CN100412666C - 液晶显示装置、其制造方法及电子设备 - Google Patents

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Abstract

本发明提供多重间隙台阶引起的显示不佳发生少的液晶显示装置、其制造方法及电子设备。在具备包括具有反射区域及透射区域的多个像素的显示区域的半透射反射型液晶显示装置中，反射区域及透射区域在显示区域内跨按一方向排列的像素构成的像素列配置成带状；第1基板具备层厚调整层，该层厚调整层具有：厚层部，配置于反射区域上；和薄层部，配置于透射区域上；在显示区域内具有将厚层部及薄层部边界的倾斜面沿垂直方向形成的台阶部分，且在显示区域外具有预定的缓和部；第1电极在层厚调整层的上层跨像素列形成，且分别延伸设置到显示区域外，至少相同像素列的反射区域及透射区域上所形成的第1电极在缓和部上连接。

Description

液晶显示装置、其制造方法及电子设备
技术领域
本发明涉及液晶显示装置、其制造方法及电子设备。特别涉及到减少了因多重间隙台阶引起的显示不佳的液晶显示装置、液晶显示装置的制造方法以及具备这种液晶显示装置的电子设备。
背景技术
以往，作为图像显示装置，液晶显示装置已被广泛使用，该液晶显示装置将分别形成有电极的一对基板对向配置，并且通过使施加给作为各个电极交叉区域的多个像素之电压有选择地导通、断开，来调制通过该像素区域的液晶材料的光，使之显示图像、文字等的像。
作为这样的液晶显示装置，有一种可进行反射型显示及透射型显示的半透射反射型液晶显示装置。也就是说，在透射区域上，从配置于基板背面方的背光源所照射的光入射到液晶面板上，并且通过液晶材料层在外部可辨认。另一方面，在反射区域上，从外部入射到液晶面板上的外部光在通过液晶材料层之后，由光反射膜进行反射，并再次通过液晶材料层在外部可辨认。由于具备这种透射区域及反射区域，因而在白天或明亮的场所，可以利用太阳光等的外部光来观看图像显示，因此能够谋求消耗电力的减少，并且即使在夜间等比较暗的场所，也可以利用背光源来观看图像显示。
在这样的半透射反射型液晶显示装置中，为了使反射型显示及透射型显示各自的显色性得到提高，并且谋求延迟(光程差)的最佳化，提出了设置有所谓多重间隙的液晶显示装置。更为具体而言，如图23所示，半透射反射型液晶显示装置在像素603上形成有光反射层604，用来规定反射区域631及透射区域632，并且在其上层方形成层厚调整层606，其相当于透射区域632的区域成为开口(例如，参见专利文献1)。
专利文献1：特开2003-270627号公报(权利要求，图1)
但是，在专利文献1所述的设置有多重间隙的液晶显示装置中，因为与反射区域和透射区域的边界部分相当的层厚调整层的台阶部分，在反射区域及透射区域的任一个上其延迟也都不同，所以一直成为发生显示不佳的原因。
另外，该台阶部分的台阶壁，因为越使其和基板面之间所成的角度陡，形成于台阶部分上的电极等紧密粘接性越是下降，所以一般情况下成为倾斜面。因而，反映出下述问题，即在从垂直方向看基板面时，在该台阶部分上有预定的宽度，并且与该台阶部分相当的区域成为显示不佳区域，结果使对比度等的显示特性下降。
发明内容
因此，本发明的发明人等经专心努力，发现在多重间隙型的液晶显示装置中，通过将用来使反射区域及透射区域的液晶材料层的层厚不同的层厚调整层，在显示区域内沿预定方向形成为带状，并且对形成于该层厚调整层上层的电极，在显示区域外可靠地确保导通性，而可以解决这种问题，由此完成了本发明。
也就是说，本发明的目的为，提供一种液晶显示装置，该液晶显示装置通过在显示区域内陡峭地形成反射区域和透射区域的边界的台阶，并且在显示区域外确保电极的电导通性，来确保一个像素的反射区域及透射区域上所形成的电极导通性，同时减小显示不佳区域的面积，使显示特性得到提高。另外，本发明的其他目的为，提供这种液晶显示装置的制造方法以及具备这种液晶显示装置的电子设备。
根据本发明，可以提供一种液晶显示装置来解决上述问题，该液晶显示装置是一种半透射反射型的液晶显示装置，具备：第1基板，具备第1电极；第2基板，具备第2电极；以及液晶材料，夹持于该第1基板和第2基板之间；并且具备包括多个像素的显示区域，该多个像素分别具有反射区域及透射区域，其特征为，
反射区域及透射区域在显示区域内跨沿一方向排列的像素所构成的像素列，配置成带状，
第1基板为调整反射区域及透射区域的延迟，具备层厚调整层，该层厚调整层具有：厚层部，配置于反射区域上；和薄层部，配置于透射区域上；该层厚调整层，在显示区域内，具有将厚层部及薄层部边界的倾斜面沿垂直方向所形成的台阶部分，并且在显示区域外具有缓和部，用来使厚层部及薄层部边界的台阶缓和，
第1电极在层厚调整层的上层跨像素列来形成，并且分别延伸设置到显示区域外，至少相同像素列的反射区域及透射区域上所形成的第1电极在缓和部上连接。
也就是说，由于在显示区域内陡地形成厚层部及薄层部边界的倾斜面，减小对基板面垂直看时的厚层部及薄层部边界的台阶的宽度，因而可以减小显示不佳区域的面积。另外，在显示区域外，可以防止因厚层部及薄层部边界的台阶引起的第1电极断线，确保相同像素列的反射区域及透射区域上所形成的第1电极的电导通性。因而，可以有效提供一种液晶显示装置，该液晶显示装置无论显示区域内是否存在因台阶部分引起的第1电极断线等，都确保存在于一个像素中的第1电极的导通性，同时减小显示不佳区域的面积，使显示特性得到提高。
另外，当构成本发明的液晶显示装置之时优选的是，在将显示区域内的倾斜面作为第1倾斜面时，缓和部包括比第1倾斜面和基板面之间所成的角度平缓的第2倾斜面。
由于按上述方法来构成，因而在显示区域内，可以减小对基板面垂直看时厚层部及薄层部边界的台阶的宽度，减小显示不佳区域的面积，并且在显示区域外，可以有效防止缓和部的倾斜面上形成的第1电极断线，确保电导通性。
还有，所谓倾斜面15和基板面31a之间所成的角度是指，图8所示的倾斜面和基板面之间所成的二个角度θA、θB之中在0～90°的范围内所定的角度。因而，在图8(a)中指的是θB，在图8(b)中指的是θA。
另外，当构成本发明的液晶显示装置之时优选的是，缓和部包括将厚层部及薄层部连接起来的多个台阶。
通过按上述方法来构成，可以降低缓和部中所包括的各个台阶的高度，能够有效防止缓和部上形成的第1电极的断线。
另外，本发明的其他形态是一种半透射反射型液晶显示装置，具备：第1基板，具备第1电极；第2基板，具备第2电极；以及液晶材料，夹持于该第1基板和第2基板之间；并且具备包括多个像素的显示区域，该多个像素分别具有反射区域及透射区域，其特征为，
反射区域及透射区域在显示区域内跨按一方向排列的像素所构成的像素列，配置成带状，
第1基板为了调整反射区域及透射区域上的延迟，具备层厚调整层，该层厚调整层具有：厚层部，配置于反射区域上；和薄层部，配置于透射区域上；该层厚调整层包括将显示区域内的厚层部及薄层部边界的倾斜面沿垂直方向所形成的台阶部分，
第1电极在层厚调整层的上层跨像素列来形成，并且分别延伸设置到显示区域外，
跨至少相同像素列的反射区域及透射区域上所形成的第1电极的、延伸设置到显示区域外的部位，配置导通部件。
也就是说，在显示区域内，通过减小对基板面垂直看时的厚层部及薄层部边界的台阶的宽度，而可以减小显示不佳区域的面积。另外，在显示区域外，可以借助于跨到已延伸设置的第1电极上所配置的预定的导通部件，确保相同像素列的反射区域及透射区域上所形成的第1电极的电导通性。因而，可以有效提供一种液晶显示装置，该液晶显示装置无论显示区域内是否存在因台阶部分引起的第1电极的断线等，都确保一个像素上的第1电极的导通性，同时减小显示不佳区域的面积。
另外，当构成本发明的液晶显示装置之时优选的是，使显示区域内的倾斜面和基板面之间所成的角度为60～90°范围内的值。
通过按上述方法来构成，可以在显示区域内减小对基板面垂直看时厚层部及薄层部的边界的台阶的宽度，能够减小显示不佳区域的面积。
另外，当构成本发明的液晶显示装置之时优选的是，将反射区域及透射区域的第1电极，在显示区域的两侧导通。
通过按上述方法来构成，可以更为可靠地确保在显示区域内跨按一方向所排列的像素构成的像素列而形成的、反射区域及透射区域的第1电极的电导通性。
