在此，通过具有旋转接头的分配装置实现接通和断开压力源。
但是这个输送转塔具有许多不足。已经证实涂层站不通过一个单个的泵装置来抽吸是有利的。而为了迅速达到低压，在不同的压力级上多级抽吸是有利的，而在WO 00 58631中公开的设备只规定了一个处理站与一个相应压力源的连接。
此外，必需在压力源与旋转的处理站之间实现一个旋转的连接。在低压时对于密封性和流导的要求是非常高的，随之而来的是设备的高故障率。
此外，一个具有旋转的气密接头的分配装置限制了这个装置在输送转塔旋转轴上的布置，而涂层站设置在转塔的圆周上。由此从分配装置到处理站需要长的真空连接管道。但是这一点对于真空系统的流导是不利的，并因此对所需抽真空时间的期限产生不利影响。
当处理站位于不同的压力水平上时，两个属于一组的处理站在一个公共压力源上的公共接头也可能导致通过压力源相互连接的各处理站的串扰。
发明内容
因此本发明的目的是，提出一种用于CVD涂层的回转式机器和方法，它能够实现特别有效和迅速的工件涂层。
这个目的已经以特别简单的方法通过按本发明的用于处理工件、尤其是用于对工件进行CVD或等离子涂层的回转式设备或等离子模块以及一种本发明的方法得以实现。该设备的有利扩展结构在以下的描述中给出。
按本发明的用于处理工件的回转式设备，它具有：
-一个输送转塔或等离子轮，
-处理站或等离子站，它们通过输送转塔输送，和
-至少一个用于一种工作介质的第一泵装置或输送装置，
-至少一个分配装置，用于将处理站与泵装置连接，
其特征在于，所述第一泵装置通过输送转塔输送；以及，在第一泵装置与一个分配装置之间的真空管道的直径d与其长度l之比大于或等于1/15。
所述泵装置通过输送转塔输送，由此可以在使这个泵装置与处理站连接时放弃一个真空密封的旋转输入装置。输入管道也可以通过一个否则在使用旋转输入装置时不可实现的与泵装置的接近而允许到处理站的输入管道保持为短的并具有较大的横截面。
而对于旋转的接头，保持密封连接的困难随着直径并因此随着可达到的流导而增加。
按本发明的用于在回转式设备中对工件进行CVD涂层的方法，其中，
-至少一个工件被送到一个在一个旋转的输送转塔上的处理站中，
-该处理站通过至少一个分配装置与至少一个第一泵装置连接，
-经由所述第一泵装置与所述分配装置之间的真空管道，将处理站抽真空，该真空管道的直径d与其长度l之比大于或等于1/15，以及
-对工件进行涂层，
其特征在于，所述第一泵装置通过输送转塔输送。
在进行涂层之后可以对处理站通风并取出工件。
所述一个或多个泵装置与处理站的连接可以有利地通过一个分配装置来建立。这可以有利地包括一个特别是环形分配器形式的分配器，在其上连接泵装置和通向涂层室的连接管道。
一个确定的处理站与一个泵装置的连接在此可以通过分配装置、根据处理站在输送转塔上的角度位置进行。为此该分配装置可以包括调节阀。所述处理站与第一或第二泵装置的连接可以通过切换调节阀实现，其中阀门以相应的角度位置打开或关闭并因此建立与泵装置或分配器的连接。
此外，按照本发明的回转式设备特别优选地具有至少一个固定设置的第二泵装置或外部输送装置。在此所述处理站为了抽真空也可以与第二泵装置连接。为此，固定的第二泵装置同样可以与随同旋转的第一泵装置一样通过至少一个、尤其也可以是同一分配装置与第二泵装置连接以便连接处理站。
所述处理站的抽真空优选在至少两个步骤或抽真空阶段中实现，其中在各步骤之间优选在不同的泵装置之间转换。为了迅速达到最终压力，例如如果第一和第二泵装置适配于不同的压力范围是有利的。压力范围例如可以在抽真空期间依次地按照增加的压力范围有秩序地与处理站连接，使得每个泵装置在对于其最佳的压力范围中工作。在此尤其是当随同旋转的第一泵装置最佳地用于一个比第二泵装置更低的压力范围时是有利的，因为在压力下降时对于相同的抽吸能力抽吸功率下降。因此对于短的抽吸时间、特别是在低压时，输入管道的良好流导是重要的，以便获得尽可能高的有效抽吸能力。