另外，当构成本发明的液晶显示装置之时优选的是，在第1电极上，在与像素内的台阶部分相当的部位上设置缝隙。
通过按上述方法来构成，可以使显示区域内厚层部及薄层部的边界的台阶部分成为非电场区域，可以更为可靠地防止显示不佳的发生。
另外，当构成本发明的液晶显示装置之时优选的是，第2基板是一种具备TFD元件或TFT元件的元件基板。
通过按上述方法来构成，即便是具备任一种开关元件的液晶显示装置，也可以使其成为下述液晶显示装置，该液晶显示装置既可以确保显示区域内一个像素的反射区域及透射区域上所形成的第1电极的导通性，也可以减小因形成于对向基板上的多重间隙而产生的显示不佳区域的面积。
另外，本发明的其他形态是一种液晶显示装置的制造方法，该液晶显示装置具备：第1基板，具备第1电极；第2基板，具备第2电极；和液晶材料，夹持于该第1基板和第2基板之间；并且具备包括多个像素的显示区域，该多个像素分别具有反射区域及透射区域；反射区域及透射区域在显示区域内，跨按一方向所排列的像素构成的像素列，配置成带状，该制造方法的特征为，包括：
在第1基板上形成感光性树脂材料层的工序；
为了调整反射区域及透射区域上的延迟，形成层厚调整层的工序，该层厚调整层在反射区域上配置厚层部，在透射区域上配置薄层部，在显示区域内具有将厚层部及薄层部边界的倾斜面沿垂直方向形成的台阶部分，并且在显示区域外具有缓和部，用来使厚层部及薄层部的边界的台阶缓和；以及
在层厚调整层的上层形成第1电极的工序，以便至少相同像素列的反射区域及透射区域上形成的该反射区域及透射区域上的第1电极在缓和部连接，该第1电极跨像素列，并且延伸设置到显示区域外地进行配置。
也就是说，当形成具备下述厚层部及薄层部的层厚调整层时，在显示区域内，通过沿垂直方向形成厚层部及薄层部边界的倾斜面，可以减小显示不佳区域的面积，上述厚层部及薄层部用来形成多重间隙。另外，当形成这样的层厚调整层时，在显示区域外，通过形成使厚层部及薄层部边界的台阶缓和的缓和部，可以确保厚层部上的电极和薄层部上的电极之间的电导通性。因而，可以有效制造既防止因断线等而产生的工作不佳并且显示特性优良的液晶显示装置。
另外，本发明的其他形态是一种液晶显示装置的制造方法，该液晶显示装置具备：第1基板，具备第1电极；第2基板，具备第2电极；以及液晶材料，夹持于该第1基板和第2基板之间；并且具备包括多个像素的显示区域，该多个像素分别具有反射区域及透射区域；反射区域及透射区域在显示区域内，跨按一方向所排列的像素构成的像素列，配置成带状，该制造方法的特征为，包括：
在第1基板上形成感光性树脂材料层的工序；
为了调整反射区域及透射区域上的延迟，形成层厚调整层的工序，该层厚调整层在反射区域上配置厚层部，在透射区域上配置薄层部，在显示区域内具有将厚层部及薄层部边界的倾斜面沿垂直方向所形成的台阶部分；
在层厚调整层的上层，跨像素列，并且延伸设置到显示区域外地形成第1电极的工序；以及
跨至少相同像素列的反射区域及透射区域上所形成的第1电极的、延伸设置到显示区域外的部位地，配置导通部件的工序。
也就是说，当形成具备下述厚层部及薄层部的层厚调整层时，在显示区域内，通过沿垂直方向形成厚层部及薄层部的边界的倾斜面，可以减小显示不佳区域的面积，上述厚层部及薄层部用来形成多重间隙。另外，在显示区域外，通过配置预定的导通部件，可以确保那些电极的电导通性。因而，可以有效制造既防止因断线等而产生的工作不佳并且显示特性优良的液晶显示装置。
另外，本发明又一其他形态是一种电子设备，具有上述任一种液晶显示装置。
也就是说，由于具备下述液晶显示装置，因而可以有效提供一种实现了显示特性提高的电子设备，该液晶显示装置既确保一个像素的反射区域及透射区域上所形成的第1电极导通性，又减小了显示不佳区域。
附图说明
图1是第1实施方式的液晶显示装置的概略立体图。
图2是第1实施方式的液晶显示装置的概略剖面图。
图3(a)～(b)分别是用来对于反射区域的配置进行说明所提供的附图。
图4表示的是反射区域配置的变形例。
图5(a)～(c)分别是第1实施方式的液晶显示装置所使用的滤色基板的平面图及剖面图。
图6(a)～(c)分别是用来对于光反射膜的平面形状进行说明所提供的附图。
图7(a)表示的是以往的液晶显示装置中的显示不佳区域，(b)表示的是第1实施方式的液晶显示装置中的显示不佳区域。
图8(a)～(b)分别是用来对于倾斜面和基板面之间所成的角度进行说明所提供的附图。
图9是用来说明包括预定倾斜面的缓和部所提供的附图。
图10是用来说明包括多个台阶的缓和部所提供的附图。
图11(a)表示的是在显示区域的一方的外侧设置有缓和部的滤色基板，(b)表示的是在显示区域的两侧设置有缓和部的滤色基板。
图12(a)～(c)分别是表示只在反射区域上设置有层厚调整层的滤色基板的平面图及剖面图。
图13(a)～(c)分别是表示对电极形成有缝隙的滤色基板的平面图及剖面图。
图14(a)～(b)分别是用来说明元件基板所提供的平面图及剖面图。
图15(a)～(d)是用来说明第1实施方式的液晶显示装置所使用的滤色基板的制造方法所提供的附图(其一)。
图16(a)～(e)是用来说明第1实施方式的液晶显示装置所使用的滤色基板的制造方法所提供的附图(其二)。
图17(a)～(e)是用来说明元件基板制造方法所提供的附图。
图18是用来说明第3实施方式的液晶显示装置所使用的滤色基板中的导通部件所提供的附图。
图19是用来说明第3实施方式的液晶显示装置所使用的滤色基板制造方法所提供的附图。
图20(a)～(b)分别是表示第5实施方式的液晶显示装置的剖面图及平面图。
图21(a)～(b)分别是第5实施方式的液晶显示装置所使用的对向基板的平面图及剖面图。
图22是表示第6实施方式的电子设备的概略结构的框图。
图23(A)～(C)分别说明的是以往的多重间隙结构的液晶显示装置的结构。
符号说明
10：液晶显示装置，11：缓和部，12：台阶，13：显示不佳区域，15：倾斜面，40c：第1倾斜面，18：第2倾斜面，23：密封材料，30：滤色基板，31：玻璃基板，33：扫描电极，33a：厚层部的扫描电极，33b：薄层部的扫描电极，35：光反射膜，35a：开口部，40：层厚调整层，40a：厚壁部，40b：薄壁部，40′：感光性树脂材料层，45：取向膜，60：元件基板，61：玻璃基板，63：像素电极，65：数据线，69：TFD元件，75：取向膜，140：导通部件，210：液晶显示装置，233：面状电极，233a：厚层部上的面状电极，233b：薄层部上的面状电极，240：层厚调整层，240a：厚层部，240b：薄层部，269：TFT元件
具体实施方式
下面，参照附图，对于与本发明的液晶显示装置、液晶显示装置的制造方法及包括液晶显示装置的电子设备有关的实施方式，进行具体说明。但是，这样的实施方式用来表示本发明的一个形态，并不用来限定本发明，而可以在本发明的范围内加以任意变更。
[第1实施方式]
第1实施方式是一种半透射反射型液晶显示装置，具备：第1基板，具备第1电极；第2基板，具备第2电极；以及液晶材料，夹持于该第1基板和第2基板之间；并且具备包括多个像素的显示区域，该多个像素分别具有反射区域及透射区域。
而且，其特征为，反射区域及透射区域在显示区域内跨按一方向所排列的像素构成的像素列，配置成带状；第1基板为了调整反射区域及透射区域上的延迟，具备层厚调整层，该层厚调整层具有：厚层部，配置于反射区域上；和薄层部，配置于透射区域上；在显示区域内具有将厚层部及薄层部的边界的倾斜面沿垂直方向所形成的台阶部分，并且在显示区域外具有缓和部，用来使厚层部及薄层部的边界的台阶缓和；第1电极在层厚调整层的上层跨像素列来形成，并且分别延伸设置到显示区域外，至少相同像素列的反射区域及透射区域上所形成的第1电极在缓和部上连接。
下面，通过适当参照图1～图14，对于本发明第1实施方式的液晶显示装置，以包括下述滤色基板及元件基板的液晶显示装置为例进行说明，该滤色基板具备预定的层厚调整层，该元件基板具备作为开关元件的TFD元件(Thin Film Diode，薄膜二极管)。还有，在各个附图中，附上相同符号的部件表示出相同的部件，并且适当省略其说明。