此外，除了泵装置之间的转换以外也可以进行泵装置的接通，以便使抽吸功率适配于涂层室中的压力。特别有利的是，抽真空不仅在单级抽吸，而且在多步骤抽吸中这样进行，使一个泵装置分别只与一个处理站连接。这一点是有利的，因为通过这种方法避免了一个泵装置与两个处理站连接，其涂层室具有不同的压力。否则，这将导致由一个泵装置上的气流对在两个处理站中的平均压力进行调整，并由此导致在开始具有较低压力的腔室中的压力升高。
尤其是对于具有高的按件计算产量的回转式设备规定多于仅仅一个单独泵装置，用于抽真空步骤或抽真空阶段也是具有优点的。因此按照本发明的另一实施例，泵功率可以通过回转式设备包括至少两个相同类型或等效的泵装置而得以提高。这些相同类型或等效的泵装置可以是随同旋转的第一泵装置或固定的第二泵装置。按照本发明的这个实施例，处理站的抽真空通过相同类型或等效的泵装置在至少一个抽真空阶段期间实现。
按照本发明的这个实施例的一个有利扩展结构，分别使其中一个相同类型或等效的泵装置与至少一个处理站连接，用于持续所述至少一个抽真空阶段。为此设有一个分配装置，用于使处理站与泵装置连接，它分别使其中一个相同类型或等效的泵装置与至少一个处理站连接，用于持续所述至少一个抽真空阶段。
在此，例如一个处理站或一个处理站组在进入一个配属于一抽真空阶段的扇形时与其中相同类型的第一泵装置连接。下一处理站或处理站组在进入该扇形时与其中相同类型的第二泵装置连接。与泵装置连接的这种顺序可以有利地循环继续。
通过按照本发明的第一泵装置在回转式设备中的随同旋转布置可以实现泵装置或各泵装置与涂层站的具有较大管道横截面的短连接管道。通过这种方法能够使第一泵装置的有效抽吸能力与实际最大的泵装置抽吸能力相比只非常微少地降低。在此，在实际抽吸能力S与有效的通过输送管道降低的抽吸能力Seff之间存在以下关系式：
(1)1/Seff＝1/S+1/L，
其中L表示输入管道的流导或流体流导。
所述流体流导主要通过管道的横截面确定并且例如对于一个管道通过以下关系式给出：
(2)L＝qPV/(p0-p2)
在此，p0表示管道前的压力而p2表示在泵侧的管道端部的压力。用qPV表示通过真空管道的p·V流。它例如在层流的情况下通过下式给出(例如参见“真空技术手册”第6版，Vieweg出版社，1997)
(3)qPV＝π/128η·d4/l·p0
其中，由η表示气体的动态粘滞度。参数d和l表示管道的直径和长度。借助于等式(3)可以看出，真空管道的流导在很大程度上取决于其长度且尤其是其直径。此外，由等式(2)结合等式(3)也可以看出，流导在压力差下降时减小。在压力下降时产生的压力差也相应变得更小。因此，管道横截面或直径与长度之比d/l，在较高压力时比在较低压力范围时的情况对于流导来说是更不关键的。通过按照本发明的第一泵装置在输送转塔上的布置和由此可能实现的从这个泵装置到处理站的特别短的真空管道可以明显地加速抽真空。按照本发明的一个实施例，例如在第一泵装置与一个分配装置之间的真空管道的直径d与其长度l之比d/l大于或等于1/15，优选大于或等于1/10。
在一个本发明的具有至少一个固定的第二泵装置的实施例中，这个泵装置可以作为随同旋转的第一泵装置的前置级使用和/或作为在一个处理站抽真空时的第一泵级使用。在两种情况下，固定的第二泵装置比随同旋转的第一泵装置在较高的压力范围内工作。因此按照等式(2)和(3)，对于给定的管道横截面流导提高，使得从固定的第二泵装置到旋转的输送转塔的真空连接和真空管道的长度在此都是更不关键的。按照一个按本发明设备的实施例，例如第二泵装置这样设置且这样确定从泵装置到一个分配装置尤其如一个环形分配器或到第一泵装置的真空管道的尺寸，使在第二泵装置与一个分配装置之间的真空管道的直径d与其长度l之比d/l大于或等于1/60，优选大于或等于1/30。
按照一个按本发明方法的一个实施例，处理站的抽真空在四个抽真空步骤中实现。在此，当泵装置这样转换时实现一个良好的分级，在一个处理站中的压力分级地在第一步骤中降低到≤200mbar，在接着的第二步骤中降低到≤80mbar，在接着的第三步骤中降低到≤1.5mbar，在接着的第四步骤中降低到≤0.1mbar。
此外，本发明的另一实施例规定在五个步骤中抽真空。在此抽真空可以如在上述四步骤方法中那样进行并在接着的第五步骤中使在处理站中的压力降低到≤0.01mbar。在两个实施例中，例如可以在另一步骤中转换到一个用于抽吸生产气体的泵装置上。
作为泵装置的真空源在此也可以使用摇杆式活塞泵。这种泵由于在低压下、尤其是在高真空范围中的高抽吸能力而与众不同。
可选择或附加地也可以使第二泵装置作为第一泵装置的前置级运行或者连接到这个泵装置上。由此，为第一泵装置提供一个预真空，由此提高其在低压力时的抽吸功率。第二泵装置例如可以包括一个或多个旋转滑阀真空泵。这种泵型的特征是，在低真空范围内较高压力下具有高抽吸功率。
固定的第二泵装置例如可以通过一个旋转输入装置或旋转耦联装置与输送转塔连接。如果第二泵装置规定用于一个较高的压力范围，则在这里对于旋转输入装置的流导和泄漏率的要求明显低于当通过这种连接必需建立最终压力时的要求。按照一个实施例，所述旋转输入装置的泄漏率为10-1mbar l/sec或者更小，优选在静止的和/或旋转的运行时在10-2至10-4mbar l/sec之间。
如果通过第一和/或第二泵装置也分别在多级中在不同的压力范围下进行抽吸，已经证实是有利的。与单级抽真空相比，整个泵功率和与此相关的所使用泵的尺寸明显减小。因此，可以有利地设置至少两个固定的第一和/或第二泵装置，它们在输送转塔旋转时依次与处理站连接。
为了能够在涂层室中的低压力下继续提供一个高的抽吸功率，如果一个第一泵装置包括至少两个前后相互串接的泵级是有利的。也可以在抽真空阶段期间，例如通过适当地接通调节阀而在暂时将两个或多个第一泵装置前后相互串接。
按照本发明的回转式设备特别优选用于PECVD-或PICVD涂层，其中，工件通过将生产气体和电磁能输送到处理站中进行涂层。为此，该设备还具有一个装置，用于将生产气体输入处理站，以及一个装置，用于输入电磁能、最好是微波。通过微波，在生产气体氛围中产生等离子，其反应产物沉积到待涂层的工件表面。在此，尤其也可以通过在工件内部区域触发(Zuendung)等离子进行空心体形工件的内部涂层，如由塑料或玻璃制成的安瓿或瓶子。为此将生产气体充满工件的内部区域。
如果只要对这种工件内面进行涂层，则可以将工件固定在处理站中的相应夹持器中，它使内部区域相对于外界密封。通过这种方法可以使生产气体只导入内部区域。通过适合的压力调整，只在那里产生触发等离子。
所述生产气体也可以在涂层期间通过第一泵装置吸出。如果同时输入新的生产气体，则在涂层过程期间实现一个长久的生产气体氛围再生。在此，在等离子中出现的所不期望的反应产物持续地排出，由此可以制造特别纯的且高质量的涂层。
附图说明
下面借助于实施例和参考附图详细描述本发明。其中相同的标记符号表示相同或类似的部件。附图中：
图1A为按照本发明的回转式设备的实施例视图，
图1B为按照本发明的回转式设备的另一实施例的视图，