1.液晶显示装置的基本结构
首先，参照图1及图2，对于作为本发明所涉及的第1实施方式的液晶显示装置的液晶显示装置10的基本结构，也就是单元(cell)结构和布线等进行具体说明。在此，图1是本实施方式所涉及的液晶显示装置10的概略立体图，图2是沿箭头方向看到图1中EE剖面的概略剖面图。
该液晶显示装置10具备元件基板60，该元件基板60具有使用为二端子型非线性元件的TFD元件69作为开关元件的有源矩阵型结构，虽然未图示，但是根据需要可以适当安装背光源或前光源等的照明装置和壳体等，来加以使用。
另外，液晶显示装置10是元件基板60和滤色基板30对向配置并且通过粘接剂等密封材料23来粘合的，该元件基板以玻璃基板等为基体61，该滤色基板同样以玻璃基板等为基体31。另外，具备，对于由元件基板60和滤色基板30形成的空间中的密封材料23的内侧部分，通过开口部23a注入了液晶材料21之后，用封闭材料25来封闭而形成的单元结构。也就是说，在元件基板60和滤色基板30之间填充液晶材料21。
另外，在元件基板60的基体61内面也就是与滤色基板30对向的表面上，形成按矩阵状所配置的多个像素电极63，并且在滤色基板30的基体31内面也就是与元件基板60对向的表面上，形成按带状所配置的多个扫描电极33。另外，像素电极63通过作为开关元件的TFD元件69，相对数据线65进行电连接，并且另一方的扫描电极33通过包含导电性粒子的密封材料23，相对元件基板60上的引绕布线66进行电连接。这样所构成的像素电极63和扫描电极33之间的交叉区域构成按矩阵状所排列的多个像素(下面，有时称为像素区域。)，这些多个像素的排列作为整体构成显示区域。因而，可以通过对预期的像素施加电压，使该像素的液晶材料21发生电场，在显示区域整体上使之显示文字、图形等的图像。
另外，元件基板60具有基板伸出部60T，与滤色基板30的外形相比向外侧伸出，并且在该基板伸出部60T上形成数据线65的一部分、引绕布线66的一部分及由独立形成的多条布线构成的外部连接用端子67。
而且，在数据线65或者引绕布线66的端部，安装内置有液晶驱动电路等的驱动用半导体元件(驱动用IC)91。再者，在外部连接用端子67之中的显示区域侧的端部也安装驱动用半导体元件(驱动用IC)91，并且在另一方的端部上安装柔性电路基板93。
2.反射区域及透射区域
另外，本发明所涉及的液晶显示装置是一种半透射反射型液晶显示装置，反射区域及透射区域在显示区域内，跨按一方向所排列的像素构成的像素列，配置成带状。也就是说，在本实施方式所涉及的具备TFD元件的液晶显示装置时，如图3(a)～(b)所示，对由像素G构成的多个像素列的每个，分别交替且按带状配置反射区域R及透射区域T，该像素G沿着和元件基板上的数据线正交的方向(X方向)排列。还有，图3及图4是沿相对显示面垂直方向看到液晶显示装置时的部分放大图。
在此，图3(a)为，在各个像素G中，于上半部分上配置透射区域T，于下半部分上配置反射区域R，并且整体上按带状配置透射区域T及反射区域R。另外，图3(b)为，在各个像素G中，于上部及下部上配置反射区域R，于中央部上配置透射区域T使之被该反射区域R夹置，并且整体上按带状配置透射区域T及反射区域R。
该反射区域R及透射区域T的配置，由于在滤色基板或元件基板的任一个上，具备使之与透射区域T相对应地形成了开口部的光反射膜，因而可以将这些配置到预期的区域。还有，本实施方式所说明的液晶显示装置在滤色基板方形成有光反射膜。
另外，当配置反射区域及透射区域之时优选的是，如图4所示，在相邻像素G的相互对向的边侧配置反射区域R。例如，在图4中，在上半部分配置透射区域T并且在下半部分配置反射区域R的像素G和在上半部分配置反射区域R并且在下半部分配置透射区域T的像素G，每隔一行地交替排列。
其原因为，即使在形成了多重间隙时，也可以减少一个像素内成为显示不佳原因的台阶。
3.滤色基板(第1基板)
(1)基本结构
下面，通过适当参照图5～图13，对于本实施方式的液晶显示装置10所使用的滤色基板30，进行更为详细的说明。
首先，图5(a)表示滤色基板30的平面图，图5(b)表示按箭头方向看图5(a)中PP剖面的剖面图，图5(c)表示按箭头方向看图5(a)中OO剖面的剖面图。该滤色基板30的结构基本上如图5(b)所示，在由玻璃基板等构成的基体31之上，依次叠层光反射膜35、遮光膜39、着色层37、层厚调整层40及扫描电极33而构成。另外，在扫描电极33之上具备取向膜45，用来控制液晶材料的取向性，并且在与形成有扫描电极33等的面相反方的面上，配置相位差板(1/4波长板)47及偏振板49，以便可以辨别清晰的图像显示。
(2)光反射膜
另外，滤色基板30上所形成的光反射膜35例如由铝等的金属材料构成，并且形成与透射区域T对应的开口部35a，另一方面在反射区域R上，是用来使太阳光等外部光反射而可以进行反射型显示的部件。在本发明的液晶显示装置中，因为在显示区域内，跨按一方向所排列的像素构成的像素列来配置反射区域R，所以光反射膜35例如如图6(a)～(c)所示被图形化。
还有，图6(a)、图6(b)及图6(c)分别表示出，如图3(a)所示配置了反射区域R及透射区域T的滤色基板上的光反射膜35、如图3(b)所示配置了反射区域R及透射区域T的滤色基板上的光反射膜35以及如图4所示配置了反射区域R及透射区域T的滤色基板上的光反射膜35。
(3)遮光膜
另外，遮光膜39是用来防止在相邻像素G间色材料出现混色，而获得对比度优良的图像显示的膜。作为这种遮光膜39，例如可以使用铬(Cr)或钼(Mo)等的金属膜来作为遮光膜39，或者使用下述两种膜等，一种是使R(红)、G(绿)、B(蓝)3色的着色材料一并分散到树脂及其他基体材料中的膜，另一种是使黑色颜料、染料等的着色材料分散到树脂及其他基体材料中的膜。再者，通过重叠R(红)、G(绿)、B(蓝)3色的着色材料，也可以形成遮光膜。
(4)着色层
另外，着色层37通常在透明树脂中使颜料、染料等的着色材料分散而呈现预定的色调。作为着色层37色调的一个示例，虽然作为原色类滤色器有由R(红)、G(绿)、B(蓝)3色的组合构成的色调，但是并不限定于此，也可以采用Y(黄)、M(深红色)、C(青绿色)等的补色类和其他各种色调来形成。
另外，作为着色层37的排列图形，虽然较多采用带状排列，但是除该带状排列之外，还可以采用斜向嵌镶排列或三角形排列等的各种图形形状。
(5)层厚调整层
另外，在本实施方式所涉及的液晶显示装置10中，在滤色基板30之上形成层厚调整层40，该层厚调整层40由丙烯酸树脂或环氧树脂等的有机性感光性树脂材料、SiN或SiO2等的无机材料构成。而且，如图5(b)～(c)所示，该层厚调整层40具有：厚层部40a，配置于反射区域R上；和薄层部40b，配置于透射区域T上；其特征在于，在显示区域A内，具有将厚层部40a及薄层部40b的边界的台阶处的倾斜面40c沿垂直方向形成的台阶部分，并且在显示区域外具有缓和部11，用来使厚层部40a及薄层部40b边界的台阶缓和。
也就是说，为了使反射区域及透射区域上的延迟得以最佳化，在将液晶材料层上的反射区域层厚相对变薄并将透射区域层厚加厚的多重间隙结构的液晶显示装置中，在显示区域内其构成为，减小对基板面从垂直方向看到的层厚调整层的厚层部和薄层部的边界的台阶宽度。另一方面，在显示区域外其构成为，形成缓和部而确保一个像素的反射区域及透射区域上所形成的扫描电极电导通性，该缓和部用来防止层厚调整层的厚层部和薄层部的边界的台阶上所形成的扫描电极的断线。
因而，该液晶显示装置可以防止因扫描电极的断线而产生的工作不佳，并且减小因台阶引起的显示不佳区域的面积，同时能够使反射区域及透射区域各自上的延迟得以最佳化，并且显示特性优良。
更为具体而言，用来构成多重间隙的以往的层厚调整层，如图23(b)所示，使显示区域内的、配置于反射区域R上的厚层部和配置于透射区域T上的薄层部之间的边界的台阶660上的倾斜角，较为平缓地来形成。其原因为，若垂直形成该台阶上的倾斜面，则发生该台阶部分上所形成的扫描电极形成不佳，有断线的可能性。但是，由于台阶部分在反射区域及透射区域的任一个上延迟都不合适，因而这种情况下如图7(a)所示，从对基板面垂直方向看到的可辨认的与倾斜面相当的区域面积相对增大，显示不佳区域13的面积变大。