图2为一个按照本发明的回转式设备的部件的示意图，
图3为一个用于按照本发明回转式设备的多级真空线路实施例的真空系统图，
图4A和4B为具有多个等效泵装置的真空系统图的另一实施例。
具体实施方式
在图1A中示出一个按照本发明的回转式设备的示意图，它整体上用1表示。
所述回转式设备1具有一个输送转塔3，在其上装配多个处理站，在此图中示出其中的两个处理站51和52。所述输送转塔3可旋转地装配在一个支承框架或机架17上。为此输送转塔3安装在一个支承板25上，该支承板本身支承在枢轴承26上并因此可以围绕旋转轴线4在支承框架17中旋转。
同样在输送转塔3上装配随同旋转的第一泵装置，在此图中示出其中的两个第一泵装置71和72。
按照本发明的设备还具有固定的第二泵装置，它们通过真空管道和连接管19与旋转输入装置11连接。在此，在图1A中示例性地示出两个泵装置91、92。但是本设备也可以具有另外的第二泵装置。从旋转输入装置11分支出输送转塔3的另一真空管道20，它们与第一泵装置71和72的气体出口连接。因此，固定的第二泵装置91、92、...用作为随同旋转的第一泵装置71和72的前置级。这些泵装置作为前置级以低真空运行，对旋转输入装置11在泄漏率和流导方面的要求也较低。这一点不仅使加工这种设备的成本降低而且通过适当的结构也降低旋转输入装置的故障性。按照本发明的实施例，可以容忍旋转输入装置的泄漏率为数量级10-1mbarl/sec或者更小，在此优选在静止的和/或旋转的运行时在10-2至10-4mbarl/sec之间的范围内。
固定的第二泵装置与随同旋转的第一泵装置相比，在较高的压力范围中运行，由此使真空管道19的流导在给定的直径时例如按照等式(2)和(3)，对于层流来说，高于随同旋转的第一泵装置所使用的压力范围。因此，由固定的布置引起的真空管道19的较长长度和位于真空连接中的旋转输入装置3，在这种泵装置91、92中，不是强烈地影响到其泵能力，这一点如同在第一泵装置的固定布置的情况那样。
所述第一泵装置71和72通过真空管道和耦联管道23以较大的横截面连接在环形分配器13上。从这个环形分配器分支出分配管道或连接管道21，它们与调节阀15连接。这些调节阀15本身与涂层室51、52耦联。因此，所述环形分配器13和调节阀是分配装置的组成部分，该分配装置使泵装置与处理站建立连接。
在输送转塔3旋转时，各加工阶段在涂层时如为插入、抽真空、涂层和取出配设确定的角度区，它通过各处理站51、52。在此，一个处理站51、52与一个第一泵装置71、72的连接以及与这个泵装置的分离通过切换调节阀15实现。
在此，各随同旋转的第一泵装置71和72尤其也可以在不同的压力级上工作。因此处理站的抽真空可以在多级中进行，其中，对于每个级，从一个较高压力级的泵转换到一个较低压力级的泵。因此，泵装置71和72在输送转塔旋转时依次与各处理站连接。在此，泵装置71和72之间的转换也最好通过调节阀15实现。该调节阀15的控制例如通过机械控制凸轮实现，装配在输送转塔上的调节阀15移动经过该控制凸轮。阀门也可以构成为电磁式的，其中，这个阀门的通断通过接通或断开开关电流实现。
对于多级抽吸，固定的第二泵装置可以不只作为随同旋转的第一泵装置的71、72的前置级。也能够尤其在抽真空的开始阶段中，也可以使处理站与至少一个固定的第二泵装置连接。这一点例如为了使处理站从大气压抽吸到低真空是有意义的。为此，在图1A所示的实施例中设有一个真空管道22，它使环形分配器13通过旋转输入装置11与固定的第二泵装置92连接。从环形分配器13开始，可以通过调节阀15使涂层室51、52在一个为了达到低真空的第一抽真空级中与泵装置92连接。
图1B示出按照本发明的装置的另一实施例。在这个实施例中，所述旋转输入装置11设置在环形分配器13的下方。通过这种方法可以使泵装置91和92设置在靠近地面并通过与直径相比特别短的真空管道与旋转输入装置11连接。由此也能够实现从与输送转塔3随同旋转的第一泵装置71、72和环形分配器13到固定的第二泵装置91、92的非常高的真空连接流导。这种真空连接包括从泵装置91、92到旋转输入装置11的真空管道19和从旋转输入装置开始到泵装置71、72和环形分配器13的真空管道20和22。
在按照本发明的如同在图1A和1B中示例性示出的设备中，能够实现这种流导，其中通过真空连接进行泵吸的泵装置的有效抽吸能力只比泵装置的实际最大抽吸能力略微减小。这一点通过按照本发明的具有随同旋转的第一泵装置的布置尤其也对于到处理站51、52的真空连接实现，因为泵装置相应地靠近处理站设置并且可以使真空管道保持为短的。因此，第一泵装置71、72与环形分配器13之间的真空管道23例如可以设计得这样短，使真空管道23的直径d与其长度l之比大于或等于1/15，或者甚至大于或等于1/10。如果在图1A或1B所示的实施例中，泵装置代替随同旋转的固定装配而通过一个旋转输入装置与处理站连接，则需要明显较长的真空管道。对于相同的直径由于结构的限制，直径d与管道长度l之比d/l只有1/60或者更小。例如管道直径为10厘米时，管道长度约为6米，而通过随同旋转的布置，这个长度可以降低到约为1.5米或更短。通过这种方法也可以附加地减少管道的转向，而转向对于长的真空连接是必需的。每个90°转向例如在10厘米直径的管道时关于流导对应于约0.3m的附加管道长度。
在图2中只示出一个回转式设备1的部件示意图。回转式设备的这个实施例具有三个随同旋转的第一泵装置71、72、73，它们与环形分配器13连接。优选对于第一泵装置使用摇杆式活塞泵，它们在低压时具有大的抽吸能力。另一方面这种泵只具有微小的压缩能力，因此为了达到低的最终压力，在结束抽真空后一般需要前置级。如上所述，这一点通过固定的第二泵装置提供，它们通过旋转输入装置11与泵装置71、72、73连接。
具体地说，在图2中所示的回转式设备1的实施例总共具有五个这样的固定的泵装置91至95。在此，所述泵装置91至95不必具有相同的形式。而是可以在其吸出功率和最佳压力范围上不同。对于泵装置91至95最好使用旋转滑阀真空泵，它们在低真空范围具有较高的抽吸功率。
在图3中示出一个按照本发明的回转式设备的多级真空线路的真空线路图。在本发明的这个实施例中，在四个或五个步骤中进行抽真空。在涂层阶段期间，在抽真空以后还抽出生产气体。包括抽吸生产气体在内总共六个独立的抽真空阶段配属于各角度区或扇区41至46，在输送转塔3上的各处理站51、52，...，5N通过转塔的旋转移动而通过各扇区。在每个扇区41至46，各处理站分别与一个单独的泵装置或与多级泵装置连接。在此，在整个抽真空过程包括抽吸生产气体期间，每个泵装置只分别与一个处理站连接。在离开配属于一个确定的抽真空阶段的角度区时，或者在进入下一个角度区之前，使处理站与泵装置的连接再分开。在此，连接与分开同样通过一个分配装置实现，该分配装置包括调节阀和一个环形分配器。在此，压力可以通过适当的压力测量管30或皮拉尼(Pirani)测量管进行测量和检测。