另一方面，在本发明所涉及的液晶显示装置中，由于沿垂直方向形成显示区域内厚层部及薄层部的边界台阶上的倾斜面，因而如图7(b)所示，从对基板面垂直方向看到的可辨认的与倾斜面相当的区域面积相对变小，可以减小显示不佳区域13的面积。此外，图7(a)及(b)表示，对应于分别形成的层厚调整层40’的倾斜面40C’的状态而发生的显示面的显示不良13的状态。
这样，优选的是，为了减小从对基板面垂直方向看到的厚层部及薄层部边界的台阶宽度，使该台阶上的倾斜面和基板面之间所成的角度为60～90°范围内的值。
其原因为，若该角度成为了未达到60°的值，则有时也因层厚调整层的膜厚而产生、导致从对基板面垂直方向看到时的倾斜面的宽度相对增大，显示不佳区域的面积增大。另一方面，如果该角度为垂直(90°)，则可以使从对基板面垂直方向看到的倾斜面的宽度为0，因此能够使显示不佳区域的面积成为最小。但是，该台阶一般是通过对感光性树脂材料的多重曝光或半色调曝光来形成的，存在由于通过光掩模的光的少许绕入，有时再现性不足的问题。
因而，较为优选的是，使厚层部及薄层部边界台阶上的倾斜面和基板面之间所成的角度为70～88°范围内的值，并且更加优选的是，使之为80～85°范围内的值。
还有，所谓倾斜面15和基板面31a之间所成的角度是指，图8所示的倾斜面和基板面之间所成的二个角度θA、θB之中在0～90°的范围内确定的角度。因而，在图8(a)中指的是θB，在图8(b)中指的是θA。
但是，在将厚层部及薄层部边界台阶上的倾斜面沿垂直方向来形成的情况下，在制造阶段中，在层厚调整层上层形成有扫描电极时，有时不能在该台阶部分上均匀地形成电极。这种情况下，例如，一个像素上反射区域的扫描电极和透射区域的扫描电极成为非连续状态，不能确保电导通性，而成为工作不佳的原因。
因此，如图5(a)～(c)所示，在显示区域A外，通过形成用来使厚层部40a及薄层部40b边界的台阶缓和的缓和部11，而可以通过该缓和部11确保一个像素上反射区域的扫描电极33a和透射区域的扫描电极33b之间的电导通性，能够防止因扫描电极33的断线而产生的工作不佳。也就是说，在一个像素内，例如即使在反射区域的扫描电极和透射区域的扫描电极完全没有连接的情况下，由于在显示区域外确保该反射区域和透射区域的扫描电极的电导通性，因而仍可以在一个像素内的反射区域及透射区域各自上施加电压。
作为这样的缓和部，例如图9所示，在将显示区域A内的倾斜面设为第1倾斜面40c时，可以形成包括第2倾斜面18的缓和部11，该第2倾斜面18比第1倾斜面40c和基板面之间所成的角度θ2平缓。也就是说，随着厚层部和薄层部之间的边界台阶上的倾斜面变陡，形成于该台阶部分上的透明电极易于发生形成不佳，易于产生断线。因此，通过形成显示区域外的厚层部和薄层部之间的边界台阶上的倾斜面，使之比显示区域内的台阶平缓，而可以在显示区域外确保一个像素的反射区域及透射区域上所形成的电极的电导通性。
但是，若该倾斜面过于平缓，则有时显示区域外的所谓框缘区域的面积增大。因而，优选的是，使显示区域外的厚层部及薄层部的边界台阶上的倾斜面和基板面之间所成的角度为大于等于30且小于60°的范围内的值，更为优选的是，为40～50°范围内的值。
另外，作为该缓和部的其他示例，例如图10所示，可以形成包括多个台阶12的缓和部11，该多个台阶用来将厚层部40a及薄层部40b连接起来。也就是说，在显示区域外的厚层部及薄层部的边界台阶的高低差比电极膜厚的值大的情况下，在该台阶部分上形成有电极时，发生形成不佳并且产生断线的可能性增大。因此，通过包括多个台阶地构成显示区域外的厚层部及薄层部边界的台阶，而可以减小单个台阶的高低差，防止电极的断线。
因而，例如在扫描电极的膜厚约为50nm时，优选的是，使缓和部中所包括的多个台阶的各自的高低差为30～60nm范围内的值，该缓和部用来使显示区域外的厚层部及薄层部的边界的台阶缓和。
另外，如图11(a)所示，通过将缓和部11形成于显示区域A任一方的外侧，例如形成于与元件基板上的引绕布线取得导通的一侧，获得层厚调整层40的厚层部40a上的扫描电极33a及薄层部40b上的扫描电极33b的电导通性，而可以确保大体上的电导通性。但是，从可以更为可靠地确保扫描电极33a、33b的电导通性的方面考虑，如图11(b)所示，优选的是，在显示区域A的两侧形成该缓和部11。
还有，为了使延迟得以最佳化，在液晶材料层上构成反射区域使之比透射区域薄，为此，不限于如上所述，由对应于反射区域的厚层部和对应于透射区域的薄层部构成的情形，还如图12所示，也可以通过只对应于反射区域R地来形成层厚调整层40来构成。这种情况下，对于与层厚调整层40端部相当的台阶上的倾斜面，对于显示区域A内的倾斜面40c，将其沿垂直方向来形成，并且在显示区域A外，设置包括倾斜面18的缓和部11，该倾斜面18比显示区域A内的倾斜面40c和基板面之间所成的角度平缓。
另外，作为缓和部的示例，并不限于上述形态，只要是能够确保厚层部上的扫描电极和薄层部上的扫描电极之间的电导通性的方法，其他形态也是可以的。
(6)扫描电极
另外，在层厚调整层40之上形成由ITO(氧化铟锡)等的透明导电体构成的扫描电极33。该扫描电极33对按一方向所排列的像素所构成的每个像素列，按多个透明电极33并列而成的带状来构成。
这里，在本实施方式的液晶显示装置中，在显示区域A内，对应于反射区域R和透射区域T所形成的层厚调整层40的厚层部40a和薄层部40b的边界台阶上的倾斜面，沿垂直方向来形成。因而，有时一个像素内的反射区域R的扫描电极33a和透射区域T的扫描电极33b不连续形成。
但是，在显示区域外，由于使相同像素列的反射区域及透射区域上所形成的扫描电极延伸设置，在厚层部及薄层部的边界台阶的缓和部上，连接反射区域及透射区域的扫描电极，因而即使在一个像素内扫描电极为非连续状态时，也能确保电导通性。
因而，即使在包括在显示区域内沿垂直方向所形成的倾斜面的台阶上形成扫描电极时，也可以防止因断线等而产生的工作不佳的发生。
另外，当将一个像素上的反射区域及透射区域的扫描电极，在显示区域外确保电导通性之时，通过在显示区域的任一侧，例如在与元件基板上的引绕布线取得导通的一侧，获得层厚调整层的厚层部上及薄层部上的扫描电极的电导通性，可以确保大体上的电导通性。但是，从可以更为可靠地确保扫描电极的电导通性方面考虑，优选的是，在显示区域的两侧获得层厚调整层的厚层部上及薄层部上的扫描电极的电导通性。
另外，如图13所示优选的是，在扫描电极33上，在显示区域A内的各个像素上的与层厚调整层40的厚层部40a及薄层部40b的边界的台阶(第1倾斜面40c)相当的部位上，设置缝隙34。
其原因为，通过不在成为显示不佳原因的倾斜面上形成扫描电极，而使之成为非电场区域，不使该部分透射光，由此可以进一步减少显示不佳的发生。
而且，由于只要是本实施方式的液晶显示装置，一个像素中的反射区域及透射区域的扫描电极就在显示区域外确保其电导通性，因而即使在设置有这种缝隙时，也不会发生工作不佳。
(7)取向膜
另外，在扫描电极33之上整面地形成由聚酰亚胺树脂等构成的取向膜45。该取向膜是进行磨擦(rubbing)处理等用来控制液晶材料取向性的部件。
4.元件基板(第2基板)
(1)基板结构
另外，元件基板60如图14(a)～(b)所示，基本上包括：基体61，由玻璃基板等构成；数据线65；作为开关元件的TFD元件69；以及像素电极63。另外，如图2所示，在像素电极63之上形成由聚酰亚胺树脂等构成的取向膜75，另一方面，在基体61的外面配置相位差板(1/4波长板)77及偏振板79。
还有，图14(a)是元件基板60的概略平面图，图14(b)是元件基板60的概略剖面图。另外，对于取向膜和偏振板等，分别予以适当省略。
(2)数据线及引绕布线
元件基板60上的数据线65按多条布线并列而成的带状来构成。另外，虽然未图示，但是在沿对于驱动器等安装区域一侧的边垂直的方向延伸的边一侧，设置引绕布线，该引绕布线通过包含导电性粒子的密封材料和滤色基板30上的扫描电极33进行电连接。
该数据线65和引绕布线因为从制造工序简单化及电阻降低的观点出发，要和下述双端子型非线性元件的形成同时来形成，所以例如依次形成钽层、氧化钽层及铬层，来构成。
(3)像素电极
另外，在各条数据线65上通过开关元件69，对像素电极63进行电连接。另外，像素电极63在各条数据线65之间配置成矩阵状。
该像素电极63可以使用ITO(氧化铟锡)或IZO(氧化铟锌)等的透明导电材料来形成。
(4)开关元件
另外，在元件基板60上形成作为开关元件69的TFD元件69，用来对数据线65和像素电极63进行电连接。该TFD元件69一般情况下具有夹层结构，该夹层结构依次叠层了：由钽(Ta)合金构成的元件第1电极71、由氧化钽(Ta2O5)构成的绝缘膜72及由铬(Cr)构成的元件第2电极73、74。而且，是一种有源元件，用来表示正负方向的二极管开关特性，并且若大于等于阈值的电压施加到元件第1电极71及元件第2电极73、74的两端子间，则成为导通状态。
另外，优选的是，二个TFD元件69a、69b形成为，介于数据线65和像素电极63之间，并且由具有相反的二极管特性的第1TFD元件69a及第2TFD元件69b来构成。
其原因为，由于按上述方法来构成，因而作为要施加的电压波形，可以使用正负对称的脉冲波形，并且能够防止液晶显示装置等中的液晶材料的劣化。也就是说，其原因为，为了防止液晶材料的劣化，二极管开关特性最好在正负方向上是对称的，通过反向地串联连接二个TFD元件69a、69b，可以使用正负对称的脉冲波形。
[第2实施方式]
本发明的第2实施方式是第1实施方式的液晶显示装置的制造方法，其特征为，包括：
在第1基板上形成感光性树脂材料层的工序；
为了调整反射区域及透射区域上的延迟，形成层厚调整层的工序，该层厚调整层在反射区域上配置厚层部，在透射区域上配置薄层部，在显示区域内具有将厚层部及薄层部的边界的倾斜面沿垂直方向形成的台阶部分，并且在显示区域外具有缓和部，用来使厚层部及薄层部边界的台阶缓和；以及
在层厚调整层的上层形成第1电极的工序，以便至少相同像素列的反射区域及透射区域上所形成的该反射区域及透射区域中的第1电极，在缓和部上连接，该第1电极跨过像素列，并且延伸设置到显示区域外地进行配置。
下面，作为第2实施方式所涉及的液晶显示装置的制造方法一个示例，以制造第1实施方式的液晶显示装置的方法为例，通过适当参照图15～图17，进行说明。
1.滤色基板(第1基板)的制造工序
(1)光反射膜的形成
首先，如图15(a)所示，在作为第1基板的基体材料的玻璃基板31上形成反射膜35，该反射膜35用来形成反射区域。该反射膜可以在采用镀敷法或溅射法使铝等金属材料粘附到母基板上之后，通过使用光刻法构图来形成。
另外，在制造半透射反射型滤色基板时，使之与各个像素对应来形成反射膜35，该反射膜35具备用来形成透射区域的开口部35a。
(2)着色层的形成
接下来，如图15(b)所示，对应于各个像素，形成R、G、B之中任一色的着色层37。该着色层可以通过将感光性树脂涂敷到母基板上并对该感光性树脂依次实施图形曝光及显影处理来形成，上述感光性树脂由使颜料或染料等着色材料分散后的透明树脂等构成。还有，该曝光及显影处理为对R、G、B每种色反复进行。
(3)遮光膜的形成
接下来，如图15(c)所示，在各个像素间区域上形成遮光膜39。作为该遮光膜，例如可以使用铬(Cr)或钼(Mo)等的金属膜来作为遮光膜，或者使用下述两种膜等，一种是使R(红)、G(绿)、B(蓝)3色的着色材料一并分散到树脂及其他基体材料中的膜，另一种是使黑色的颜料或染料等的着色材料分散到树脂及其他基体材料中的膜。
例如，在采用金属膜来形成遮光膜时，可以在利用镀敷法等将铬(Cr)等的金属材料叠层到玻璃基板上之后，通过按照预定图形进行蚀刻处理，来形成。
(4)层厚调整层的形成
接下来，如图15(d)所示，将感光性树脂材料，例如采用旋转涂敷机等的涂敷装置均匀涂敷到基板上，来形成感光性树脂材料层40′。此时，例如在使用旋转涂敷机时，可以以600～2,000rpm的转速且5～20秒的涂敷时间，来形成厚度为1～10μm的层厚调整层。
在此，构成层厚调整层的感光性树脂材料种类并未特别限定，但是例如可举出丙烯酸类树脂、环氧类树脂、硅类树脂、酚醛类树脂及氧杂环丁烷类树脂等的一种单个或者多于等于两种的组合。另外，也可以在感光性树脂材料中预先添加二氧化硅粒子、氧化钛、氧化锆及氧化铝等无机填料，以便能够高精度地形成凹凸图形。
另外，作为感光性树脂材料有正型和负型，该正型，其照射了透射光透射部后的光的部位产生光分解，对显影剂可溶解；该负型，其照射了透射光透射部后的光的部位产生硬化，对显影剂不溶解，但是全都可以适当使用。
还有，在本实施方式中，以使用正型感光性树脂材料的情形为例，进行说明。
接下来，如图16(a)～(c)所示，为了调整反射区域及透射区域上的延迟，形成层厚调整层，该层厚调整层在反射区域上配置厚层部40a，在透射区域上配置薄层部40b，在显示区域A内具有将厚层部40a及薄层部40b的边界台阶上的倾斜面沿垂直方向形成的台阶部分，并且在显示区域A外具有缓和部11，用来使厚层部40a及薄层部40b的边界的台阶缓和。
更为具体而言，例如在步进工作台上载置基板，并且如图16(a)所示，在配置第1光掩模111之后，照射用符号L所示的i线等能量线，对均匀涂敷后的感光性树脂材料层40′实施图形曝光(第1曝光)。
接着，在将基板例如从步进工作台上一并移动到曝光用的曝光装置上之后，配置第2光掩模113，并且如图16(b)所示，同样照射能量线，对层厚调整层实施图形曝光(第2曝光)。
接着，例如，通过使用显影液对基板上的感光性树脂材料层40′进行显影，使照射有透射第1及第2光掩模的光透射部后的光的部分进行显影，如图16(c)所示，可以形成层厚调整层40，该层厚调整层40包括与反射区域对应的厚层部40a和与透射区域对应的薄层部40b。
此时，在显示区域外，通过使第1光掩模111和第2光掩模113的掩模图形不同，可以形成具备预期的倾斜面的台阶部分。另一方面，在显示区域内，通过进行第1曝光或第2曝光的任一次曝光，或者使第1光掩模111和第2光掩模113的掩模图形为相同的图形，可以沿垂直方向形成倾斜面，以尽量不在台阶部分上形成坡度。因而，可以形成下述层厚调整层40，该层厚调整层40在显示区域A内，沿垂直方向形成厚层部40a和薄层部40b的边界的台阶上的倾斜面(第1倾斜面40c)；在显示区域A外，使厚层部40a和薄层部40b的边界的台阶上的倾斜面(第2倾斜面18)，比显示区域A内的第1倾斜面40c和基板面之间所成的角度平缓。
还有，上述层厚调整层的厚层部、薄层部及倾斜面等的形成方法是一种利用所谓的多重曝光的方法，该多重曝光使用不同图形的多个光掩模。但是，此外也可以通过下述半色调曝光，来形成具备厚层部、薄层部及倾斜面等的层厚调整层，该半色调曝光使用部分地使光的透射率不同的半色调掩模。
(5)扫描电极及取向膜的形成
接下来，如图16(d)所示，在包括厚层部及薄层部的层厚调整层之上例如采用溅射法整面地形成透明导电层之后，使用光刻法实施构图，形成预定图形形状的电极33，上述透明导电层由ITO(氧化铟锡)等的透明导电材料构成。
例如，在要制造的滤色基板是用于无源矩阵型液晶装置或具备TFD元件(Thin Film Diode，薄膜二极管)的有源矩阵型液晶显示装置中的滤色基板时，按多个电极并列而成带状的方式来构图。另外，在要制造的滤色基板是用于具备TFT元件(Thin Film Transistor，薄膜晶体管)的有源矩阵型液晶显示装置中的滤色基板时，作为与各个单元区域对应的面状电极来对其构图。
此时，在显示区域内，由于层厚调整层的厚层部及薄层部边界的台阶沿垂直方向来形成，因而该台阶部分的扫描电极易于发生形成不佳，但是因为在显示区域外的层厚调整层上形成缓和部，可以形成为，使一个像素内的反射区域及透射区域的扫描电极在缓和部上可靠地连接，所以能够确保电导通性。因而，可以制造既防止因断线等而产生的工作不佳的发生、同时减小了显示不佳区域面积的液晶显示装置。
接下来，如图16(e)所示，通过在形成有透明电极33的基板上，对每个单元区域形成由聚酰亚胺树脂等构成的取向膜45，就可以制造滤色基板30。
2.元件基板的制造工序