在工件输入到一个配属于扇区40的处理站之后，所述处理站在通过扇区41期间与一个固定的第二泵装置91连接，它使处理站的涂层区抽吸到压力≤200mbar。当处理站位于下一个扇区42时，建立与另一固定的泵装置92的连接，该泵装置对于一个更低的压力范围是最佳的。在通过这个扇区期间，所述泵装置92将该处理站的涂层区抽吸到压力≤80mbar。为了在另一抽真空阶段达到更低的压力，使用接着随同旋转的第一泵装置71、72，并且在五级抽真空时也可选择使用另一第一泵装置73，因此可以使用大横截面的短输送管道并可以避免在密封旋转输入装置时的困难。在此，处理站在通过角度区53、54和55期间抽吸到小于等于1.5mbar，小于等于0.1mbar，或者在五步骤抽真空情况下小于等于0.01mbar，因此使压力在各个抽真空阶段分别降低一个数量级。
为了实现高的设备效率或者高产量，在两个处理站装料之间的时间非常短。抽吸时间也可以保持相应地短。在此抽真空的细分级具有很大优点，因为为此所需的泵可以保持相对小。
此外，在第一泵装置71、72和73前面连接各固定的第二泵装置93、94和95作为前置级，因此实现两级地泵吸，以排除或避免在各个泵上的较大压缩比。
所述固定的第二泵装置91至94分别由旋转滑阀真空泵构成，它们良好地适合于相对于大气压力泵吸。而所有的随同旋转第一泵装置71至74包括摇杆式活塞泵，以便在低压时提供大的抽吸功率。
所述泵装置72至74附加地构成为两级的并分别包括摇杆式活塞泵721、722或741、742。
在通过扇区41至45之后，抽真空在最终压力上结束并且涂层室通过一个配属于涂层的角度区46。在此，生产气体进入涂层区并导入微波，由此触发等离子并对位于处理站中的工件进行涂层。在这个加工阶段期间，所述涂层设备与两级设计的泵装置74连接，它与其余的第一泵装置一样连接在一个固定的第二泵装置上。为了排除产生大的气体量，在此前置级或者固定的第二泵装置96也包括一个摇杆式活塞泵。
在涂层结束后，处理站到达一个配属于扇区47的卸料区域，在那里取出经过涂层的工件并通过一个适当的输送装置输送出去。与处理站的装料一样也可以通过在图3中未示出的分配轮实现卸料。
在图4A和4B中示出本发明另一实施例在两个不同时刻的真空线路图，其中在这些附图中仅简示出用于涂层站抽真空的真空线路图。在借助于这个真空系统示出的本发明的实施例中，使用多个等效的泵装置用于各抽真空阶段，以便进一步提高泵功率。在此，随同旋转的第一泵装置71、72和73在这个实施例中等效地构成。所述固定的第二泵装置91和92也是等效的并且相应地在相同的压力下以相同的泵功率运行。
所述处理站51、52，...，5N的抽真空按照本发明的这个实施例在一个配属于扇区41的第一抽真空阶段期间通过等效的泵装置91、92实现而在配属于扇区42的第二抽真空阶段期间通过等效的随同旋转的第一泵装置71、72、73实现。
在此，尤其是每个等效的泵装置91、92和71、72、73与至少一个处理站连接，该处理站用于保持配属于各扇区41或42的抽真空阶段。
所述处理站51、52，...，5N的连接在此通过分配装置实现，如同借助于图1A和1B所述的那样，该分配装置可以包括一个环形分配器13和阀门15。
所述处理站在进入其中一个扇区41，42时分别与等效的泵装置91、92和71-73连接，用于保持各抽真空阶段，即用于持续通过扇区或圆弧扇区41或42。
在图4A所示的输送转塔3的位置，处理站52与泵装置91连接，处理站53与泵装置92连接，处理站54与泵装置71连接，处理站55与泵装置72连接，处理站56与泵装置73连接。
在图4B所示的位置，输送转塔3继续旋转，因此处理站51进入角度区41。同时处理站53使配属于角度区41的抽真空阶段结束并进入接着的配属于另一抽真空阶段的扇区42，在那里处理站53与随同旋转的泵装置73连接。先前与这个处理站53连接的泵装置92在配属于扇区41的抽真空阶段结束时与这个处理站分开，并然后与新进入扇区41的处理站51连接。