(1)元件第1电极的形成
元件基板60，首先如图17(a)所示，在由玻璃基板构成的基体61之上形成元件第1电极71。该元件第1电极71例如由钽合金来构成，可以采用溅射法或电子束镀敷法来形成。此时，从可以使元件第1电极71对第2玻璃基板61的紧密粘接力得到显著提高，并且可以有效抑制杂质从第2玻璃基板61向元件第1电极71的扩散的方面考虑，优选的还是，在形成元件第1电极71之前，在基体61之上形成由氧化钽(Ta2O5)等构成的绝缘膜。
此时，优选的是，为了使元件第1电极在TFD元件中共用，而跨相邻的二个像素地来形成，该TFD元件与沿着数据线相邻或者沿着数据线按斜向相邻的二个像素电极对应。其原因为，因为能够减小TFD元件的形成区域，另一方面增大像素电极，所以可以有效制造将各个像素面积扩大并使对比度等显示特性得到提高的液晶显示装置。
接下来，如图17(b)所示，通过采用阳极氧化法对元件第1电极71的表面进行氧化，来形成氧化膜72。更为具体而言，可以在将形成了元件第1电极71的基板浸渍到柠檬酸溶液等电解液中之后，对该电解液和元件第1电极71之间施加预定电压，对元件第1电极71的表面进行氧化。
(2)元件第2电极及数据线的形成
接下来，再次采用溅射法等，在包括元件第1电极71的基板上整面形成金属膜，并且采用光刻法对其构图，借此如图17(c)所示，形成元件第2电极73、74及数据线65。这样一来，就可以形成TFD元件69及数据线65。
(3)像素电极的形成
接下来，如图17(d)所示，在采用溅射法等形成由ITO(氧化铟锡等)等的透明导电体材料构成的透明导电层之后，使用光刻法来构图，借此形成与TFD元件69进行电连接的像素电极63。
(4)取向膜的形成
接下来，如图17(e)所示，在形成有像素电极63等的元件基板60上，形成由聚酰亚胺树脂等构成的取向膜75，借此就可以制造元件基板60。
3.粘贴工序
接下来，虽然未图示，但是在滤色基板30或元件基板60的任一个上，在包围显示区域地层叠密封材料23之后，通过使另一个基板重合并进行加热压接，来粘贴滤色基板30及元件基板60，形成单元结构。
4.组装工序等
接着，在对单元内，从设置于密封材料一部分上的注入口注入液晶材料之后，利用封闭材料等来封闭。
进而，在滤色基板30及元件基板60各自的外面诸如配置相位差板(1/4λ板)及偏振板，以及安装驱动器，并且和背光源等一并组装入壳体内，借此就可以制造液晶显示装置。
[第3实施方式]
第3实施方式是一种半透射反射型液晶显示装置，其具备：第1基板，具备第1电极；第2基板，具备第2电极；以及液晶材料，夹持于该第1基板及第2基板之间；并且具备包括多个像素的显示区域，该多个像素分别具有反射区域及透射区域。
而且，其特征为，反射区域及透射区域在显示区域内跨按一方向排列的像素所构成的像素列，而配置成带状，
第1基板为了调整反射区域及透射区域上的延迟，具备层厚调整层，该层厚调整层具有：厚层部，配置于反射区域上；和薄层部，配置于透射区域上；包括将显示区域内的厚层部及薄层部边界的倾斜面沿垂直方向形成的台阶部分，
第1电极在层厚调整层的上层跨过像素列来形成，并且分别延伸设置到显示区域外，
跨至少相同像素列的反射区域及透射区域上所形成的第1电极的、延伸设置到显示区域外的部位地，配置导通部件。
下面，边适当参照图18～图19，边对于本发明第3实施方式的液晶显示装置，以与第1实施方式的液晶显示装置不同的滤色基板的结构为中心进行说明，并且对于共同之处，适当省略其说明。
1.滤色基板(第1基板)
(1)基本结构
本实施方式的液晶显示装置10中所使用的滤色基板30的结构，基本上如图18所示，和第1实施方式的滤色基板相同，在由玻璃基板等构成的基体31之上依次叠层光反射膜35、遮光膜39、着色层37、层厚调整层40及扫描电极33。另外，在扫描电极33之上具备用来控制液晶材料取向性的取向膜45，并且在与形成有扫描电极33等的面相反侧的面上配置相位差板(1/4波长板)47及偏振板49，以便可以看到清晰的图像显示。
另外，对于光反射膜35、遮光膜39、着色层37及取向膜45等，因为可以与第1实施方式的液晶显示装置中所使用的滤色基板相同，所以此处的说明予以省略。
(2)层厚调整层
另外，在本实施方式所涉及的液晶显示装置10中，在滤色基板30之上形成层厚调整层40，该层厚调整层40由丙烯酸树脂或环氧树脂等的感光性树脂材料构成。而且，其特征为，该层厚调整层40具有：厚层部40a，配置于反射区域上；和薄层部40b，配置于透射区域上；在显示区域A内，具备将厚层部40a及薄层部40b的边界台阶上的倾斜面17沿垂直方向形成的台阶部分。
也就是说，为了使反射区域及透射区域上的延迟得以最佳化，在使液晶材料层中的反射区域层厚相对变薄并且使透射区域的层厚加厚的多重间隙结构的液晶显示装置中，其构成为，在显示区域内，减小从对基板面垂直方向看到的、层厚调整层的厚层部和薄层部之间的边界的台阶的宽度。
因而，如同第1实施方式所说明的那样，可以形成下述液晶显示装置，该液晶显示装置可以减小因台阶引起的显示不佳区域的面积，能够使反射区域及透射区域各自上的延迟得以最佳化，并且显示特性优良。
但是，在沿垂直方向形成厚层部及薄层部的边界的台阶上的倾斜面的情况下，在制造阶段中，在该层厚调整层上形成有扫描电极时，有时不能在该台阶部分上均匀形成电极。此时，一个像素的反射区域的扫描电极和透射区域的扫描电极之间的电导通性下降，成为工作不佳的原因。
因而，在本实施方式的液晶显示装置中，和第1实施方式中的缓和部不同，如下所述，在显示区域外使用导通部件，来确保一个像素的反射区域及透射区域的扫描电极的电导通性。
(3)扫描电极及导通部件
另外，在层厚调整层40之上形成由ITO(氧化铟锡)等透明导电体构成的扫描电极33。该扫描电极33对按一方向排列的像素所构成的每个像素列，按多个透明电极并列的带状来构成。
在此，在本实施方式的液晶显示装置中，在显示区域内，对应于反射区域和透射区域所形成的层厚调整层的厚层部及薄层部的边界台阶上的倾斜面沿垂直方向来形成。因而，有时一个像素内的反射区域的扫描电极和透射区域的扫描电极成为非连续状态。
因此，在本实施方式的液晶显示装置中，一个像素的厚层部40a之上的扫描电极33a及薄层部40b之上的扫描电极33b延伸设置到显示区域A外，并使用导通部件140，来导通至少相同像素列的反射区域及透射区域上所形成的扫描电极33，上述导通部件140跨延伸设置到显示区域A外的部位的扫描电极33地进行配置。因而，即使在一个像素内反射区域的扫描电极33a和透射区域的扫描电极33b不连续时，也可以确保电导通性，可以在一个像素内的反射区域及透射区域的各自上施加电压。
因而，在显示区域内的层厚调整层上，尽管在包括沿垂直方向所形成的倾斜面的台阶部分上形成扫描电极，仍可以防止因断线等而产生的工作不佳的发生。
作为这种导通部件的示例如图18所示，可以使用下述导电性材料140，该导电性材料的膜厚大于等于厚层部40a及薄层部40b边界台阶的高低差。也就是说，通过以跨层厚调整层40的厚层部40a之上的扫描电极33a及薄层部40b之上的扫描电极33b的延伸设置到显示区域外的部位的方式，配置或形成预定膜厚的导电性材料140，可以不用考虑该台阶部分上的断线和形成不佳，可以确保厚层部40a之上的扫描电极33a和薄层部40b之上的扫描电极33b的电导通性。
作为该导电性材料，例如可举出Al(铝)、Ta(钽)、Cr(铬)、Ag(银)、ITO(氧化铟锡)及IZO(氧化铟锌)等。但是，并不限定为这些，只要是以不给液晶面板的单元间隙带来影响的程度可控制膜厚、厚度而配置或形成于基板上的物质，就可以适当使用。
此外，对于在显示区域的两侧取得扫描电极两个端部导通的方面，以及在显示区域内的与厚层部及薄层部的边界的台阶(第1倾斜面)相当的部位上设置缝隙的方面，则可以和第1实施方式相同。
[第4实施方式]
本发明的第4实施方式是一种第3实施方式的液晶显示装置的制造方法，其特征为，包括：
在第1基板上形成感光性树脂材料层的工序；
为了调整反射区域及透射区域上的延迟，形成层厚调整层的工序，该层厚调整层在反射区域上配置厚层部，在透射区域上配置薄层部，在显示区域内具有将厚层部及薄层部的边界的倾斜面沿垂直方向形成的台阶部分；
在层厚调整层的上层，跨过像素列并且延伸设置到显示区域外地形成第1电极的工序；以及
跨至少相同像素列的反射区域及透射区域上所形成的第1电极的、延伸设置到显示区域外的部位地，配置导通部件的工序。
下面，作为第4实施方式所涉及的液晶显示装置的制造方法一个示例，以与第2实施方式不同的滤色基板制造工序为中心，边适当参照图19边进行说明，并且对于同样的方面，适当省略其说明。
1.滤色基板(第1基板)的制造工序
(1)光反射膜、着色层及遮光膜的形成
首先，如图19(a)所示，采用和第2实施方式相同的方法，在玻璃基板31上形成光反射膜35、着色层37及遮光膜39。
(2)层厚调整层的形成
接下来，如图19(b)所示，和第2实施方式相同，在进行多重曝光或者半色调曝光之后，通过使用显影液进行显影，来形成包括与反射区域对应的厚层部40a及与透射区域对应的薄层部40b的层厚调整层40，上述多重曝光使用不同图形的多个光掩模，上述半色调曝光使用部分地使光的透射率不同的半色调掩模。
而且，由于沿垂直方向形成厚层部和薄层部的边界台阶上的倾斜面，因而可以减小从对基板面垂直方向看到的该台阶部分的宽度，减小显示不佳区域的面积。因而，在所制造的液晶显示装置中，可以使对比度等的显示特性得到提高。
(3)扫描电极及导通部件的形成
接下来，如图19(c)所示，和第2实施方式相同，在层厚调整层的厚层部40a之上及薄层部40b之上形成扫描电极33。
此后，如图19(d)所示，在显示区域A外配置作为导通部件的导电性材料140，以使得厚层部40a之上的扫描电极33a和薄层部40b之上的扫描电极33b，在显示区域外电导通。例如，在作为导通部件使用铝膜时，可以与上述反射膜的形成方法同样地来形成。
2.其他的工序
对于其他的元件基板的制造工序、粘贴工序及液晶材料注入工序等，因为可以和第2实施方式相同，所以省略此处的说明。
[第5实施方式]
第5实施方式是将第1实施方式的半透射反射型液晶显示装置用于作为开关元件采用TFT元件的有源矩阵方式的液晶显示装置中的示例，该TFT元件是一种三端子型有源元件。
图20(a)表示第5实施方式所涉及的液晶显示装置210的剖面图，图20(b)表示液晶显示装置210的平面图。如该图20(a)所示，液晶显示装置210，其对向基板(第1基板)230和元件基板(第2基板)260在它们的周边部分上利用密封材料(未图示)来粘贴，并且对由对向基板230、元件基板260及密封材料包围的间隙内封入液晶材料221来形成。
另外，对向基板230由玻璃、塑料等形成，并且在该对向基板230之上具备：滤色器也就是着色层237；对向电极233，形成于该着色层237之上；以及取向膜245，形成于该对向电极233之上。另外，在反射区域R的着色层237和对向电极233之间，具备用来使延迟得以最佳化的层厚调整层240。
在此，对向电极233是一种采用ITO等形成于对向基板230表面的整个区域上的面状电极。另外，着色层237在与元件基板260侧的像素电极263对向的位置上，具备R(红)、G(绿)、B(蓝)或者C(青绿色)、M(深红色)、Y(黄色)等之类的各色任一种的滤色元件。而且，在着色层237的附近且与像素电极263不对向的位置上，设置黑色掩模或者黑色矩阵也就是遮光膜239。
另外，与对向基板230对向的元件基板260由玻璃、塑料等形成，并且在该元件基板260之上具备：作为有源元件的TFT元件269，作为开关元件来发挥作用；和像素电极263，夹着透明的绝缘膜280地形成于TFT元件269的上层。
在此，像素电极263在反射区域R上兼作用来进行反射显示的光反射膜295(263a)来形成，并且在透射区域T上利用ITO等作为透明电极263b来形成。另外，作为像素电极263a的光反射膜295，例如由Al(铝)、Ag(银)等之类的光反射性材料来形成。而且，在像素电极263之上形成取向膜285，并且对该取向膜285实施作为取向处理的磨擦处理。
另外，在对向基板230的外侧(也就是，图20(a)的上侧)表面上形成相位差板247，并且在其之上形成偏振板249。同样，在元件基板260的外侧(也就是，图20(a)的下侧)表面上形成相位差板287，并且在其之下形成偏振板289。进而，在元件基板260的下方配置背光源组件(未图示)。
另外，TFT元件269具有：栅电极271，形成于元件基板260上；栅绝缘膜272，在该栅电极271之上形成在元件基板260的整个区域；半导体层291，夹着该栅绝缘膜272形成于栅电极271的上方位置上；源电极273，在该半导体层291的一侧夹置接触电极277来形成；以及漏电极266，在半导体层291的另一侧介由接触电极277来形成。
另外，栅电极271从栅总线布线(未图示)延伸，源电极273从源总线布线(未图示)延伸。另外，栅总线布线沿元件基板260的横向延伸并向纵向以相等间隔平行地形成多根，并且源总线布线夹着栅绝缘膜272、和栅总线布线交叉地向纵向延伸，并向横向以相等间隔平行地形成多根。
该栅总线布线与液晶驱动用IC(未图示)连接，例如作为扫描线起作用，另一方面源总线布线与别的驱动用IC(未图示)连接，例如作为信号线起作用。
另外，像素电极263形成于，由相互交叉的栅总线布线和源总线布线所划分的方形区域之中的除与TFT元件269对应的部分之外的区域上。
在此，栅总线布线及栅电极例如可以由铬、钽等来形成。另外，栅绝缘膜272例如由氮化硅(SiNx)、氧化硅(SiOx)等来形成。半导体层291例如可以由掺杂a-Si、多晶硅、CdSe等来形成。再者，接触电极277例如可以由a-Si等来形成，源电极273及与其成一体的源总线布线以及漏电极266例如可以采用钛、钼、铝等来形成。
另外，有机绝缘膜280覆盖栅总线布线、源总线布线及TFT元件269，形成在元件基板260上的整个区域。但是，在有机绝缘膜280的与漏电极266对应的部分上形成接触孔283，并且在该接触孔283的部位处进行像素电极263和TFT元件269的漏电极266之间的导通。
另外，该有机绝缘膜280，在与反射区域R对应的区域上，作为散乱形状具有凹凸图形，该凹凸图形由突出部和低洼部的规则或不规则的重复图形来形成。其结果为，导致在有机绝缘膜280上叠层的光反射膜295(263a)，也同样具有由凹凸图形形成的光反射图形。但是，该凹凸图形未形成到透射区域T上。
在具有上面那种结构的液晶显示装置210中，当进行反射显示时，太阳光、室内照明光等的外部光从对向基板230方入射到液晶显示装置210中，并且通过着色层237和液晶材料221等到达光反射膜295上，并在此进行反射再次通过液晶材料221和着色层237等，从液晶显示装置210向外部射出，借此来进行反射显示。
另一方面，当进行透射显示时，背光源组件(未图示)被点亮，并且从背光源组件所出射的光通过透光性的透明电极263b部分，并通过着色层237、液晶材料221等向液晶显示面板220的外部射出，借此来进行透射显示。
另外，本实施方式的液晶显示装置，反射区域及透射区域在显示区域内跨按一方向所排列的像素构成的像素列而配置成带状。此外，如图20(a)所示地，在对向基板230上，为了调整反射区域及透射区域中的延迟而具有层厚调整层240，该层厚调整层具有：厚层部240a，配置于反射区域上；和薄层部240b，配置于透射区域上。
而且，层厚调整层240在显示区域内，通过具有将厚层部240a和薄层部240b的边界台阶上的倾斜面217沿垂直方向形成的台阶部分，可以减小从对基板面垂直方向看时的该台阶部分的宽度，而减小显示不佳区域的面积。
另外，在显示区域外，如图21(a)～(b)所示，由于具有缓和部211，用来使厚层部及薄层部边界的台阶缓和，并且在该缓和部211上，厚层部上的电极233a和薄层部上的电极233b进行连接，因而确保了电导通性，或者，将厚层部上的电极和薄层部上的电极延伸设置到显示区域外，并跨那些电极地配置导通部件，来确保电导通性，后述情况未图示。因而，即使在显示区域内，使厚层部及薄层部边界的台阶较陡，有发生电极形成不佳的危险，也由于在显示区域外，可以确保电极的电导通性，因而能够防止因断线等而产生的工作不佳的发生。