在此以类似的方法实现泵装置71-73在通过扇区42时的连接与分开，或者配属于这个扇区的抽真空阶段的开始与结束，其中，所述泵装置91和92或71、72和73的连接循环地实现或循环地继续，以保持各抽真空阶段。
与借助于图4A和4B所示的本发明实施例不同，代替各处理站，也可以是各个至少两个处理站的组分别与一个泵装置连接，它们分别成组地抽真空。
附图标记清单
1回转式设备
3输送转塔(Foederkarussell)
4旋转轴线
51、52，...，5N  处理站
71-74随同旋转的第一泵装置
721，722，741，742摇杆式活塞泵
91-96固定的第二泵装置
11旋转输入装置
13形分配器
15调节阀
17支承框架
19-23真空管道
25支承板
26轴承
30压力测量管
40-47角度区

Claims (36)

1.一种用于处理工件的回转式设备(1)，它具有：
-一个输送转塔(3)，
-处理站(51、52，...，5N)，所述处理站通过输送转塔(3)输送，以及
-至少一个第一泵装置(71-74)，以及
-至少一个分配装置(13，15)，用于将处理站(51、52，...，5N)与泵装置(71-74)连接，
其特征在于，所述第一泵装置(71-74)通过输送转塔输送；以及，在第一泵装置与一个分配装置(13，15)之间的真空管道的直径d与其长度l之比大于或等于1/15。
2.如权利要求1所述的回转式设备，其特征在于，所述分配装置(13，15)包括一个环形分配器(13)。
3.如权利要求1所述的回转式设备，其特征在于，所述分配装置(13，15)包括调节阀(15)。
4.如权利要求1所述的回转式设备，其特征在于，所述第一泵装置(71-74)包括至少一个摇杆式活塞泵。
5.如权利要求1所述的回转式设备，其特征在于，该回转式设备包括至少一个固定设置的第二泵装置(91-96)。
6.如权利要求5所述的回转式设备，其特征在于，所述第一和第二泵装置(71-74，91-96)适配于不同的压力范围。
7.如权利要求5所述的回转式设备，其特征在于，所述第二泵装置(91-96)作为前置级连接于第一泵装置(71-74)。
8.如权利要求5所述的回转式设备，其特征在于，所述第二泵装置(91-96)包括至少一个旋转滑阀真空泵。
9.如权利要求5所述的回转式设备，其特征在于，所述第二泵装置通过一个旋转输入装置(11)与输送转塔(3)连接。
10.如权利要求9所述的回转式设备，其特征在于，所述旋转输入装置的泄漏率为10-1mbarl/sec或者更小。
11.如权利要求5所述的回转式设备，其特征在于，所述固定的第二泵装置(91-96)与至少一个分配装置(13，15)连接，以便连接各处理站(51、52，...，5N)与第二泵装置(91-96)。
12.如权利要求5所述的回转式设备，其特征在于，该回转式设备包括至少两个固定的第二泵装置(91、92)，该第二泵装置在输送转塔(3)旋转时依次与各处理站(51、52，...，5N)连接。
13.如权利要求1所述的回转式设备，其特征在于，该回转式设备包括至少两个第一泵装置(71-74)，该第一泵装置在输送转塔旋转时依次与各处理站(51、52，...，5N)连接。
14.如权利要求1所述的回转式设备，其特征在于，该回转式设备包括一个第一泵装置(74)，用于排出生产气体。
15.如权利要求1所述的回转式设备，其特征在于，所述第一泵装置(72，74)包括至少两个前后串接的泵级(721，722，741，742)。
16.如权利要求1所述的回转式设备，其特征在于，该回转式设备包括至少两个相同类型或等效的泵装置。