因而，可以形成下述液晶显示装置，该液晶显示装置可以减小显示不佳区域的面积，并谋求延迟的最佳化，并且显示特性优良。
图21(a)～(b)表示如上所构成的对向基板的平面图及剖面图。本实施方式的液晶显示装置中的对向基板230，其面状电极233配置于上述层厚调整层240上，在显示区域内，有时在层厚调整层240的厚层部和薄层部的边界的台阶上发生断线等的形成不佳。但是，在显示区域外，由于利用上述缓和部211、导通部件，可以确保面状电极233整体的电导通性，因而可以防止因断线等而产生的工作不佳的发生，并减小因厚层部及薄层部的边界的台阶引起的显示不佳区域的面积。
因而，即使在具备TFT元件的液晶显示装置中，也可以使显示特性得到提高。
[第6实施方式]
作为本发明所涉及的第6实施方式，对于具备第1、第3及第5实施方式之中的任一种液晶显示装置的电子设备，进行具体说明。
图22是表示本实施方式的电子设备整体结构的概略结构图。该电子设备具有：液晶面板20，具备于液晶显示装置中；和控制机构200，用来对电子设备进行控制。另外，在图22中，将液晶面板20概念性地分成面板结构体20a和由半导体元件(IC)等构成的驱动电路20b，进行说明。另外，优选的是，控制机构200具有显示信息输出源201、显示处理电路202、电源电路203及定时发生器204。
另外，优选的是，显示信息输出源201具备：存储器，由ROM(ReadOnly Memory，只读存储器)或RAM(Random Access Memory，随机存取存储器)等构成；存储组件，由磁记录盘或光记录盘等构成；以及调谐电路，用来对数字图像信号进行调谐输出；其构成为，根据由定时发生器204所生成的各种时钟信号，以预定格式的图像信号等形式将显示信息供给到显示处理电路202。
另外，优选的是，显示处理电路202具备串行-并行转换电路、放大反相电路、旋转电路、灰度系数电路及箝位电路等众所周知的各种电路，并且执行所输入的显示信息的处理，将该图像信息和时钟信号CLK一起供给驱动电路20b。再者，优选的是，驱动电路20b包括第1电极驱动电路、第2电极驱动电路及检查电路。另外，电源电路203具有向上述各构成要件分别供给预定电压的功能。
而且，由于只要是本实施方式的电子设备，就具备下述液晶显示装置，因而能够实现显示特性优良的图像显示，上述液晶显示装置，在显示区域内沿垂直方向形成用来构成多重间隙的厚层部及薄层部的边界台阶上的倾斜面，并且在显示区域外，确保厚层部及薄层部上的电极的电导通性。
根据本发明，由于在显示区域内，沿垂直方向形成用来构成多重间隙的厚层部及薄层部的边界台阶上的倾斜面，并且在显示区域外，确保厚层部及薄层部上的电极的电导通性，因而可以形成下述液晶显示装置，该液晶显示装置可以减少工作不佳，并减小显示不佳区域的面积，使显示特性得到提高。因而，以液晶显示装置和电子设备如便携式电话机和个人计算机等为首，可以使用于液晶电视、取景器式或监视直观式的磁带录像机、汽车导航装置、寻呼机、电子记事本、台式电子计算器、文字处理机、工作站、电视电话、POS终端及具备触摸面板的电子设备等中。

Claims (11)

1. 一种半透射反射型的液晶显示装置，其具备：第1基板，其具备第1电极；第2基板，其具备第2电极；以及液晶材料，其夹持于该第1基板和第2基板之间；并且具备包括多个像素的显示区域，该多个像素分别具有反射区域及透射区域，该液晶显示装置的特征为：
上述反射区域及透射区域，在上述显示区域内，跨按一方向排列的上述像素所构成的像素列，配置成带状，
上述第1基板为了调整上述反射区域及透射区域中的延迟，具备层厚调整层，该层厚调整层，具有：厚层部，其配置于上述反射区域中；和薄层部，其配置于上述透射区域中；其在上述显示区域内，具有将上述厚层部及薄层部的边界的倾斜面沿垂直方向形成的台阶部分，并且在上述显示区域外，具有缓和部，该缓和部用来使上述厚层部及薄层部的边界的台阶缓和，
上述第1电极，在上述层厚调整层的上层，跨上述像素列地形成，并且分别延伸设置到上述显示区域外，至少相同的上述像素列的反射区域及透射区域中所形成的第1电极在上述缓和部上连接。
2. 根据权利要求1所述的液晶显示装置，其特征为：
在将上述显示区域内的倾斜面作为第1倾斜面时，上述缓和部，包括比上述第1倾斜面和基板面所成的角度平缓的第2倾斜面。
3. 根据权利要求1所述的液晶显示装置，其特征为：
上述缓和部包括连接上述厚层部及薄层部的多个台阶。
4. 一种半透射反射型的液晶显示装置，其具备：第1基板，其具备第1电极；第2基板，其具备第2电极；以及液晶材料，其夹持于该第1基板和第2基板之间；并且具备包括多个像素的显示区域，该多个像素分别具有反射区域及透射区域，该液晶显示装置的特征为：
上述反射区域及透射区域，在上述显示区域内，跨按一方向排列的上述像素所构成的像素列，配置成带状，
上述第1基板为了调整上述反射区域及透射区域中的延迟，具备层厚调整层，该层厚调整层，具有：厚层部，其配置于上述反射区域中；和薄层部，其配置于上述透射区域中；其包括，将上述显示区域内的上述厚层部及薄层部的边界的倾斜面沿垂直方向形成的台阶部分，
上述第1电极，在上述层厚调整层的上层，跨上述像素列地形成，并且分别延伸设置到上述显示区域外，
跨至少相同的上述像素列的反射区域及透射区域中所形成的上述第1电极的、延伸设置到上述显示区域外的部位地，配置有导通部件。
5. 根据权利要求1～4中任一项所述的液晶显示装置，其特征为：
上述显示区域内的上述倾斜面和基板面所成的角度，为60～90°范围内的值。
6. 根据权利要求5所述的液晶显示装置，其特征为：
上述反射区域及透射区域的第1电极，在上述显示区域的两侧导通。
7. 根据权利要求6所述的液晶显示装置，其特征为：
在上述第1电极上，在与上述像素内的上述台阶部分相当的部位上设置有缝隙。
8. 根据权利要求1～4中任一项所述的液晶显示装置，其特征为：
上述第2基板是一种具备TFD元件或TFT元件的元件基板。
9. 一种液晶显示装置的制造方法，该液晶显示装置，具备：第1基板，其具备第1电极；第2基板，其具备第2电极；以及液晶材料，其夹持于该第1基板和第2基板之间；并且具备包括多个像素的显示区域，该多个像素分别具有反射区域及透射区域；上述反射区域及透射区域，在上述显示区域内，跨按一方向排列的上述像素所构成的像素列而配置成带状，该制造方法的特征为，
包括：
在上述第1基板之上形成感光性树脂材料层的工序；
为了调整上述反射区域及透射区域中的延迟，形成层厚调整层的工序，该层厚调整层，在上述反射区域中配置厚层部，在上述透射区域中配置薄层部，在上述显示区域内，具有将上述厚层部及薄层部的边界的倾斜面沿垂直方向形成的台阶部分，并且在上述显示区域外具有缓和部，该缓和部用来使上述厚层部及薄层部的边界的台阶缓和；以及
在上述层厚调整层的上层形成第1电极的工序，以便至少相同的上述像素列的反射区域及透射区域中所形成的该反射区域及透射区域中的第1电极，在上述缓和部上连接，该第1电极跨上述像素列、并且延伸设置到上述显示区域外地进行配置。
10. 一种液晶显示装置的制造方法，该液晶显示装置，具备：第1基板，其具备第1电极；第2基板，其具备第2电极；以及液晶材料，其夹持于该第1基板和第2基板之间；并且具备包括多个像素的显示区域，该多个像素分别具有反射区域及透射区域；上述反射区域及透射区域，在上述显示区域内，跨按一方向排列的上述像素所构成的像素列而配置成带状，该制造方法的特征为，
包括：
在上述第1基板之上形成感光性树脂材料层的工序；
为了调整上述反射区域及透射区域中的延迟，形成层厚调整层的工序，该层厚调整层，在上述反射区域中配置有厚层部，在上述透射区域中配置有薄层部，在上述显示区域内，具有将上述厚层部及薄层部的边界的倾斜面沿垂直方向形成的台阶部分；
在上述层厚调整层的上层，跨上述像素列、并且延伸设置到上述显示区域外地，形成上述第1电极的工序；以及
跨至少相同的上述像素列的反射区域及透射区域中所形成的上述第1电极的、延伸设置到上述显示区域外的部位地，配置导通部件的工序。
11. 一种电子设备，其特征为：
具备权利要求1～4中所述的任一种液晶显示装置。
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