17.如权利要求16所述的回转式设备，其特征在于，该回转式设备包括一个分配装置(13，15)，用于将各处理站(51、52，...，5N)与泵装置(71-74)连接；为了持续一个抽真空阶段，该分配装置分别将其中一个相同类型或等效的泵装置与至少一个处理站连接。
18.如权利要求1所述的回转式设备，其特征在于，该回转式设备包括一个装置，用于将生产气体输送到处理站(51、52，...，5N)中。
19.如权利要求1所述的回转式设备，其特征在于，该回转式设备包括一个装置，用于输送电磁能。
20.一种用于在回转式设备(1)中对工件进行CVD涂层的方法，其中，
-至少一个工件被送到一个在一个旋转的输送转塔(3)上的处理站(51、52，...，5N)中，
-该处理站(51、52，...，5N)通过至少一个分配装置(13，15)与至少一个第一泵装置(71-74)连接，
-经由所述第一泵装置与所述分配装置(13，15)之间的真空管道，将处理站(51、52，...，5N)抽真空，该真空管道的直径d与其长度l之比大于或等于1/15，以及
-对工件进行涂层，
其特征在于，所述第一泵装置(71-74)通过输送转塔(3)输送。
21.如权利要求20所述的方法，其特征在于，所述工件通过将生产气体和电磁能输送到处理站(51、52，...，5N)中进行涂层。
22.如权利要求20所述的方法，其特征在于，该方法包括通风和取出工件的步骤。
23.如权利要求20所述的方法，其特征在于，所述处理站(51、52，...，5N)与至少一个固定的第二泵装置(91、92)连接。
24.如权利要求23所述的方法，其特征在于，所述泵装置(71-74，91-96)依次与各处理站(51、52，...，5N)连接。
25.如权利要求23所述的方法，其特征在于，所述第二泵装置(93-96)作为第一泵装置(71-74)的前置级运行。
26.如权利要求20所述的方法，其特征在于，在涂层期间，通过一个第一泵装置(74)吸出生产气体。
27.如权利要求20所述的方法，其特征在于，在抽真空期间，两个或多个第一泵装置(71、72、73)至少暂时前后串接。
28.如权利要求23所述的方法，其特征在于，所述处理站(51、52，...，5N)与第一泵装置(71、72、73)或第二泵装置(91、92)的连接通过切换调节阀(15)实现。
29.如权利要求23所述的方法，其特征在于，所述抽真空在至少两个步骤中实现。
30.如权利要求29所述的方法，其特征在于，在各步骤之间，在不同的泵装置(71、72、73，91、92)之间进行转换。
31.如权利要求30所述的方法，其特征在于，具有四个或五个抽真空步骤。
32.如权利要求31所述的方法，其特征在于，在一个处理站中的压力分级地在第一步骤中降低到≤200mbar，在接着的第二步骤中降低到≤80mbar，在接着的第三步骤中降低到≤1.5mbar，在接着的第四步骤中降低到≤0.1mbar，并且在五步骤抽真空时，在接着的第五步骤中降低到≤0.01mbar。
33.如权利要求20所述的方法，其特征在于，在抽真空期间，一个泵装置(71-74，91-96)分别只与一个处理站(51、52，...，5N)连接。
34.如权利要求20所述的方法，其特征在于，在至少一个抽真空阶段期间，所述处理站的抽真空通过至少两个相同类型或等效的泵装置实现。
35.如权利要求34所述的方法，其特征在于，为了持续所述至少一个抽真空阶段，相同类型或等效的泵装置中的一个相应地与至少一个处理站连接。
36.如权利要求20所述的方法，其中工件是空心体形的，其特征在于，所述工件通过在工件内部区域触发等离子进行涂层。
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